專利名稱：一種光柵尺輥壓印生產(chǎn)線的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于輥壓印微納復制技術領域，特別涉及一種制造機床用長光柵尺的輥壓印成型生產(chǎn)線。該上產(chǎn)線可以連續(xù)、高效、批量制造光柵尺。
背景技術：
精密光柵作為高檔數(shù)控機床的位置檢測元件對數(shù)控機床的精度有著至關重要的影響。是精密、超精密高檔數(shù)控機床的關鍵基礎性功能部件。光柵的制造方法主要有刻劃機刻劃方法、光刻機光刻方法等?？虅潤C刻劃方法制 造光柵效率較低，并且對環(huán)境要求高，成本高，不能連續(xù)生產(chǎn)，且分辨率有限。光刻機光刻方法的分辨率比刻劃機刻劃方法高，同樣存在上述缺點。具體來講，目前，國際上多采用照相接觸復制方法制作長光柵尺。即將表面涂有光刻膠的工件放在光柵尺曝光機上，再將光柵母版放在工件上進行接觸式曝光，然后通過顯影、定影、染色、烘干、鍍膜和去膠等工序最后復制出長光柵尺。這種制造方法對于環(huán)境要求極其苛刻，導致制造成本較高且制造速度較低。作為一種新型的集成電路制造技術，壓印光刻技術將傳統(tǒng)的模具復型原理應用到微觀制造領域，自1995年Stephen Y Chou提出以來，便以其高分辨率、高效率、低成本、環(huán)保性好、工藝過程簡單和非常大的上升空間引起了各國研究人員和許多公司的廣泛關注。壓印光刻技術作為典型的微壓印復型技術在近些年以來得到了迅猛的發(fā)展，并于2005年年底被國際半導體技術藍圖機構規(guī)劃為下一代16nm節(jié)點光刻技術的代表之一。微壓印復型技術是一種低溫、常氣壓、適合于大面積基材上生成微納米級尺度特征結構的壓印方法，是制造大面積微納米結構的并行制造技術。特別是輥壓印技術是能將輥壓模具表面的功能性微結構連續(xù)地、精確地復型在基底上，可滿足連續(xù)大幅面、高產(chǎn)能、低成本的要求。目前輥壓印技術在以大面積為特征的宏電子系統(tǒng)領域已開始展現(xiàn)了嶄新的應用潛力，并為機床測量用光柵微結構的制造提供了一種新的思路。輥壓印技術可通過對輥壓母光柵模具高精度連續(xù)回轉運動的精確控制，實現(xiàn)超長、高精度、高線數(shù)光柵功能性微結構的制造。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術的缺點，提供一種光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線結構簡單，并且采用多個工位并列設置，能夠有效提高生產(chǎn)效率。本實用新型的目的是通過以下技術方案來解決的這種光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，包括清洗機、蒸鍍機、分條機構、壓印室、輥壓印壓紋機構和送出機構,所述清洗機的出口連接蒸鍍機的進口，所述蒸鍍機的出口連接分條機構的進口，所述分條機構連接壓印室，所述壓印室的內(nèi)設置有多個輥壓印壓紋機構，所述輥壓印壓紋機構的出料口連接送出機構。[0011]上述分條機構為半扇形，所述壓印室為安裝在分條機構的半扇形外緣的環(huán)形結構，在壓印室內(nèi)均勻分布有多個輥壓印壓紋機構，各輥壓印壓紋機構的進口連接至半扇形分條機構的外周緣上。上述清洗機由清洗機清洗機構、清洗機干燥機構和清洗機次真空室裝配組成。本實用新型的光柵尺輥壓印生產(chǎn)線并且采用清洗機、蒸鍍機、分條機構、壓印室、輥壓印壓紋機構和送出機構一體式安裝設置，并且輥壓印壓紋機構采用多工位并聯(lián)設置在壓印室內(nèi)，能夠提高生產(chǎn)效率。

圖I為本實用新型的結構示意圖；圖2為本實用新型拆除壓印室04后的結構示意圖。其中0 :光柵尺基底；01 :清洗機；01_1 :清洗機清洗機構；01_2 :清洗機干燥機構；01-3 :清洗機次真空室；02 :蒸鍍機；03 :分條機構；04 :壓印室；05 :輥壓印壓紋機構；06 :送出機構；07 :成品光柵尺。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型做進一步詳細描述參見圖I和圖2，本實用新型的光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，包括清洗機01、蒸鍍機02、分條機構03、壓印室04、輥壓印壓紋機構05和送出機構06。所述清洗機01的出口連接蒸鍍機02的進口，蒸鍍機02的出口連接分條機構03的進口，分條機構03連接壓印室04，壓印室04的內(nèi)設置有多個輥壓印壓紋機構05，輥壓印壓紋機構05的出料口連接送出機構06。在本實用新型的最佳實施例中,所述分條機構03為半扇形,壓印室04為安裝在分條機構03的半扇形外緣的環(huán)形結構,在壓印室04內(nèi)均勻分布有多個棍壓印壓紋機構05,各輥壓印壓紋機構05的進口連接至半扇形分條機構03的外周緣上。本實用新型在工作時，光柵尺基底O由送入機構01-04清洗機清洗機構01-1，清洗機01主要負責傳送和清洗光柵尺基底并為后續(xù)工序提供前期處理。清洗機清洗機構01-1采用對應的清洗液負責清洗用特定材料制作的光柵尺基底，清洗液可以循環(huán)使用，并采用相關環(huán)保措施保證排放符合國家標準。清洗機干燥機構01-2主要是用來對剛清洗過的光柵尺基底進行干燥并保證光柵尺基底具有一定的溫度。清洗機次真空室01-3負責提供特定的次真空環(huán)境，為蒸鍍做前期準備。蒸鍍機02主要用來將特定材料，如銅或鋁等在真空環(huán)境中加熱并鍍到光柵尺基底上，即使光柵尺基底上表面形成特定材料薄膜。完成蒸鍍后將鍍有薄膜的光柵尺基底傳送到分條機構。分條機構03主要用來將批量蒸鍍后的光柵尺基底分開，各自傳送到相應的壓紋機構處。壓印室04用來提供壓印時所必須的溫度、適度、氣壓等條件。輥壓印壓紋機構05用來復刻輥子型模具上的圖形到蒸鍍后的光柵尺基底上。送出機構06用來將成品光柵尺07傳送到相應工位。
權利要求1.一種光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，包括清洗機(01)、蒸鍍機(02)、分條機構(03)、壓印室(04)、輥壓印壓紋機構(05)和送出機構(06)，其特征在于，所述清洗機(01)的出口連接蒸鍍機(02)的進ロ，所述蒸鍍機(02)的出口連接分條機構(03)的進ロ，所述分條機構(03)連接壓印室(04)，所述壓印室(04)的內(nèi)設置有多個輥壓印壓紋機構(05)，所述輥壓印壓紋機構(05)的出料ロ連接送出機構(06)。
2.根據(jù)權利要求I所述的光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，其特征在于，所述分條機構(03)為半扇形，所述壓印室(04)為安裝在分條機構(03)的半扇形外緣的環(huán)形結構,在壓印室(04)內(nèi)均勻分布有多個輥壓印壓紋機構(05)，各輥壓印壓紋機構(05)的進ロ連接至半扇形分條機構(03)的外周緣上。
3.根據(jù)權利要求I所述的光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，其特征在于，所述清洗機(01)由清洗機清洗機構(01-1)、清洗機干燥機構(01-2)和清洗機次真空室(01-3)裝配組成。
專利摘要本實用新型涉及一種光柵尺輥壓印生產(chǎn)線，包括清洗機、蒸鍍機、分條機構、壓印室、輥壓印壓紋機構和送出機構，所述清洗機的出口連接蒸鍍機的進口，所述蒸鍍機的出口連接分條機構的進口，所述分條機構連接壓印室，所述壓印室的內(nèi)設置有多個輥壓印壓紋機構，所述輥壓印壓紋機構的出料口連接送出機構。本實用新型的光柵尺輥壓印生產(chǎn)線并且采用清洗機、蒸鍍機、分條機構、壓印室、輥壓印壓紋機構和送出機構一體式安裝設置，并且輥壓印壓紋機構采用多工位并聯(lián)設置在壓印室內(nèi)，能夠提高生產(chǎn)效率。
文檔編號G01B11/02GK202421718SQ20112056008
公開日2012年9月5日 申請日期2011年12月28日 優(yōu)先權日2011年12月28日
發(fā)明者丁玉成, 于皓瑜, 劉紅忠, 盧秉恒, 史永勝, 尹磊, 蔣維濤 申請人:西安交通大學