專利名稱：便攜式分析儀以及xrf分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及ー種便攜式X射線熒光(XFR)分析儀。
背景技術(shù)：
便攜式XRF分析儀用于檢測(cè)存在于試樣內(nèi)的元素。典型的便攜式XRF分析儀包括用于將X射線引導(dǎo)至試樣的X射線源以及響應(yīng)于從該試樣發(fā)射的X射線的檢測(cè)器。分析儀處理該檢測(cè)器所產(chǎn)生的輸出信號(hào)，并根據(jù)對(duì)檢測(cè)到的X射線光子數(shù)的計(jì)數(shù)將檢測(cè)到的X射線光子的能量水平分割成數(shù)個(gè)能量子區(qū)間，以產(chǎn)生描述試樣的X射線光譜的圖。不同能量水平上的強(qiáng)度與不同元素的含量相對(duì)應(yīng)。便攜式XRF分析儀是已知的。參見(jiàn)，例如申請(qǐng)人的共同未決申請(qǐng)2006年10月17日提交的題為“XRF System with Novel Sample Bottle”的美國(guó)專利申請(qǐng)11/582，038以 及2006年10月24日提交的題為“Fuel Analysis System”的美國(guó)專利申請(qǐng)11/585，367，上述申請(qǐng)具有ー個(gè)或多個(gè)共同發(fā)明人并且具有相同的受讓人，在此通過(guò)引用將其合并到本說(shuō)明書(shū)中。同樣參見(jiàn)美國(guó)專利6，501，825,6, 909，770,6, 477，227以及6，850，592，在此通過(guò)引用將這些專利均合并到本說(shuō)明書(shū)中。操作員可以使用便攜式XRF分析儀檢查試樣內(nèi)是否存在特定元素，并且可具體應(yīng)用在諸如合金、礦石和礦物分析、安全和執(zhí)法、環(huán)保應(yīng)用、藝術(shù)和歷史工作、生物醫(yī)學(xué)和制藥應(yīng)用以及エ藝化學(xué)等領(lǐng)域。便攜式XRF分析儀的另一關(guān)鍵用途是檢測(cè)玩具和衣料中是否存在美國(guó)消費(fèi)品安全委員會(huì)(CPSC)所列舉的諸如鉛等元素、以及檢測(cè)歐盟關(guān)于限制使用特定有害物質(zhì)(RoHs)指示所列舉的元素。該指示限制在制造電氣電子設(shè)備中使用諸如鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、鉻(Cr)和溴(Br)等特定有害物質(zhì)?，F(xiàn)有技術(shù)中，難以對(duì)由例如位于鈉(Na)和氯(Cl)之間的元素等的原子序數(shù)較低的元素的原子所發(fā)射的低能量X射線進(jìn)行分析。這是因?yàn)?，這些X射線的低能量通常被環(huán)境大氣(例如，空氣)或材料本身所吸收?？諝庵刑烊淮嬖诘臍逡卜浅８咝У匕l(fā)出熒光，并且產(chǎn)生了光譜范圍在與測(cè)量如S和Cl等的低原子序數(shù)元素中的某個(gè)元素時(shí)的光譜范圍相同的背景噪聲源。直到最近，為了精確地分析和檢測(cè)這些低原子序數(shù)元素，必須去除分析儀窗口和檢測(cè)器之間的空氣。這可通過(guò)創(chuàng)造真空或者通過(guò)進(jìn)行氦氣凈化以利用氦氣代替分析儀窗口和檢測(cè)器之間的空氣來(lái)完成。真空或浄化條件防止低能量X射線被環(huán)境大氣吸收，并且提高XRF分析儀的靈敏度。參見(jiàn)美國(guó)專利公開(kāi)US2008/0152079A1和US2007/0269003，在此通過(guò)引用將其合并到本說(shuō)明書(shū)中。在US2007/0269003中，在真空室內(nèi)具有氣壓傳感器和溫度傳感器以確定該真空室內(nèi)的空氣密度。使用小型真空泵，并且基于真空室內(nèi)的不同氣壓來(lái)對(duì)讀數(shù)進(jìn)行校正。然而，近年來(lái)檢測(cè)器技術(shù)的改進(jìn)已允許對(duì)低原子序數(shù)元素進(jìn)行精確測(cè)量而無(wú)需真空或浄化條件，該檢測(cè)器技術(shù)的改進(jìn)包括在便攜式XRF裝置中使用硅漂移檢測(cè)器(SDD)。SDD技術(shù)通常能夠以10倍以上的速率進(jìn)行計(jì)數(shù)，并且具有較低的固有噪聲。這些檢測(cè)器的改進(jìn)消除了前面提到的空氣吸收問(wèn)題，因而允許在常溫常壓下、即無(wú)需真空或浄化條件的情況下更加有效地測(cè)量低原子序數(shù)元素。然而，即使采用SDD檢測(cè)器，使用去除中間空氣的浄化或真空條件的確提高了分析的質(zhì)量，這仍然是事實(shí)。一些便攜式XRF裝置制造商如今提供商用便攜式XRF裝置，以僅需試樣窗ロ與檢測(cè)器和/或X射線源之間的一般空氣環(huán)境來(lái)使用SDD檢測(cè)器技術(shù)測(cè)量低原子序數(shù)元素。

發(fā)明內(nèi)容
在常溫常壓下分析低原子序數(shù)元素的便攜式XRF分析應(yīng)用仍存在極大問(wèn)題。對(duì)于被測(cè)量的來(lái)自Na(Z = 11) Ti(Z = 22)的x射線，特別是對(duì)于能量非常低的諸如Mg、Al和Si等的重要合金元素，從試樣行進(jìn)至檢測(cè)器的X射線的數(shù)量基于環(huán)境氣壓而改變。這是因?yàn)椋h(huán)境氣壓越高意味著能夠吸收來(lái)自低原子序數(shù)元素的低能量X射線的空氣分子越多，反之亦然。所報(bào)告的低原子序數(shù)元素的含量與從試樣內(nèi)的各低原子序數(shù)元素發(fā)出并被檢測(cè)到的X射線的數(shù)量成比例。例如，所報(bào)告的Mg含量與從試樣檢測(cè)到的Mg X射線的數(shù)量成比例。氣壓相對(duì)于エ廠校準(zhǔn)時(shí)的氣壓升高意味著(將因氣壓相對(duì)于校準(zhǔn)時(shí)的氣壓較高而)檢測(cè)到較少的Mg X射線，反之亦然。這意味著對(duì)Mg的報(bào)告結(jié)果將依賴當(dāng)?shù)貧鈮憾淖?，由此造成?bào)告結(jié)果中的系統(tǒng)性誤差。
一般在特殊地理位置處(常見(jiàn)的是在エ廠中)對(duì)便攜式XRF單元進(jìn)行校準(zhǔn)，因而便攜式XRF単元僅經(jīng)受微小的氣壓變化。然后，在環(huán)境氣壓發(fā)生變化的各種氣候和地形中使用上述便攜式XRF単元。在一些情況下，便攜式XRF単元被帶至山區(qū)環(huán)境氣壓相當(dāng)?shù)偷母吆０翁帯Ｔ谄渌闆r下，便攜式XRF単元被帶至礦場(chǎng)內(nèi)地下幾百或幾千英尺的位置處。在上述所有情況下，當(dāng)?shù)氐膶?shí)際氣壓相對(duì)于校準(zhǔn)時(shí)的氣壓可以有很大不同。即使例如低氣壓鋒面的緩和氣壓變化也將影響測(cè)量出的最低原子序數(shù)元素含量，這也是事實(shí)。便攜式XRF分析儀由于能夠現(xiàn)場(chǎng)快速提供精確的定量結(jié)果而被使用。期望操作員對(duì)因?yàn)樘鞖饣蚝i所引起的氣壓變化進(jìn)行手動(dòng)校正或再校準(zhǔn)根本不切實(shí)際。本發(fā)明的ー個(gè)目的是提供一種改進(jìn)的便攜式XRF分析儀，并且這種分析儀提供環(huán)境氣壓測(cè)量值并將其報(bào)告至XRF處理器以現(xiàn)場(chǎng)校正對(duì)低原子序數(shù)元素的結(jié)果，從而說(shuō)明海拔或當(dāng)?shù)貧鈮旱挠绊?。操作員無(wú)需由于氣壓對(duì)低原子序數(shù)元素的影響而當(dāng)?shù)貧鈮簵l件下進(jìn)行結(jié)果校正或便攜式XRF單元再校準(zhǔn)。在一個(gè)實(shí)施例中，本發(fā)明在某種程度上起因于以下領(lǐng)悟注意到既然在不利用真空或浄化條件的情況下采用SSD來(lái)測(cè)量低原子序數(shù)元素在商業(yè)上是可行的，那么ー種改進(jìn)的便攜式XRF分析儀通過(guò)使用便攜式氣壓計(jì)來(lái)自動(dòng)對(duì)對(duì)應(yīng)于這些元素的結(jié)果進(jìn)行校正以得到優(yōu)良的分析數(shù)據(jù)也是可行的。位于窗ロ后級(jí)的檢測(cè)器響應(yīng)于從試樣輻射的X射線。處理器，響應(yīng)于所述檢測(cè)器而分析被發(fā)射的X射線的光譜以檢測(cè)低原子序數(shù)元素，并響應(yīng)于用于檢測(cè)分析儀的氣壓變化的氣壓傳感器而自動(dòng)校正報(bào)告的結(jié)果?？梢詫⒅T如飛思卡爾半導(dǎo)體公司(Freescale Semiconductor)制造的型號(hào)為MPL115A等的非常小巧的低功率氣壓計(jì)安裝在便攜式XRF裝置內(nèi)。不論氣體類型或濕度如何，所述氣壓計(jì)測(cè)量氣壓值并將該值以數(shù)字形式報(bào)告至處理器。對(duì)于任何給定的測(cè)量，所述便攜式XRF裝置能夠使用任何時(shí)間在當(dāng)?shù)販y(cè)量出的氣壓和校準(zhǔn)時(shí)的測(cè)量氣壓，來(lái)對(duì)所測(cè)量出的低原子序數(shù)元素的強(qiáng)度進(jìn)行校正。因而，對(duì)于任何天氣或海抜，便攜式XRF裝置都可自動(dòng)校正被報(bào)告的低原子序數(shù)元素的含量。 在一個(gè)例子中，本發(fā)明的特征在于ー種便攜式分析儀，該便攜式分析儀包括X射線源，被配置為發(fā)射X射線至試樣；以及檢測(cè)器子系統(tǒng)，響應(yīng)于所述試樣放射出的X射線并且輸出所檢測(cè)到的不同能量水平的X射線的強(qiáng)度。配置氣壓測(cè)量裝置以測(cè)量環(huán)境氣壓。通常還包括溫度傳感器。處理子 系統(tǒng)響應(yīng)于所述檢測(cè)器子系統(tǒng)和所述氣壓測(cè)量裝置，并且被配置為基于所述檢測(cè)器子系統(tǒng)檢測(cè)到的能量水平對(duì)應(yīng)于至少ー種低原子序數(shù)元素的X射線的強(qiáng)度來(lái)計(jì)算所述元素在所述試樣內(nèi)的含量。所述處理子系統(tǒng)基于環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度來(lái)校正所述強(qiáng)度。檢測(cè)器子系統(tǒng)通常輸出在校準(zhǔn)氣壓P。下對(duì)應(yīng)于元素已知含量的強(qiáng)度I。然后，所述處理子系統(tǒng)在氣壓大于P。時(shí)提高強(qiáng)度，并在氣壓小于P。時(shí)降低強(qiáng)度。進(jìn)ー步被包括的可為存儲(chǔ)校準(zhǔn)數(shù)據(jù)(曲線或公式)，并且針對(duì)ー種低原子序數(shù)元素的所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)至少包括在已知?dú)鈮合聦?duì)應(yīng)于所述元素的已知含量的強(qiáng)度水平。然后，所述處理子系統(tǒng)基于所存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)來(lái)校正所述強(qiáng)度。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述檢測(cè)器子系統(tǒng)包括硅漂移檢測(cè)器并且所述氣壓測(cè)量裝置是氣壓計(jì)。還可以包括溫度傳感器以校正所述氣壓計(jì)輸出的氣壓值。所述處理子系統(tǒng)優(yōu)選地被配置為通過(guò)基于測(cè)量出的溫度和校準(zhǔn)溫度對(duì)測(cè)量出的氣壓進(jìn)行校正，來(lái)基于所述測(cè)量出的溫度對(duì)所述測(cè)量出的氣壓進(jìn)行校正；通過(guò)確定校正后的氣壓與校準(zhǔn)氣壓之間的差值并使用所述差值對(duì)所述強(qiáng)度進(jìn)行校正，來(lái)校正所述強(qiáng)度；并且確定作為常數(shù)與所述差值的函數(shù)的校正因子，其中，對(duì)于已知的激發(fā)能，每種元素的校正因子是可以通過(guò)經(jīng)驗(yàn)確定的。商用分析儀包括圍繞X射線源和檢測(cè)器子系統(tǒng)的殼體。所述殼體包括窗ロ，X射線穿過(guò)所述窗ロ到達(dá)試樣，并且來(lái)自試樣的X射線穿過(guò)所述窗ロ。氣壓測(cè)量裝置配置于所述殼體中。本發(fā)明的特征還在于ー種XRF分析方法，該XRF分析方法包括發(fā)射X射線至試樣；檢測(cè)所述試樣放射出的X射線；以及測(cè)量檢測(cè)到的具有不同能量水平的X射線的強(qiáng)度。對(duì)環(huán)境氣壓進(jìn)行測(cè)量?；谒鶛z測(cè)到的能量水平對(duì)應(yīng)于典型低原子序數(shù)元素的X射線的強(qiáng)度來(lái)自動(dòng)計(jì)算該元素在所述試樣中的含量。然而，在計(jì)算所述含量之前，基于所述環(huán)境氣壓來(lái)自動(dòng)對(duì)所述強(qiáng)度值進(jìn)行校正。對(duì)于在校準(zhǔn)氣壓P。下測(cè)量出的對(duì)應(yīng)ー種元素的已知含量的強(qiáng)度I，校正包括在氣壓大于P。時(shí)提高所述強(qiáng)度并且在氣壓小于P。時(shí)降低所述強(qiáng)度。所述方法還可以包括存儲(chǔ)校準(zhǔn)數(shù)據(jù)，其中針對(duì)ー種元素的所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)至少包括不同氣壓下對(duì)應(yīng)于所述元素的已知含量的強(qiáng)度水平。于是，校正所測(cè)量出的強(qiáng)度包括基于存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行校正。溫度信息能夠用來(lái)對(duì)測(cè)量出的氣壓進(jìn)行校正。本發(fā)明的特征還在于ー種XRF分析方法，該XRF分析方法包括在已知的校準(zhǔn)氣壓和校準(zhǔn)溫度下使用XRF分析儀以在特定元素的含量已知的校準(zhǔn)試樣中誘發(fā)熒光。檢測(cè)所述熒光并且在所述XRF分析儀中存儲(chǔ)在所述已知的校正氣壓和溫度下對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率。然后，在環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度下使用所述XRF分析儀以在所述元素的含量未知的現(xiàn)場(chǎng)試樣中誘發(fā)熒光。檢測(cè)所述熒光并確定對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率。測(cè)量所述環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度，并且基于所述環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度以及所存儲(chǔ)的在所述校準(zhǔn)氣壓和校準(zhǔn)溫度下對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率來(lái)校正所述確定的計(jì)數(shù)率。


本領(lǐng)域的技術(shù)人員從以下優(yōu)選實(shí)施例和附圖的說(shuō)明中將明白本發(fā)明其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，其中圖I是描述與根據(jù)本發(fā)明的便攜式XRF分析儀的實(shí)施例相關(guān)聯(lián)的主要組件的框圖；圖2是示出按熒光能量水平和為每秒的計(jì)數(shù)形式的強(qiáng)度劃分的所檢測(cè)到的數(shù)種試樣元素的圖；圖3是示出給定元素的強(qiáng)度水平如何隨著環(huán)境氣壓變化而變化的圖；圖4是描述與圖I所示的處理子系統(tǒng)的編程相關(guān)聯(lián)的主要步驟、以及還示出與根據(jù)本發(fā)明的XRF分析的方法相關(guān)聯(lián)的主要步驟的流程圖；圖5是示出體現(xiàn)本發(fā)明的手持式XRF分析儀的ー個(gè)示例的示意性的三維正視圖；
圖6A 6D是示出對(duì)應(yīng)于四種不同的元素的作為氣壓(mBar)的函數(shù)并為每秒的計(jì)數(shù)形式的X射線強(qiáng)度的圖；以及圖7是描述運(yùn)行在圖I的處理子系統(tǒng)上的軟件的操作的更加詳細(xì)的流程圖。
具體實(shí)施例方式除了以下所公開(kāi)的優(yōu)選實(shí)施例以外，本發(fā)明還能夠通過(guò)其它實(shí)施例來(lái)實(shí)現(xiàn)并且能夠以各種方式來(lái)實(shí)行或者執(zhí)行。因而，應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于以下說(shuō)明書(shū)所述的或者附圖所示的組件的詳細(xì)構(gòu)造和配置的應(yīng)用。如果這里僅描述了一個(gè)實(shí)施例，則本發(fā)明的權(quán)利要求書(shū)并不局限于該實(shí)施例。此外，除非存在表明特定排除、限制或放棄的明確可信的證據(jù)，否則不應(yīng)當(dāng)限制性地理解本發(fā)明的權(quán)利要求書(shū)。在一個(gè)例子中，圖I的便攜式XRF分析儀10包括x射線源12，被配置為沿著第一路徑16發(fā)射X射線至試樣14 ；以及檢測(cè)器子系統(tǒng)18，響應(yīng)于被檢測(cè)的試樣14所輻射的沿著第二路徑20的X射線。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)已知，檢測(cè)器子系統(tǒng)18 (通常包括一個(gè)或多個(gè)諸如硅漂移檢測(cè)器等和分析儀的檢測(cè)器)將檢測(cè)到的如圖2所示的不同能量水平的X射線的強(qiáng)度輸出至處理子系統(tǒng)22。處理子系統(tǒng)22可包括處理器、便攜式分析儀10的相關(guān)電路和/或運(yùn)行在連接至分析儀10的計(jì)算機(jī)上的計(jì)算機(jī)程序，基于圖2所示的在各個(gè)能量水平上含量與峰值強(qiáng)度之間的已知關(guān)系來(lái)計(jì)算圖I的試樣14中存在的不同元素的含量。例如，峰值30,32和34可以分別對(duì)應(yīng)于鎂、鋁和硅。峰值的高度對(duì)應(yīng)于這些元素不同的相對(duì)數(shù)量或含量。這樣，可以將圖I的試樣14內(nèi)的這些元素的含量顯示在圖I的顯示器24上。還可以顯示與圖2所示相同的圖形。如圖3所示，在已知?dú)鈮篜tl下，對(duì)應(yīng)于給定元素的已知含量，檢測(cè)到的熒光X射線的強(qiáng)度將為Ιο。然而，當(dāng)在小于Ptl的氣壓下(在高海拔處或者在處于低氣壓天氣系統(tǒng)中的位置處)使用該分析儀時(shí)，用于吸收熒光X射線、特別是低能量X射線的空氣分子較少，因而測(cè)量出的強(qiáng)度I1大于し。相反，當(dāng)在大于Ptl的氣壓下(例如在低海拔處或者在處于高氣壓天氣系統(tǒng)的位置處)使用該分析儀時(shí)，用于吸收熒光X射線、特別是低能量X射線的空氣分子較多，因而測(cè)量出的強(qiáng)度I2小于し。假定圖I的試樣14具有與在Ptl下被測(cè)量的元素含量相同的含量吋，則I1和I2都不正確。因而，根據(jù)本發(fā)明，圖I的分析儀10包括諸如氣壓計(jì)26等的氣壓測(cè)量裝置，氣壓計(jì)26被配置為測(cè)量分析儀內(nèi)或分析儀附近的大氣壓力，其中該大氣壓カ通常與存在于路徑16和20中的環(huán)境空氣壓カ相同。在一個(gè)例子中，圖I的氣壓計(jì)26是飛思卡爾半導(dǎo)體公司(Freescale Semiconductor)所制造的型號(hào)為MPL 115A的低功率MEMS氣壓計(jì)。另一例子是博世(Bosch)氣壓計(jì)BMP085。分析儀10還包括溫度傳感器25，用于測(cè)量環(huán)境空氣溫度。檢測(cè)器子系統(tǒng)18輸出為毎秒的計(jì)數(shù)形式的強(qiáng)度值。處理子系統(tǒng)22讀取氣壓值和溫度值，并基于該溫度將讀取的氣壓(作為氣壓計(jì)26的輸出)轉(zhuǎn)換成實(shí)際氣壓或校正后的氣壓。然后，基于該校正后的氣壓來(lái)對(duì)強(qiáng)度值進(jìn)行校正。然后，使用校正后的強(qiáng)度值來(lái)計(jì)算含量。參見(jiàn)，例如美國(guó)公開(kāi)US2007/0269003，在此通過(guò)弓I用將其合并到本說(shuō)明書(shū)中。處理子系統(tǒng)22因而基于氣壓計(jì)26所輸出的氣壓來(lái)校正測(cè)量出的含量。在ー個(gè)例子中，存儲(chǔ)器28包括存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)(曲線或方程式)，對(duì)于ー種低原子序數(shù)元素，該校準(zhǔn)數(shù)據(jù)至少包括在已知?dú)鈮合聦?duì)應(yīng)于該元素的已知含量的強(qiáng)度水平。然后，處理子系統(tǒng)22被配置為基于所存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)來(lái)對(duì)測(cè)量出的強(qiáng)度和含量進(jìn)行校正。通常，當(dāng)檢測(cè)器系統(tǒng)輸出在校準(zhǔn)氣壓Ptl下對(duì)應(yīng)于給定元素的已知含量的強(qiáng)度I時(shí)，處理子系統(tǒng)在測(cè)量出的氣壓大于Ptl時(shí)提高測(cè)量出的含量，并在該氣壓小于Ptl時(shí)降低測(cè)量出的含量。對(duì)于如圖3所示的元素，存儲(chǔ)器28可以包括在已知的校準(zhǔn)氣壓P。下對(duì)應(yīng)于峰值 Itl的已知強(qiáng)度?？梢约俣≒tl是標(biāo)準(zhǔn)氣壓或者在校準(zhǔn)時(shí)點(diǎn)下的實(shí)際氣壓。然后，對(duì)于該元素的未知強(qiáng)度，對(duì)處理子系統(tǒng)22進(jìn)行編程以基于以下參數(shù)或作為以下參數(shù)的函數(shù)來(lái)計(jì)算對(duì)應(yīng)于該元素的強(qiáng)度1)測(cè)量出的峰值(在上述例子中為I1或I2) ；2)圖I的氣壓計(jì)26測(cè)量出的氣壓；以及3)在已知?dú)鈮合聦?duì)應(yīng)于該元素的已知含量的強(qiáng)度值。在ー個(gè)典型實(shí)施例中，在圖4的步驟40中，處理子系統(tǒng)22被配置為(即，被編程為)在接收到來(lái)自用戶的命令時(shí)激勵(lì)X射線源12。在步驟42中，分析檢測(cè)器子系統(tǒng)的輸出。對(duì)元素測(cè)量為每秒的計(jì)數(shù)形式的強(qiáng)度值。在步驟44中，從圖I的氣壓計(jì)26自動(dòng)讀取環(huán)境氣壓(Pm)。還在步驟46中讀取溫度(Tm)。然后，在步驟48中，基于該溫度校正從氣壓計(jì)讀取的氣壓。校正后的氣壓或?qū)嶋H氣壓(Pe)為Pm*T_/Tm，其中 T_ = 300Κ(I)然后，在步驟49中，利用數(shù)據(jù)庫(kù)28內(nèi)的數(shù)據(jù)(強(qiáng)度相對(duì)氣壓的曲線或者該曲線的方程式)，使用校正后的氣壓來(lái)校正作為來(lái)自檢測(cè)器的輸出的強(qiáng)度值。根據(jù)利用氣壓校正后的強(qiáng)度值，能夠計(jì)算該元素的含量，然后優(yōu)選地針對(duì)所檢測(cè)到的所有元素重復(fù)該處理。然后，通常顯示這些結(jié)果。應(yīng)當(dāng)注意，為了使儀器的實(shí)時(shí)測(cè)量性能最優(yōu)，無(wú)需對(duì)所檢測(cè)的所有元素應(yīng)用該處理。相應(yīng)的，可以僅對(duì)關(guān)注的所檢測(cè)到的元素(例如，低原子序數(shù)元素)進(jìn)行該處理以最少化處理時(shí)間。在一個(gè)例子中，利用測(cè)量出的氣壓與標(biāo)準(zhǔn)氣壓(1013mBar) (Pnofflinal)之間的差值。該氣壓差(Pdiff)為PtJiff — Pnominal_Pm(corr)⑵使用該差值來(lái)計(jì)算應(yīng)用于強(qiáng)度值的校正因子，其中上述強(qiáng)度值被該裝置的X射線檢測(cè)器子系統(tǒng)檢測(cè)到校正因子=exp(_CE*Pdiff)(3)其中，CEi對(duì)于已知的激發(fā)能E。，提供給每個(gè)元素Ei的通過(guò)經(jīng)驗(yàn)確定的因子。Pdiff=P0-Peo Ce的值大于I導(dǎo)致強(qiáng)度值提高，Ce的值小于I導(dǎo)致強(qiáng)度值降低。圖I的處理子系統(tǒng)22能夠從存儲(chǔ)器28內(nèi)的預(yù)先計(jì)算出的查找表中獲得校正因子數(shù)(corrFactor number),這允許將該計(jì)算最優(yōu)化為單個(gè)步驟。若需要，可使用1013mBar和300K以外的校準(zhǔn)氣壓。如圖7的70所示，至處理子系統(tǒng)的輸入包括X射線能量Em(來(lái)自圖I的檢測(cè)器子系統(tǒng)18)、測(cè)量出的氣壓Pm(來(lái)自圖I的氣壓計(jì)26)以及測(cè)量出的溫度Tm(來(lái)自圖I的溫度傳感器25)。在步驟72中，使用存儲(chǔ)在圖I的數(shù)據(jù)庫(kù)28內(nèi)的表來(lái)為Em確定校正系數(shù)Ce(參見(jiàn)方程3)。如果無(wú)法獲得針對(duì)特定X射線能量Em的CE，則利用存儲(chǔ)在上述表中的值進(jìn)行插值來(lái)得出對(duì)應(yīng)于該特定能量的校正系數(shù)CE。此外，如果Pm和/或Tm由于某些原因而不可用，處理不應(yīng)當(dāng)停止，因此可在步驟74 78中將Pm和Tm設(shè)置為標(biāo)稱值P?；騎。(或者Pm和Tm可以是用戶定義的輸入)。在一個(gè)例子中，P。是標(biāo)準(zhǔn)氣壓(1013mBar)并且T。是標(biāo)準(zhǔn)溫度(300K)。如果使用這些標(biāo)稱值，則如步驟79所示，校正因子(參見(jiàn)方程3)為I。在大多情況下，Pm和、是可用的，并且在步驟80中，如上所述參考方程(I)來(lái)計(jì) 算實(shí)際氣壓。步驟82示出如何利用P。'和Ce來(lái)計(jì)算校正因子。使用步驟84中返回的校正因子來(lái)執(zhí)行圖4的步驟49 51。使本發(fā)明具體化的圖5所示手持式XRF分析儀10包括殼體50和氣壓計(jì)26，殼體50包括圖I所示的組件。氣壓計(jì)26可以安裝在分析儀殼體50內(nèi)的印刷電路板上。在前端52處還具有窗ロ，其中X射線透過(guò)該窗ロ到達(dá)試樣以及來(lái)自試樣的X射線透過(guò)該窗ロ。還示出了顯示器24和電池盒54。包括本發(fā)明的便攜式手持XRF分析儀的例子可包括本申請(qǐng)人出售的Delta XRF分析儀。環(huán)境空氣可被允許進(jìn)入殼體以便測(cè)量環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度。在XRF分析儀中，試樣、檢測(cè)器和X射線源之間的區(qū)域內(nèi)的空氣吸收導(dǎo)致低能量X射線的信號(hào)大幅衰減。如果上述區(qū)域內(nèi)的氣壓相對(duì)于エ廠校準(zhǔn)時(shí)的氣壓改變了，則測(cè)量精度受到影響?？諝饽軌蚴箯腦射線源到試樣和從試樣到檢測(cè)器的X射線都衰減。能量越小，衰減量越大，因此例如鎂(1.25keV)所受到的影響比鋁(1.48keV)或硅(I. 74keV)所受到的影響更大。公開(kāi)了ー種基于變化的氣壓和溫度來(lái)對(duì)結(jié)果進(jìn)行自動(dòng)現(xiàn)場(chǎng)校正的方法。一個(gè)優(yōu)選的方法在已經(jīng)是XRF分析儀中的標(biāo)準(zhǔn)配置的現(xiàn)有溫度傳感器25以外，還利用添加至XRF分析儀的內(nèi)部的圖I的氣壓傳感器26。這種信息然后被用于確定作為溫度和氣壓的函數(shù)的空氣吸收值的影響。作為空氣溫度和氣壓的函數(shù)所確定的物理量是差分吸收值(從ー種氣壓和溫度到另ー種氣壓和溫度的校正)。由以下方程來(lái)給出上述差分吸收值吸收值A(chǔ) (P，T) = exp (- P *K (E) /L)(4)其中，K是在能量為E時(shí)所求出的依賴能量的吸收截面(以cm2/g為單位)，L是從試樣14到檢測(cè)器18或者從X射線源12到試樣14的路徑長(zhǎng)度。K值及其能量依賴性能夠從材料數(shù)據(jù)表中獲得(一個(gè)例子是能夠從美國(guó)科學(xué)和技術(shù)研究院獲得的XCOM程序)。唯一未知的是表征氣體密度的以g/cm3為單位的物理量P。該值是溫度和氣壓的函數(shù)，為此可用理想氣體定律來(lái)替代為p=P/ (RT)(5)這里，P是氣壓，単位為mBar ；T是溫度(絕對(duì)溫度)，單位為K ;R是以適當(dāng)選擇的単位所表示的氣體常數(shù)，該適當(dāng)選擇的単位包括空氣摩爾質(zhì)量。利用這種替代，吸收方程變成如下的氣壓和溫度的函數(shù)
A (P，T) = exp (_P*K (E) / (RTL))(6)在X射線源、試樣和檢測(cè)器之間的區(qū)域內(nèi)由于源X射線和熒光X射線這兩者的空氣吸收而引起的總吸收的方程如下。通過(guò)以下公式給出該總吸收方程，并且該總吸收方程說(shuō)明了對(duì)從X射線源朝向試樣行進(jìn)的源X射線和從試樣內(nèi)發(fā)熒光的低原子序數(shù)元素朝向檢測(cè)器行進(jìn)的熒光X射線的吸收值，其中該吸收值依賴于氣壓和溫度A = exp (_P*K (Ei) /RTLi) *exp (_P*K (E0) /RTL0)= exp (-Ρ/Τ* (K (Ei) /Li-K (E0) /L0) *R)(7)在上述方程中，物理量的定義如下E0是入射X射線的能量，單位為keV。為簡(jiǎn)單起見(jiàn)，假定E。是來(lái)自x射線源的x射線的平均能量。在以采用更復(fù)雜但眾所周知的公式時(shí)可以放寬這種假定。還可以進(jìn)行其它假定。 Ei是所檢測(cè)到的來(lái)自元素“i”的熒光X射線的能量。Lt是從X射線源的出口到試樣的路徑長(zhǎng)度，單位為cm。Lp是從試樣到檢測(cè)器的路徑長(zhǎng)度，單位為cm。校正的最終形式基于在已知的氣壓值P。和溫度值T。下于分析儀校準(zhǔn)期間的空氣吸收值、與在氣壓值Pm和溫度值Tm下于給定試樣測(cè)量期間發(fā)生的空氣吸收值之間的差值。校正的最終形式是用于計(jì)算對(duì)在不同于校準(zhǔn)期間的氣壓值和溫度值下的吸收值進(jìn)行校正的校正值的方程A (final) = exp-{[Pm/Tm* (K (E^Ld-K (E0)/LT) *R) ]-[Pc/Tc* (K (Ei)/LD_K (E0) /LT) *R]} (8)如果在數(shù)據(jù)處理時(shí)，將包括校準(zhǔn)值和未知值的所有測(cè)量值都校正為單個(gè)的標(biāo)稱的氣壓和溫度以及標(biāo)稱密度，則能夠進(jìn)ー步減小校正。還可以將溫度表示為在標(biāo)稱溫度下將導(dǎo)致相同的密度的實(shí)際氣壓變化。如圖6所示，已測(cè)量出吸收值并且將其與利用上述公式所得的預(yù)測(cè)值進(jìn)行比較。首先在エ廠校準(zhǔn)條件下對(duì)Mg、Al、Si和P的純凈試樣測(cè)量環(huán)境氣壓下的計(jì)數(shù)率，并將這些物理量稱為I。(Mg) .IJAlhIe(Si)和1。(の。然后在圍繞試樣、X射線源和檢測(cè)器的區(qū)域內(nèi)創(chuàng)建低至IOOmBar的真空,并且在IOOmBar和大氣壓之間的數(shù)個(gè)不同氣壓值下利用相同的純凈試樣測(cè)量Mg、Al、Si和P的X射線計(jì)數(shù)率。然后，通過(guò)以下的乘法運(yùn)算給出這些不同氣壓下的預(yù)測(cè)計(jì)數(shù)率。Ic(Mg) ^Afinal (Mg)(9)其中，Afinal (Mg)是在各種氣壓值以及鎂的Κ-α X射線能量下求值并通過(guò)上述公式計(jì)算出的吸收因子。除了分別使用Al、Si或P的K-α X射線能量來(lái)確定吸收因子以外，通過(guò)相似的方程來(lái)給出對(duì)應(yīng)Al、Si和P的預(yù)測(cè)計(jì)數(shù)率。XRF単元所包括的內(nèi)部氣壓傳感器提供氣壓值。如圖6A 6D所示，Mg、Al、Si和P這四種元素在數(shù)個(gè)氣壓值下測(cè)量出的強(qiáng)度被吸收因子與在某個(gè)環(huán)境氣壓Itl下測(cè)量出的已知計(jì)數(shù)率的乘積完美再現(xiàn)。校準(zhǔn)數(shù)據(jù)可以是實(shí)際曲線或者對(duì)應(yīng)這些曲線的公式。假定對(duì)于Al (能量水平I. 48keV)，檢測(cè)器輸出每秒的計(jì)數(shù)為1000的強(qiáng)度。氣壓計(jì)輸出的氣壓值是lOOkPa。確定溫度并基于該溫度將IOOkPa的氣壓值校正為95kPa。在較低的氣壓下，傳輸率增加了 2. 16%。然后，基于950kPa的校正后的氣壓來(lái)將1000計(jì)數(shù)的強(qiáng)度水平校正21. 6以使得強(qiáng)度水平被校正為978. 4計(jì)數(shù)(1000-1000X21. 6% )0在便攜式XRF分析儀中，為了在環(huán)境氣壓變化時(shí)自動(dòng)校正測(cè)量中的特定元素的結(jié)果，在一個(gè)例子中，可以執(zhí)行以下的步驟。分別在已知的環(huán)境氣壓P。和環(huán)境溫度T。下對(duì)XRF分析儀進(jìn)行エ廠校準(zhǔn)，由此獲知對(duì)應(yīng)各種元素Q)的元素計(jì)數(shù)率Ie(i)。實(shí)際上，僅需對(duì)諸如Mg、Al、Si、P和S等的低原子序數(shù)元素進(jìn)行這種校正，但對(duì)所有試樣都作記錄。因而，XRF分析儀中的如圖I所示的處理子系統(tǒng)22存儲(chǔ)被測(cè)量的元素的校準(zhǔn)強(qiáng)度，如對(duì)應(yīng)于Mg的IJMg)、對(duì)應(yīng)于Al的Ici(Al)等以及在校準(zhǔn)時(shí)的溫度和氣壓下的測(cè)量值T。和P。。存儲(chǔ)器28包含這些值。在現(xiàn)場(chǎng)使用期間，XRF分析儀測(cè)量各種元素“i”的計(jì)數(shù)率Im(i)，并且還利用便攜式氣壓傳感器26和溫度傳感器25來(lái)測(cè)量環(huán)境氣壓值Pm和環(huán)境溫度值Tm。處理子系統(tǒng)22計(jì)算在新的氣壓值Pm和溫度值Tm下對(duì)應(yīng)于各元素“ i”的吸收因子
^final、エノ。然后，處理子系統(tǒng)22根據(jù)乘積Im(i) = Ιεα)ΑΗΜ ，來(lái)針對(duì)各種感興趣的元素計(jì)算對(duì)純?cè)氐挠?jì)數(shù)率形式的校準(zhǔn)強(qiáng)度進(jìn)行校正的校正值。例如，Im(Mg) = Ic(Mg)^Afinal為了計(jì)算元素“i”的包含了氣壓和溫度變化的影響的校正后的含量，分析儀使用新的校準(zhǔn)強(qiáng)度Im(i)。還對(duì)其它的感興趣的元素，例如Al、Si和P，進(jìn)行上述處理。盡管本發(fā)明的特定特征在一部分附圖中示出而未其它附圖中示出，但這僅僅為了方便起見(jiàn)，因?yàn)楦鶕?jù)本發(fā)明可以將每個(gè)特征與其它特征中的任何特征或所有特征相結(jié)合。在此使用的術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”、“具有”以及“具備”應(yīng)當(dāng)廣義且全面地進(jìn)行解釋并且不局限于任何物理互連。此外，本申請(qǐng)所公開(kāi)的任何實(shí)施例不應(yīng)當(dāng)被看作為唯一可能的實(shí)施例。其它實(shí)施例對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言將是顯而易見(jiàn)的并且在所附權(quán)利要求書(shū)的范圍內(nèi)。另外，在本專利的專利申請(qǐng)的審查過(guò)程期間進(jìn)行的任何修改均不是對(duì)所提交的申請(qǐng)中的任何權(quán)利要求要素的放棄無(wú)法合理地期望本領(lǐng)域的技術(shù)人員撰寫(xiě)從字面上包含所有可能的等同對(duì)象的權(quán)利要求書(shū)，許多等同對(duì)象在修改時(shí)無(wú)法預(yù)見(jiàn)且超過(guò)要放棄的范圍(如若存在)的合理解釋，作為該修改的基礎(chǔ)的基本原理與多個(gè)等同對(duì)象之間的關(guān)系是非相關(guān)的，以及/或者存在許多無(wú)法期望本申請(qǐng)人描述對(duì)任何修改后的權(quán)利要求要素的非實(shí)質(zhì)性替換的其他理由。權(quán)利要求
1.一種便攜式分析儀，包括 X射線源，被配置為發(fā)射X射線至試樣； 檢測(cè)器子系統(tǒng)，響應(yīng)于由所述試樣放射出的X射線，并且輸出所檢測(cè)到的具有不同能量水平的X射線的強(qiáng)度； 氣壓測(cè)量裝置，被配置為測(cè)量環(huán)境氣壓； 處理子系統(tǒng)，響應(yīng)于所述檢測(cè)器子系統(tǒng)和所述氣壓測(cè)量裝置，并被配置為 基于所述檢測(cè)器子系統(tǒng)檢測(cè)到的能量水平對(duì)應(yīng)于至少ー種低原子序數(shù)元素的X射線的強(qiáng)度來(lái)計(jì)算所述元素在所述試樣內(nèi)的含量，其中所述計(jì)算包括基于所述環(huán)境氣壓來(lái)校正所述強(qiáng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在干， 所述檢測(cè)器子系統(tǒng)輸出在校準(zhǔn)氣壓P。下對(duì)應(yīng)于所述元素的已知含量的強(qiáng)度I，以及 所述處理子系統(tǒng)在所述環(huán)境氣壓大于P。時(shí)提高所述強(qiáng)度，并在所述環(huán)境氣壓小于P。時(shí)降低所述強(qiáng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在干，該便攜式分析儀還包括存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)， 對(duì)于ー種低原子序數(shù)元素，所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)至少包括在不同氣壓下對(duì)應(yīng)于該元素的已知含量的強(qiáng)度水平。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的便攜式分析儀，其特征在干，所述處理子系統(tǒng)被配置為基于所述存儲(chǔ)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)來(lái)校正測(cè)量出的強(qiáng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的便攜式分析儀，其特征在干，所述處理子系統(tǒng)被配置為計(jì)算在測(cè)量出的氣壓下對(duì)應(yīng)于所述元素的吸收因子。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述檢測(cè)器子系統(tǒng)包括硅漂移檢測(cè)器。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述氣壓測(cè)量裝置是氣壓計(jì)。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在干，該便攜式分析儀還包括溫度傳感器，所述溫度傳感器用于測(cè)量環(huán)境空氣溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的便攜式分析儀，其特征在干，所述處理子系統(tǒng)進(jìn)一歩被配置為 基于所述環(huán)境空氣溫度來(lái)校正所述環(huán)境氣壓，并且 基于校正后的氣壓來(lái)對(duì)所述強(qiáng)度進(jìn)行校正。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述處理子系統(tǒng)被配置為通過(guò)基于測(cè)量出的溫度和校準(zhǔn)溫度對(duì)測(cè)量出的氣壓進(jìn)行校正，來(lái)基于所述測(cè)量出的溫度校正所述測(cè)量出的氣壓。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述處理子系統(tǒng)被配置為通過(guò)確定所述校正后的氣壓和校準(zhǔn)氣壓之間的差值并使用所述差值校正所述強(qiáng)度，來(lái)對(duì)所述強(qiáng)度進(jìn)行校正。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述處理子系統(tǒng)被配置為通過(guò)確定校正因子來(lái)校正所述強(qiáng)度，其中所述校正因子是常數(shù)與所述校正后的氣壓和校準(zhǔn)氣壓之間的差值的函數(shù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的便攜式分析儀，其特征在干，對(duì)于已知的激發(fā)能，每種元素的校正因子是通過(guò)經(jīng)驗(yàn)確定的。
14.根據(jù)權(quán)利要求I所述的便攜式分析儀，其特征在干，該便攜式分析儀進(jìn)一歩包括圍繞所述X射線源和所述檢測(cè)器子系統(tǒng)的殼體， 所述殼體包括窗ロ，所述X射線源發(fā)射的X射線穿過(guò)所述窗ロ到達(dá)所述試樣，并且來(lái)自所述試樣的X射線穿過(guò)所述窗ロ。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的便攜式分析儀，其特征在于，所述氣壓測(cè)量裝置配置在所述殼體內(nèi)。
16.ー種XRF分析方法，包括 發(fā)射X射線至試樣； 檢測(cè)由所述試樣放射出的X射線，并且測(cè)量所檢測(cè)到的具有不同能量水平的X射線的強(qiáng)度； 測(cè)量環(huán)境氣壓； 基于所檢測(cè)到的能量水平對(duì)應(yīng)于至少ー種元素的X射線的強(qiáng)度來(lái)自動(dòng)計(jì)算所述元素在所述試樣內(nèi)的含量，其中所述計(jì)算包括基于所述環(huán)境氣壓自動(dòng)校正所述強(qiáng)度。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的XRF分析方法，其特征在于，對(duì)于在校準(zhǔn)氣壓P。下對(duì)應(yīng)于所述元素的已知含量測(cè)量出的強(qiáng)度I，所述校正包括 在所述環(huán)境氣壓大于P。時(shí)，提高所述強(qiáng)度；以及 在所述環(huán)境氣壓小于P。吋，降低所述強(qiáng)度。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的XRF分析方法，其特征在于，還包括存儲(chǔ)校準(zhǔn)數(shù)據(jù)， 對(duì)于ー種元素，所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)至少包括在不同氣壓下對(duì)應(yīng)于所述元素的已知含量的強(qiáng)度水平。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的XRF分析方法，其特征在于，校正所述強(qiáng)度包括基于所存儲(chǔ)的所述校正數(shù)據(jù)來(lái)進(jìn)行校正。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的XRF分析方法，其特征在于，進(jìn)ー步包括 測(cè)量環(huán)境空氣溫度， 基于所測(cè)量出的溫度來(lái)校正所測(cè)量出的氣壓，以及 基于校正后的氣壓來(lái)校正所述強(qiáng)度。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的XRF分析方法，其特征在于，基于所述測(cè)量出的溫度來(lái)校正所述測(cè)量出的氣壓包括基于所述測(cè)量出的溫度和校準(zhǔn)溫度來(lái)校正所述測(cè)量出的氣壓。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的XRF分析方法，其特征在于，校正所述強(qiáng)度包括 確定所述校正后的氣壓和校準(zhǔn)氣壓之間的差值，以及 使用所述差值來(lái)校正所述強(qiáng)度。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的XRF分析方法，其特征在于，校正所述強(qiáng)度包括確定校正因子，其中所述校正因子是常數(shù)與所述校正后的氣壓和校準(zhǔn)氣壓之間的差值的函數(shù)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的XRF分析方法，其特征在干，對(duì)于已知的激發(fā)能，每種元素的校正因子是通過(guò)經(jīng)驗(yàn)確定的。
25.—種XRF分析方法，包括 在校準(zhǔn)氣壓和校準(zhǔn)溫度下使用XRF分析儀，以在元素的含量已知的校準(zhǔn)試樣內(nèi)誘發(fā)熒光; 檢測(cè)該熒光，并且在所述XRF分析儀中存儲(chǔ)在所述校準(zhǔn)氣壓和校準(zhǔn)溫度下對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率；在環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度下使用所述XRF分析儀，以在所述元素的含量未知的現(xiàn)場(chǎng)試樣內(nèi)誘發(fā)熒光； 檢測(cè)該熒光，并且確定對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率； 測(cè)量所述環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度；以及 基于所述環(huán)境氣壓和環(huán)境溫度以及所存儲(chǔ)的在所述校準(zhǔn)氣壓和校準(zhǔn)溫度下對(duì)應(yīng)于所述元素的計(jì)數(shù)率來(lái)校正所確定的計(jì)數(shù)率。
全文摘要
本發(fā)明涉及便攜式分析儀和XRF分析方法，所述便攜式分析儀包括氣壓測(cè)量裝置，用于測(cè)量環(huán)境氣壓；以及處理子系統(tǒng)，響應(yīng)于檢測(cè)器子系統(tǒng)和所述氣壓測(cè)量裝置。所述處理子系統(tǒng)被配置為基于所述檢測(cè)器子系統(tǒng)檢測(cè)到的能量水平對(duì)應(yīng)于至少一種低原子序數(shù)元素的x射線的強(qiáng)度來(lái)計(jì)算所述元素在試樣內(nèi)的含量?；诃h(huán)境氣壓來(lái)校正強(qiáng)度值。所述XRF分析方法包括通過(guò)考慮氣壓來(lái)自動(dòng)確定元素的含量。
文檔編號(hào)G01N23/223GK102735705SQ20121007189
公開(kāi)日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2012年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月16日
發(fā)明者P·J·哈德曼 申請(qǐng)人:奧林巴斯Ndt公司