專利名稱：一種核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí) 用新型涉及ー種刻度裝置，尤其涉及一種核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的核磁共振測(cè)井儀的刻度裝置雖然能進(jìn)行100%刻度，但是沒(méi)有進(jìn)行真正意義上的0刻度。也有的核磁共振測(cè)井儀的刻度裝置能進(jìn)行不同孔隙度的刻度，但在裝卸巖性介質(zhì)時(shí)，操作往往比較繁瑣，效率低下。而且，現(xiàn)有的核磁共振測(cè)井儀的刻度裝置都是采用臥式結(jié)構(gòu)，不能完全地模擬井下實(shí)際情況。對(duì)于多點(diǎn)刻度，目前使用比較多的是建造刻度井。但是建造刻度井時(shí)間周期長(zhǎng)，費(fèi)用高，而且尋找天然巖石不但所需的時(shí)間長(zhǎng)，而且還非常難尋找。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服目前建造刻度井來(lái)進(jìn)行核磁共振測(cè)井儀的多點(diǎn)刻度所存在的周期長(zhǎng)、費(fèi)用高的缺陷。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，該裝置包括底座(I)、透明的支撐筒(2)、第一巖性介質(zhì)(3)、第二巖性介質(zhì)(4)、屏蔽井筒
(5)、井蓋(6)、注水管(7)、測(cè)井儀器電路短節(jié)(8)、刻度井井筒(9)以及刻度筒(10)，其中支撐筒(2)套在底座(I)上，上方支撐雙層的刻度筒(10)，與刻度井井筒(9)的內(nèi)徑相等；刻度井井筒(9)套在刻度筒(10)以及支撐筒(2)中；屏蔽井筒(5)罩在底座(I)、支撐筒(2)以及刻度筒(10)的外部，井蓋(6)從上方蓋在屏蔽井筒(5)上；刻度井井筒(9)中安放有測(cè)井儀器電路短節(jié)(8);刻度筒(10)的兩層筒壁之間，設(shè)置有第一巖性介質(zhì)(3)和第二巖性介質(zhì)(4)。優(yōu)選地，井蓋(6)與刻度筒(10)的上端相距一定距離。優(yōu)選地，井蓋(6)的正中央設(shè)置儀器居中孔。優(yōu)選地，第一巖性介質(zhì)(3)的孔隙度比第二巖性介質(zhì)(4)的孔隙度小。優(yōu)選地，刻度井井筒(9)下方的底座(1)，朝下鉆有ー個(gè)鼠洞(12)。優(yōu)選地，底座(I)為金屬材料制成，支撐筒(2)采用玻璃鋼制成。優(yōu)選地，測(cè)井儀器電路短節(jié)(8)上設(shè)置有核磁共振測(cè)井儀器天線(11)以及核磁共振測(cè)井僅探頭(13)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的實(shí)施例能夠?qū)崿F(xiàn)多點(diǎn)刻度，并且能夠進(jìn)行0刻度。本實(shí)用新型的實(shí)施例采用立式結(jié)構(gòu)，能夠更加真實(shí)地模擬井下的實(shí)際情況，而且整個(gè)刻度都在屏蔽的環(huán)境下進(jìn)行的，刻度結(jié)果準(zhǔn)確度更高。

圖I為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本 實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，下文中將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互任意組合。如圖I所示，本實(shí)用新型實(shí)施例的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置主要包括底座I、透明的支撐筒2、第一巖性介質(zhì)3、第二巖性介質(zhì)4、屏蔽井筒5、井蓋6、注水管7、測(cè)井儀器電路短節(jié)8、刻度井井筒9、刻度筒10、核磁共振測(cè)井儀器的天線11、鼠洞12以及核磁共振測(cè)井儀探頭13等。透明的支撐筒2套在底座I上，支撐筒2上方支撐雙層的刻度筒10，支撐筒2與刻度井井筒9的內(nèi)徑相等?？潭染?套在刻度筒10以及透明的支撐筒2中。屏蔽井筒5罩在底座I、支撐筒2以及刻度筒10的外部，井蓋6從上方蓋在屏蔽井筒5上。井蓋6與刻度筒10的上端相距一定距離。井蓋6的正中央設(shè)置儀器居中孔，通過(guò)該居中孔可使得刻度井井筒9居中，從而使得測(cè)井儀器準(zhǔn)確居中?？潭染?中安放測(cè)井儀器電路短節(jié)8，測(cè)井儀器電路短節(jié)8上設(shè)置有核磁共振測(cè)井儀器天線11以及核磁共振測(cè)井儀探頭13?？潭韧?0的兩層筒壁之間，設(shè)置有第一巖性介質(zhì)3和第二巖性介質(zhì)4。本實(shí)用新型的實(shí)施例中，刻度筒10有蓋無(wú)底，刻度井井筒9下方的底座1，朝下鉆有一個(gè)鼠洞12。底座I上的鼠洞12能起到定位居中的作用。本實(shí)施例中，底座I為金屬材料制成，本實(shí)施例中的支撐筒2采用玻璃鋼制成。底座I與刻度筒10之間的玻璃鋼支撐筒，可以防止金屬底座I對(duì)核磁共振測(cè)井儀器天線11的影響。本實(shí)施例中第一巖性介質(zhì)3的孔隙度比第二巖性介質(zhì)4的孔隙度小。本實(shí)施例中，第一巖性介質(zhì)3的孔隙度為15%，第二巖性介質(zhì)4的孔隙度為20%。刻度筒10的尺寸保證核磁共振測(cè)井儀器的天線11能完全地包容在一種巖性介質(zhì)內(nèi)。如此，這樣在一個(gè)刻度筒內(nèi)能完成3種刻度，分別對(duì)應(yīng)15%、20%以及100%孔隙度刻度，當(dāng)儀器上提一定高度并脫離刻度筒10后還可以進(jìn)行O刻度，這樣該刻度裝置至少能進(jìn)行4點(diǎn)刻度。本實(shí)用新型的實(shí)施例可以驗(yàn)證不同礦化度鉆井液對(duì)天線的影響，刻度筒內(nèi)液體可以根據(jù)需要更換，更換液體時(shí)可以使用循環(huán)泵通過(guò)注水管來(lái)完成。雖然本實(shí)用新型所揭露的實(shí)施方式如上，但所述的內(nèi)容只是為了便于理解本實(shí)用新型而采用的實(shí)施方式，并非用以限定本實(shí)用新型。任何本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實(shí)施的形式上及細(xì)節(jié)上作任何的修改與變化，但本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍，仍須以所附的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于，該裝置包括底座(I)、透明的支撐筒(2)、第一巖性介質(zhì)(3)、第二巖性介質(zhì)(4)、屏蔽井筒(5)、井蓋(6)、注水管(7)、測(cè)井儀器電路短節(jié)(8)、刻度井井筒(9)以及刻度筒(10)，其中 支撐筒(2 )套在底座(I)上，上方支撐雙層的刻度筒(10 )，與刻度井井筒(9 )的內(nèi)徑相等；刻度井井筒(9)套在刻度筒(10)以及支撐筒(2)中；屏蔽井筒(5)罩在底座(I)、支撐筒(2)以及刻度筒(10)的外部，井蓋(6)從上方蓋在屏蔽井筒(5)上；刻度井井筒(9)中安放有測(cè)井儀器電路短節(jié)(8);刻度筒(10)的兩層筒壁之間，設(shè)置有第一巖性介質(zhì)(3)和第二巖性介質(zhì)(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 井蓋(6)與刻度筒(10)的上端相距一定距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 井蓋(6)的正中央設(shè)置儀器居中孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 第一巖性介質(zhì)(3)的孔隙度比第二巖性介質(zhì)(4)的孔隙度小。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 刻度井井筒(9 )下方的底座(I)，朝下鉆有一個(gè)鼠洞(12 )。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 底座(I)為金屬材料制成，支撐筒(2 )采用玻璃鋼制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，其特征在于， 測(cè)井儀器電路短節(jié)(8)上設(shè)置有核磁共振測(cè)井儀器天線(11)以及核磁共振測(cè)井儀探頭(13)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種核磁共振測(cè)井儀多點(diǎn)刻度裝置，克服目前建造刻度井來(lái)進(jìn)行核磁共振測(cè)井儀的多點(diǎn)刻度所存在的周期長(zhǎng)、費(fèi)用高的缺陷，該裝置中支撐筒(2)套在底座(1)上，上方支撐雙層的刻度筒(10)，與刻度井井筒(9)的內(nèi)徑相等；刻度井井筒(9)套在刻度筒(10)以及支撐筒(2)中；屏蔽井筒(5)罩在底座(1)、支撐筒(2)以及刻度筒(10)的外部，井蓋(6)從上方蓋在屏蔽井筒(5)上；刻度井井筒(9)中安放有測(cè)井儀器電路短節(jié)(8)；刻度筒(10)的兩層筒壁之間，設(shè)置有第一巖性介質(zhì)(3)和第二巖性介質(zhì)(4)。本實(shí)用新型的實(shí)施例能夠?qū)崿F(xiàn)多點(diǎn)刻度，并且能夠進(jìn)行0刻度。
文檔編號(hào)G01V3/32GK202510114SQ20122004807
公開日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2012年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月15日
發(fā)明者于會(huì)媛, 宋公仆, 王光偉, 范偉, 蔡池淵 申請(qǐng)人:中國(guó)海洋石油總公司, 中海油田服務(wù)股份有限公司