專利名稱：一種膜厚測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及測量技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種膜厚測量裝置。
背景技術(shù)：
在液晶面板制作工藝中，在ITO(Indium Tin Oxides，氧化銦錫)生產(chǎn)線上通常采用LCF-8000型機(jī)臺(tái)來測量面電阻和透過率，LCF-8000型機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖參照圖1，其包括機(jī)臺(tái)1，設(shè)置在機(jī)臺(tái)I上的上下并列的對(duì)焦燈固定軸2，在上方的對(duì)焦燈固定軸2端部安裝有上下可升降的上對(duì)焦燈3，在下方的對(duì)焦燈固定軸2端部安裝有上下可升降的下對(duì)焦燈4。上對(duì)焦燈3和下對(duì)焦燈4相對(duì)設(shè)置，分別位于ITO生產(chǎn)線的上下兩側(cè)，玻璃基板6上方覆蓋有ITO膜7。上對(duì)焦燈3上還連接有CCD (Charge-Coupled Device,電荷耦合元件)5，用于獲取經(jīng)玻璃基板6反射的光線信號(hào)。
在LCF-8000機(jī)臺(tái)測量玻璃基板上ITO膜厚的過程中，使用的是光學(xué)測量法中的反射和干涉原理。如果ITO膜在玻璃基板上方，利用LCF-8000機(jī)臺(tái)進(jìn)行膜厚測量的示意圖如圖I所示，由上對(duì)焦燈3處發(fā)出的光線，在透過ITO膜7之后，通過玻璃基板6將光反射，由CCD5的鏡頭獲取，由此一來得到反射光，并經(jīng)儀器處理后得到ITO膜厚。但是如果ITO膜在玻璃基板下方，光透過ITO膜的時(shí)候，ITO膜的下方除了空氣沒有其他介質(zhì)，不能將光反射回去，位于ITO生產(chǎn)線上方的機(jī)臺(tái)CCD測量頭得不到反射光，形成不了干涉作用，因此儀器不能計(jì)算得到ITO膜厚。因?yàn)長CF-8000型機(jī)臺(tái)的原始結(jié)構(gòu)設(shè)置主要適用于測量面電阻和透過率，對(duì)ITO膜位于玻璃基板上方或下方?jīng)]有一致性的結(jié)構(gòu)設(shè)置，并且ITO生產(chǎn)線上沒有專門的段差計(jì)設(shè)備，因此在需要測量玻璃基板下方的ITO膜厚的時(shí)候，必須將整個(gè)基板調(diào)入到其他線上去，不能及時(shí)的發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)過程中的問題，并且使整個(gè)工藝更加繁瑣。

實(shí)用新型內(nèi)容(一 )要解決的技術(shù)問題本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是如何簡化位于基板表面的膜厚的測量工藝，提高整個(gè)產(chǎn)線的工作效率和工藝品質(zhì)。( 二 )技術(shù)方案為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種膜厚測量裝置，包括機(jī)臺(tái)，分別安裝在機(jī)臺(tái)的兩個(gè)對(duì)焦燈固定軸端部的上對(duì)焦燈和下對(duì)焦燈；所述上對(duì)焦燈和下對(duì)焦燈相對(duì)設(shè)置，并分別位于待測膜所在產(chǎn)線的上下兩側(cè)；所述上對(duì)焦燈還連接有CCD ;所述下對(duì)焦燈上方設(shè)置有可移動(dòng)的反射撥片。其中，所述下對(duì)焦燈上或者其一側(cè)的對(duì)焦燈固定軸上設(shè)置有支撐架，支撐架上安裝所述反射撥片。其中，所述反射撥片為金屬片。其中，所述反射撥片為鋁片。[0012]其中，所述支撐架為旋轉(zhuǎn)升降支架，以帶動(dòng)所述反射撥片旋轉(zhuǎn)或豎直移動(dòng)。其中，所述支撐架連接移動(dòng)控制模塊，由移動(dòng)控制模塊控制支撐架的旋轉(zhuǎn)升降。(三)有益效果上述技術(shù)方案所提供的測量基板下方膜厚的裝置中，在下對(duì)焦燈周圍增設(shè)了一塊鋁制金屬反射撥片，依托支撐架對(duì)反射撥片進(jìn)行位置移動(dòng)，在進(jìn)行基板下方膜厚測量時(shí)，將反射撥片移動(dòng)至下對(duì)焦燈上方，并靠近待測膜，使得透過待測膜的光可以經(jīng)由反射撥片反 射，供CCD獲取；鋁制金屬反射撥片，表面光滑，反射率高，價(jià)格便宜；并且反射撥片位置可調(diào)，在不進(jìn)行基板下方膜厚測量時(shí)，可將反射撥片調(diào)至不影響機(jī)臺(tái)工作的位置，提高機(jī)臺(tái)空間利用率；該裝置同時(shí)還能對(duì)基板上方膜厚進(jìn)行測量，實(shí)時(shí)監(jiān)測產(chǎn)線的生產(chǎn)工藝流程，及時(shí)發(fā)現(xiàn)生廣廣品中的不良，提聞生廣效率。

圖I是利用現(xiàn)有技術(shù)中機(jī)臺(tái)裝置進(jìn)行玻璃基板上方ITO膜厚測量的示意圖；圖2是利用本實(shí)施例的裝置進(jìn)行玻璃基板下方ITO膜厚測量的示意圖。其中，I :機(jī)臺(tái)；2 :對(duì)焦燈固定軸；3 :上對(duì)焦燈；4 :下對(duì)焦燈；5 =CCD ；6 :玻璃基板；
7:ΙΤ0膜；8 :支撐架；9 :反射撥片。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。本實(shí)施例所提供的膜厚測量裝置，適用于可透光材質(zhì)的基板的上表面或下表面上設(shè)置的可透光的膜的膜厚測量，基板不局限于玻璃基板，待測膜不局限于ΙΤ0，只要是可透光的膜材，即半透明體或透明體膜材均可。下面以常用的玻璃基板下表面上設(shè)置的ITO膜作為待測膜，來描述本實(shí)施例的膜厚測量裝置的結(jié)構(gòu)及膜厚的測量方式。其中，將基板的上表面上定義為基板的上方，基板的下表面上定義為基板的下方，以該定義方位來方便本實(shí)施例裝置結(jié)構(gòu)的描述。圖2示出了本實(shí)施例的測量玻璃基板下方ITO膜厚的裝置結(jié)構(gòu)示意圖，其包括機(jī)臺(tái)1，分別安裝在機(jī)臺(tái)I的兩個(gè)對(duì)焦燈固定軸2端部的上對(duì)焦燈3和下對(duì)焦燈4，上對(duì)焦燈3和下對(duì)焦燈4相對(duì)設(shè)置，并分別位于ITO生產(chǎn)線的上下兩側(cè)，ITO生產(chǎn)線上具有玻璃基板6和形成在玻璃基板6下表面的ITO膜7。上對(duì)焦燈3還連接有(XD5，上對(duì)焦燈3和下對(duì)焦燈4均可沿對(duì)焦燈固定軸2端部上下移動(dòng)，以滿足ITO生產(chǎn)線上不同參數(shù)測量的需要。ITO膜7位于玻璃基板6下方，為了滿足ITO膜厚測量的需要，本實(shí)施例在下對(duì)焦燈4上方設(shè)置了可移動(dòng)的反射撥片9，以對(duì)透過ITO膜7的光進(jìn)行反射，使(XD5能夠獲得經(jīng)由ITO膜7的反射光，進(jìn)一步由儀器計(jì)算出ITO膜厚。本實(shí)施例中，關(guān)于反射撥片9材料的選擇方面，考慮到在空氣中能夠反射光的介質(zhì)中，最好的是金屬；而在金屬里面，價(jià)格最便宜而且反射率最高的材料非鋁片莫屬，因此優(yōu)選鋁片作為反射撥片。反射撥片9設(shè)置在下對(duì)焦燈4周圍，緊貼下對(duì)焦燈4的旁邊即可，這樣在進(jìn)行ITO膜厚測量時(shí)，將反射撥片9移動(dòng)至下對(duì)焦燈4上方，發(fā)揮反射作用；在不進(jìn)行ITO膜厚測量時(shí)，將反射撥片9移開，使機(jī)臺(tái)I進(jìn)行ITO生產(chǎn)線上其他參數(shù)的測量。在反射撥片9的移動(dòng)控制上，本實(shí)施例在下對(duì)焦燈4上設(shè)置了支撐架8，反射撥片9安裝在支撐架8上，支撐架8優(yōu)選為旋轉(zhuǎn)升降支架，以帶動(dòng)反射撥片9旋轉(zhuǎn)或豎直移動(dòng)。因下對(duì)焦燈4可沿對(duì)焦燈固定軸2端部上下移動(dòng)，所以將支撐架8設(shè)置在下對(duì)焦燈4上，能夠在下對(duì)焦燈4上下移動(dòng)時(shí)，帶動(dòng)支撐架8同時(shí)移動(dòng)，便于反射撥片9的位置調(diào)整。反射撥片9除了可安裝在下對(duì)焦燈4上之外，還可以安裝在下對(duì)焦燈4 一側(cè)的對(duì)焦燈固定軸2上，此時(shí)通過旋轉(zhuǎn)和升降支撐架8即可調(diào)整反射撥片9的位置。并且，支撐架8連接有移動(dòng)控制模塊，由移動(dòng)控制模塊控制支撐架8的旋轉(zhuǎn)升降。使用本實(shí)施例的裝置進(jìn)行玻璃基板下方ITO膜厚測量時(shí)，其示意圖參照圖2所示，首先進(jìn)行測量對(duì)焦，即將上對(duì)焦燈3和下對(duì)焦燈4的焦距分別進(jìn)行調(diào)整；對(duì)焦完畢后，由移動(dòng)控制模塊控制支撐架8升降和旋轉(zhuǎn)，同時(shí)帶動(dòng)反射撥片9升降和旋轉(zhuǎn)，使反射撥片9移動(dòng)至下對(duì)焦燈4上方；然后將下對(duì)焦燈4整體移動(dòng)至最靠近ITO膜7且不傷害到ITO膜7的 距離，即可進(jìn)行ITO膜厚的測量，因?yàn)橹渭?設(shè)置在下對(duì)焦燈4上，所以下對(duì)焦燈4整體移動(dòng)也帶動(dòng)了支撐架8和反射撥片9移動(dòng)。在ITO膜厚測量完成之后，進(jìn)行上述相反的操作，將支撐架8和反射撥片9收回至下對(duì)焦燈4附近不影響機(jī)臺(tái)工作的位置即可。上述ITO膜厚測量過程是針對(duì)支撐架8設(shè)置在下對(duì)焦燈4上的情況而言，當(dāng)支撐架8設(shè)置在下對(duì)焦燈4 一側(cè)的對(duì)焦燈固定軸2上時(shí)，可以先進(jìn)行測量對(duì)焦，再由移動(dòng)控制模塊控制支撐架8升降和旋轉(zhuǎn)，同時(shí)帶動(dòng)反射撥片9升降和旋轉(zhuǎn)，使反射撥片9移動(dòng)至最靠近ITO膜7且不傷害到ITO膜7的距離；然后移動(dòng)下對(duì)焦燈4，使之位于反射撥片9下方，即可進(jìn)行ITO膜厚的測量。由以上實(shí)施例可以看出，本實(shí)用新型在下對(duì)焦燈周圍增設(shè)了一塊鋁制金屬反射撥片，依托支撐架對(duì)反射撥片進(jìn)行位置移動(dòng)，在進(jìn)行玻璃基板下方ITO膜厚測量時(shí)，將反射撥片移動(dòng)至下對(duì)焦燈上方，并靠近ITO膜，使得透過ITO膜的光可以經(jīng)由反射撥片反射，供CCD獲取；鋁制金屬反射撥片，表面光滑，反射率高，價(jià)格便宜；并且反射撥片位置可調(diào)，在不進(jìn)行玻璃基板下方ITO膜厚測量時(shí)，可將反射撥片調(diào)至不影響機(jī)臺(tái)工作的位置，提高機(jī)臺(tái)空間利用率；該裝置同時(shí)還能對(duì)玻璃基板上方ITO膜厚進(jìn)行測量，實(shí)時(shí)監(jiān)測ITO生產(chǎn)線的生產(chǎn)工藝流程，及時(shí)發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)產(chǎn)品中的不良，提高生產(chǎn)效率。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種膜厚測量裝置，包括機(jī)臺(tái)，分別安裝在機(jī)臺(tái)的兩個(gè)對(duì)焦燈固定軸端部的上對(duì)焦燈和下對(duì)焦燈；所述上對(duì)焦燈和下對(duì)焦燈相對(duì)設(shè)置，并分別位于待測膜所在產(chǎn)線的上下兩側(cè)；所述上對(duì)焦燈還連接有CCD ;其特征在于，所述下對(duì)焦燈上方設(shè)置有可移動(dòng)的反射撥片。
2.如權(quán)利要求I所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述下對(duì)焦燈上或者其一側(cè)的對(duì)焦燈固定軸上設(shè)置有支撐架，支撐架上安裝所述反射撥片。
3.如權(quán)利要求I所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述反射撥片為金屬片。
4.如權(quán)利要求3所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述反射撥片為鋁片。
5.如權(quán)利要求2所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述支撐架為旋轉(zhuǎn)升降支架，以帶動(dòng)所述反射撥片旋轉(zhuǎn)或豎直移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求5所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述支撐架連接移動(dòng)控制模塊，由移動(dòng)控制模塊控制支撐架的旋轉(zhuǎn)升降。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種膜厚測量裝置，包括機(jī)臺(tái)，分別安裝在機(jī)臺(tái)兩對(duì)焦燈固定軸端部的上對(duì)焦燈和下對(duì)焦燈；兩對(duì)焦燈相對(duì)設(shè)置，并分別位于待測膜所在產(chǎn)線的上下兩側(cè)；上對(duì)焦燈還連接有CCD；下對(duì)焦燈上方設(shè)置有可移動(dòng)的反射撥片。本實(shí)用新型中，反射撥片為鋁制金屬片，由支撐架支撐和移動(dòng)，以反射透過待測膜的光，進(jìn)行基板下方膜厚測量；鋁制反射撥片，表面光滑，反射率高，價(jià)格便宜；反射撥片位置可調(diào)，在不進(jìn)行膜厚測量時(shí)，可將其調(diào)至不影響機(jī)臺(tái)工作的位置，提高機(jī)臺(tái)空間利用率；該裝置同時(shí)還能對(duì)基板上方膜厚進(jìn)行測量，實(shí)時(shí)監(jiān)測產(chǎn)線的生產(chǎn)工藝流程，及時(shí)發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)產(chǎn)品中的不良，提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)G01B11/06GK202485638SQ20122011206
公開日2012年10月10日 申請日期2012年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月22日
發(fā)明者唐華, 姜仔達(dá), 趙冉 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司