專利名稱：光譜分析試塊模具的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種鑄造模具結構，尤其涉及一種成型質量好，脫模方便快捷的光譜分析試塊模具。
背景技術：
為了鑒別鑄件的化學組成和相對含量，通常需要對鑄件進行光譜分析，為此需在同等條件下澆注制作分析試塊，但現(xiàn)有的光譜分析試塊模具結構復雜，分析試塊成型質量差，由此分析試塊無法準確反映鑄件的組份及含量，影響了光譜分析的準確性。中國專利公開了一種制作光譜分析樣品的模具(CN201965047U)，它包括底板、轉軸、左半模和右半模，轉軸垂直設在底板上，左、右半模的同一端鉸接在轉軸上，其中左半模和右半模的型腔中相應設有凹入的臺階，臺階的位置位于各自型腔側壁的上部。此裝置中的左、右半模是通過轉軸鉸接在底板上，雖然結構相對簡單，但澆注時，左、右半模極易向兩 側脹開，從而無法確保分析試塊的成型質量，且脫模時需解開左、右半模上的鎖緊結構并同時向外展開，費時費力，工人勞動強度高，工作效率低。
發(fā)明內容本實用新型主要是提供了一種定位準確，分析試塊成型質量好，且脫模方便快捷的光譜分析試塊模具，解決了現(xiàn)有技術中存在的分析試塊成型質量差，脫模費時費力，工作效率低等的技術問題。本實用新型的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的一種光譜分析試塊模具，包括底板及設于底板上的左半模和右半模，左半模、右半模和底板共同圍合成試塊型腔，在所述底板的上表面設有水平滑槽，對接后的左半模和右半模通過水平滑槽夾緊固定在底板上。通過在底板上設置水平滑槽，并將對接后的左、右半模對稱夾持在水平滑槽內，即水平滑槽限定了左、右半模的位置，這樣在澆注時，左、右半模即無法向外脹開，從而保證了分析試塊的成型質量，脫模時使左、右半模沿水平滑槽向外滑出即可，方便快捷，省時省力。作為優(yōu)選，在所述左半模上對應于右半模的配合面的一端設有前縱向開口槽，在右半模上設有與前縱向開口槽互配的前縱向凸臺，在左半模上對應于右半模的配合面的另一端設有后縱向凸臺，在右半模上設有與后縱向凸臺互配的后縱向開口槽。通過在左、右半模的配合面上設置互配的縱向凸臺和縱向開口槽，避免左、右半模出現(xiàn)前后錯位現(xiàn)象，保證了分析試塊的成型質量。左半模與右半模對接后可以是圓柱形、多棱柱等各種形狀，作為優(yōu)選，所述左半模與右半模對接后為長方體結構，且左半模和右半模相對水平滑槽的中心面呈中心對稱分布。長方體結構易加工，且方便在水平滑槽內定位夾緊，左、右半模呈中心對稱分布時，通用性好，節(jié)約制作成本。作為優(yōu)選，所述水平滑槽為水平通槽。水平通槽便于左、右半模自兩側滑出后進行脫模。作為優(yōu)選，所述試塊型腔的軸心線與水平滑槽的底面垂直，且試塊型腔在左半模和右半模上呈對稱分布。確保試塊完全白口化，且化學成分分布均勻，提高檢測結果準確性。因此，本實用新型的光譜分析試塊模具具有下述優(yōu)點通過在底板上設置水平滑槽夾持左、右半模，澆注時，水平滑槽即限定了左、右半模向外脹開，從而保證了分析試塊的成型質量，且左、右半模沿水平滑槽向兩側滑出即可脫模，方便快捷，省時省力；通過在左、右半模的配合面上設置互配的縱向凸臺和縱向開口槽，避免左、右半模出現(xiàn)前后錯位現(xiàn)象，進一步保證了分析試塊的成型質量。


圖I是本實用新型光譜分析試塊模具的結構示意圖。
具體實施方式
下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。實施例如圖I所示，本實用新型的一種光譜分析試塊模具，包括一塊方形的底板1，在底板I的中部橫向開有一條水平滑槽4，水平滑槽4的兩端與底板I的端面相導通，在水平滑槽4的底面上垂直放置了一個左半模2和一個右半模3，左半模2和右半模3對接，兩者對接后為長方體結構，且左半模2和右半模3相對水平滑槽4的中心面呈中心對稱分布，其中左半模2、右半模3和底板I共同圍合成試塊型腔9，試塊型腔9的軸心線與水平滑槽4的底面垂直，且試塊型腔9在左半模2和右半模3上呈對稱分布，在左半模2上對應于右半模3的配合面的前端開有一個前縱向開口槽5，在右半模3上開有一個與前縱向開口槽5互配的前縱向凸臺6，在左半模2上對應于右半模3的配合面的后端開有一個后縱向凸臺7，在右半模3上開有一個與后縱向凸臺7互配的后縱向開口槽8，左半模2的外側平行抵接在水平滑槽4的左邊沿上，右半模3的外側平行抵接在水平滑槽4的右邊沿上，使對接后的左半模2和右半模3夾緊固定在底板I上的水平滑槽4內。本文中所描述的具體實施例僅僅是對本實用新型的構思作舉例說明。本實用新型所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本實用新型的精神或者超越所附權利要求書所定義的范圍。
權利要求1.一種光譜分析試塊模具，包括底板(I)及設于底板(I)上的左半模(2)和右半模(3),左半模(2)、右半模(3)和底板(I)共同圍合成試塊型腔(9)，其特征在于在所述底板(I)的上表面設有水平滑槽(4)，對接后的左半模(2)和右半模(3)通過水平滑槽(4)夾緊固定在底板(I)上。
2.根據(jù)權利要求I所述的光譜分析試塊模具，其特征在于在所述左半模(2)上對應于右半模(3)的配合面的一端設有前縱向開口槽(5)，在右半模(3)上設有與前縱向開口槽(5)互配的前縱向凸臺(6)，在左半模(2)上對應于右半模(3)的配合面的另一端設有后縱向凸臺(7)，在右半模(3)上設有與后縱向凸臺(7)互配的后縱向開口槽(8)。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的光譜分析試塊模具，其特征在于所述左半模(2)與右半模(3)對接后為長方體結構，且左半模(2)和右半模(3)相對水平滑槽(4)的中心面呈中心對稱分布。
4.根據(jù)權利要求I或2所述的光譜分析試塊模具，其特征在于所述水平滑槽(4)為水平通槽。
5.根據(jù)權利要求I或2所述的光譜分析試塊模具，其特征在于所述試塊型腔(9)的軸心線與水平滑槽(4)的底面垂直，且試塊型腔(9)在左半模(2)和右半模(3)上呈對稱分布。
專利摘要本實用新型公開了一種鑄造模具結構，提供了一種結構簡單，定位準確光譜分析試塊模具，解決了現(xiàn)有技術中存在的冷鐵易出現(xiàn)跑位現(xiàn)象，并因此導致冷鐵偏離工藝要求的位置而起不到冷卻作用等的技術問題，它包括模具及設在模具表面的冷鐵，在所述模具上設有磁鐵，冷鐵通過磁鐵磁性吸附固定在模具的表面。
文檔編號G01N1/28GK202715773SQ20122043480
公開日2013年2月6日 申請日期2012年8月30日 優(yōu)先權日2012年8月30日
發(fā)明者孫袁 申請人:桐鄉(xiāng)合德機械有限公司