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      用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的x射線系統(tǒng)和方法

      文檔序號:6175498閱讀:162來源:國知局
      用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的x射線系統(tǒng)和方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種X射線系統(tǒng)(1)、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)(1),具有X射線源(4)、與X射線源(4)對應(yīng)的用于采集檢查對象(P)的投影數(shù)據(jù)(PD)的投影探測器裝置(7)、和用于測量X射線輻射(X)的當前的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)的監(jiān)視探測器(8),所述監(jiān)視探測器構(gòu)造和布置為,其探測不是通過檢查對象(P)行進的X射線輻射(X)的部分。在此重要的是,所述監(jiān)視探測器(8)構(gòu)造為能量分辨的探測器。此外本發(fā)明還描述了一種用于借助X射線系統(tǒng)(1)采集檢查對象(P)的投影數(shù)據(jù)(PD)的方法以及一種用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)(BD)的方法。
      【專利說明】用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的X射線系統(tǒng)和方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種X射線系統(tǒng)、特別是計算機斷層成像系統(tǒng),具有X射線源、與X射線源對應(yīng)的用于采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)的投影探測器裝置,和用于測量X射線源的X射線輻射的當前的劑量測量數(shù)據(jù)的監(jiān)視探測器,其中,監(jiān)視探測器構(gòu)造和布置為使得其探測不是通過檢查對象行進的X射線輻射的部分。此外本發(fā)明還涉及一種用于借助X射線系統(tǒng)采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)的方法以及一種用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]計算機斷層成像基于當在電子管上施加特定的電壓時由電子管發(fā)射的X射線輻射。發(fā)射的X射線輻射的能量或確切來說是能量譜在此取決于施加的管電壓,而X射線強度取決于施加的電流強度。X射線輻射的發(fā)射帶有一定的延遲地跟隨于在管上建立電壓和電流強度之后。施加的電壓或電流強度和然后給出的韌致輻射通常不具有互相成比例的啟動和衰減特性。由此可以確定在基于施加的電壓而確定的X射線輻射能量和實際的X射線輻射能量之間以及在基于施加的電流而計算的X射線強度和實際的X射線強度之間的差異。這些差異例如可能通過電子管的運行時間并且由于老化過程而經(jīng)受其他改變。
      [0003]在X射線管附近測量所發(fā)射的X射線輻射的強度的監(jiān)視探測器形成在計算機斷層成像中建立的用于測量輻射輸出中的強度波動的技術(shù)。與CT掃描儀的用來獲得投影數(shù)據(jù)的主探測器一致地,其完成對X射線強度的監(jiān)視并且獲得對于主探測器的測量數(shù)據(jù)的校正的數(shù)據(jù)。通常的監(jiān)視探測器構(gòu)造為能量累計的探測器,其在特定的測量時間段中積累擊中的X射線光子的電荷。該 測量方法例如在所謂的雙能量計算機斷層成像的情況下具有局限,所述雙能量計算機斷層成像為了改進成像的目的利用快速交變的電壓和/或電流強度控制X射線管并且由此產(chǎn)生具有不同能量譜的X射線輻射。特別是在具有快速電壓切換的這些方法中,由于在X射線源上的電壓建立的時間上的延遲而發(fā)生根據(jù)所施加的電壓確定的X射線輻射能量和實際的當前X射線輻射能量之間的特別強的差異并且結(jié)果發(fā)生在成像中的或在此基礎(chǔ)上的分析中的錯誤。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]由此本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是,改進計算機斷層成像系統(tǒng),使得實現(xiàn)檢查對象的成像的改善和精確化。
      [0005]按照本發(fā)明的X射線系統(tǒng)具有至少一個X射線源、與X射線源對應(yīng)的用于采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)的投影探測器裝置和用于測量由X射線源在運行中發(fā)出的X射線輻射的當前劑量測量數(shù)據(jù)的監(jiān)視探測器。監(jiān)視探測器構(gòu)造和布置為使得其探測不是通過檢查對象行進的X射線輻射的部分。X射線系統(tǒng)與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別在于監(jiān)視探測器構(gòu)造為能量分辨的探測器。
      [0006]術(shù)語“X射線系統(tǒng)”特別地理解為一種計算機斷層成像系統(tǒng),但是其也可以包括簡單的X射線設(shè)備或血管成像設(shè)備。X射線源優(yōu)選是X射線管,其特別優(yōu)選可以按照雙能量或多能量原理工作。由此利用至少兩個不同的電壓電平表示對X射線管的控制,該控制導(dǎo)致發(fā)射X射線韌致輻射的不同能量或不同波長的X射線輻射。術(shù)語X射線輻射的“能量”(以下也稱為“X射線能量”或“X射線輻射能量”)在此理解為能量分布或能量譜。能量譜在此通過X射線能量的值表示,其通常形成能量譜的最大值或平均值。在此X射線能量通常作為在X射線管上調(diào)整的管電壓的電壓值給出。在具有雙能量功能的計算機斷層成像系統(tǒng)中應(yīng)用的典型的能量譜例如是SOkV和140kV。在此這樣構(gòu)造X射線管,使得其上施加的電壓和必要時還有電流在短的時間間隔中可以在至少兩個值之間并且由此X射線輻射可以在兩個相應(yīng)的能量譜之間切換。計算機斷層成像系統(tǒng)的X射線源的該運行以術(shù)語“快速kVp切換(fast kVp switching)” 或“快速 kVp/mA 切換(fast kVp/mA switching)” 命名。
      [0007]投影探測器裝置形成X射線系統(tǒng)的主探測器并且可以在運行中確定布置在測量場或測量空間中的檢查對象的投影數(shù)據(jù)。在X射線投影數(shù)據(jù)的典型的采集中X射線源發(fā)射輻射,其中借助遮光板形成扇形X射線或錐形X射線,其在X射線光子穿過檢查對象的主入射方向上投影到投影探測器裝置上。X射線輻射在此可以取決于檢查對象的厚度和材料而局部不同地由所述檢查對象吸收。在測量過程中通過檢查對象擴散的X射線輻射的劑量可以空間分辨地通過投影探測器裝置的多個探測器元件測量。這樣測量的投影數(shù)據(jù)可以包括關(guān)于輻射的局部衰減的信息。由此作為原始數(shù)據(jù)理解的投影數(shù)據(jù)形成對于檢查對象的圖像數(shù)據(jù)的產(chǎn)生基礎(chǔ)。
      [0008]用于采集當前劑量測量數(shù)據(jù)的監(jiān)視探測器構(gòu)造為測量X射線源所發(fā)射的X射線劑量,而投影探測器裝置進行檢查對象的投影數(shù)據(jù)的采集。監(jiān)視探測器和投影探測器裝置由此優(yōu)選構(gòu)成X射線輻射的同時測量。兩種探測器在X射線系統(tǒng)中優(yōu)選面向X射線源布置。為了探測不是通過檢查對象行進的X射線輻射,監(jiān)視探測器優(yōu)選這樣定位,使得檢查對象或另一個對象不能,例如由于操作錯誤,處于在X射線源和監(jiān)視探測器之間的空間中。例如監(jiān)視探測器可以布置在X射線源附近。X射線源優(yōu)選具有X射線輻射的均勻的發(fā)射特性,從而對于每個單位面積,發(fā)射的X射線輻射的劑量分別相同。這在投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)的可比性的意義上證明是有利的。如投影數(shù)據(jù)那樣,劑量測量數(shù)據(jù)也形成未處理的原始數(shù)據(jù)。
      [0009]不是通過定位在X射線系統(tǒng)的測量空間中的檢查對象行進的X射線輻射例如可以是未衰減的X射線輻射。未衰減的輻射例如在所謂的空氣掃描(空氣拍攝),即穿過周圍空氣的X射線投影的情況下被用于校準X射線系統(tǒng)。
      [0010]能量分辨的監(jiān)視探測器可以區(qū)分具有至少兩個不同能量的X射線輻射。這意味著,其可以與擊中的X射線光子分離地對于至少兩個不同的能量范圍采集劑量值。關(guān)于X射線光子的能量的信息可以允許推導(dǎo)出在發(fā)射X射線光子的時刻實際上在X射線源上施加的電壓。例如通過X射線源的啟動和/或衰減特性引起的該實際的電壓可以與額定電壓區(qū)另IJ。計算的實際電 壓值可以與在與劑量測量數(shù)據(jù)相同的時刻采集的投影數(shù)據(jù)對應(yīng)。這在具有“快速kVp切換”的X射線源的運行中是特別有利的,因為在特定的時刻實際上在X射線源上施加的電壓不可以在X射線源本身上被測量。借助能量分辨的監(jiān)視探測器由此可以至少區(qū)分低的和相對高的電壓。此外優(yōu)選地可以確定與額定電壓值偏離的實際電壓值。通過能量分辨的監(jiān)視探測器提供的測量數(shù)據(jù)可以在后面的數(shù)據(jù)處理和圖像重建鏈中被有利地利用,例如在校正步驟的細調(diào)情況下。本發(fā)明超越現(xiàn)有技術(shù),這通過如下實現(xiàn):能量分辨地進行測量的監(jiān)視探測器允許對發(fā)射的X射線輻射的更精確測量并且由此可以產(chǎn)生成像的改善。
      [0011]按照本發(fā)明的用于借助包括了至少一個X射線源的X射線系統(tǒng)采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)的方法與所描述的裝置一致。X射線系統(tǒng)特別地可以是計算機斷層成像系統(tǒng),但是也可以構(gòu)造為例如簡單的X射線設(shè)備或血管造影設(shè)備。方法包括借助與X射線源對應(yīng)的投影探測器裝置采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)和借助監(jiān)視探測器采集X射線輻射的不是通過檢查對象行進的部分的當前劑量測量數(shù)據(jù)的至少一個步驟。按照本發(fā)明的方法的一個主要特征在于,當前劑量測量數(shù)據(jù)的測量以能量分辨的方式進行。單獨的數(shù)據(jù)采集的提到的步驟優(yōu)選同時進行,例如通過將以投影探測器裝置和監(jiān)視探測器進行的測量過程同步化來進行。不是通過在X射線系統(tǒng)的測量空間中定位的檢查對象行進的X射線輻射例如可以是未衰減的X射線輻射。
      [0012]本發(fā)明此外還包括一種用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的方法,該方法包括至少在以下描述的方法步驟。為此首先提供在前面的步驟中借助X射線系統(tǒng)的投影探測器裝置采集的投影數(shù)據(jù)。X射線系統(tǒng)在此仍然特別地理解為計算機斷層成像系統(tǒng)。此外還提供借助監(jiān)視探測器對X射線輻射的不是通過檢查對象行進的部分在能量分辨的測量中采集的當前劑量測量數(shù)據(jù)。此外這些方法步驟包括基于投影數(shù)據(jù)在使用監(jiān)視探測器的劑量測量數(shù)據(jù)的條件下產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)。
      [0013]投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)在其通過單獨的測量裝置被采集之后的提供可以通過從測量裝置到X射線系統(tǒng)的控制裝置的數(shù)據(jù)傳輸進行。該提供同樣可以通過其到中間存儲器中的傳輸來進行,在所述中間存儲器中其提供用于進一步的數(shù)據(jù)處理并且可以被調(diào)用以用于執(zhí)行任意的方法步驟。圖像數(shù)據(jù)可以按照已知的圖像產(chǎn)生方法的應(yīng)用從投影數(shù)據(jù)中獲得。圖像數(shù)據(jù)可以包括檢查對象的例如以截面圖、三維圖像或甚至四維圖像(具有時間分量)的形式的圖像并且將其在顯示器例如屏幕上顯示。與投影數(shù)據(jù)同時采集的當前劑量測量數(shù)據(jù)的使用在圖像數(shù)據(jù)的產(chǎn)生時可以如所描述那樣得到圖像數(shù)據(jù)的精確化和/或校正。當前劑量測量數(shù)據(jù)的使用可以這樣進行,使得從中確定校正系數(shù),所述校正系數(shù)在從投影數(shù)據(jù)產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)時被考慮。附加地可以從劑量測量數(shù)據(jù)中獲得關(guān)于X射線光子的能量和/或關(guān)于X射線源的實際電壓的信息,其例如可以集成在圖像數(shù)據(jù)的文件頭中,所述圖像數(shù)據(jù)從投影數(shù)據(jù)產(chǎn)生。在該情況下圖像數(shù)據(jù)間接包含從劑量測量數(shù)據(jù)獲得的信息。圖像數(shù)據(jù)的產(chǎn)生可以在圖像產(chǎn)生單元中進行,所述圖像產(chǎn)生單元又可以是控制裝置的組成部分??刂蒲b置的一些部分,例如用于從投影數(shù)據(jù)中在使用劑量測量數(shù)據(jù)的條件下重建圖像數(shù)據(jù)的重建裝置,也可以作為軟件在合適的計算機單元上實現(xiàn),即,不必純硬件地實現(xiàn)。
      [0014]盡可能按照軟件的實現(xiàn)具有優(yōu)點,即,已經(jīng)存在的X射線系統(tǒng)可以以簡單的方式通過軟件更新來裝備,以便以按照本發(fā)明的方式工作。就此而言上述技術(shù)問題還通過一種計算機程序產(chǎn)品解決,所述計算機程序產(chǎn)品可以直接加載到X射線系統(tǒng)的、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)的可編程控制裝置和/或圖像產(chǎn)生單元的存儲器中,該計算機程序產(chǎn)品具有程序代碼資源,用于當程序產(chǎn)品在控制裝置和/或圖像產(chǎn)生單元上運行時執(zhí)行按照本發(fā)明的方法的所有步驟。
      [0015]本發(fā)明的其他、特別有利的構(gòu)造和擴展從從屬權(quán)利要求以及從以下描述中得到,其中一類權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求也可以類似于另一類權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求來擴展。[0016]按照一種優(yōu)選實施方式,按照本發(fā)明的X射線系統(tǒng)具有控制裝置,所述控制裝置構(gòu)造為使得其在運行中將投影探測器裝置和監(jiān)視探測器控制為同步地、優(yōu)選時間上并行地采集投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)。術(shù)語X射線系統(tǒng)的“運行”表示一種功能狀態(tài),在該功能狀態(tài)中裝置的所有元件和由此還有控制裝置是激活的并且執(zhí)行所限定的流程,該流程導(dǎo)致采集期望的數(shù)據(jù)組。
      [0017]投影探測器裝置和監(jiān)視探測器通過控制裝置的控制可以借助時鐘信號或通過觸發(fā)器進行,其中為此可以使用特殊的觸發(fā)器單元或?qū)τ诒O(jiān)視探測器一起使用本來為了控制投影探測器裝置而使用的觸發(fā)器單元。優(yōu)選地控制裝置還這樣控制X射線源,使得X射線輻射的發(fā)射與通過投影探測器裝置和監(jiān)視探測器的測量、即原始數(shù)據(jù)采集同步。投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)的同步的和優(yōu)選同時的采集提供優(yōu)點,即,劑量測量數(shù)據(jù)可以精確地與在發(fā)射X射線輻射之后在一個相同的時刻采集的那些投影數(shù)據(jù)對應(yīng)。特別是在X射線管上的電壓之間快速切換的情況下例如在“快速kVp切換”情況下,該對應(yīng)在后面的數(shù)據(jù)處理過程中形成在采集的投影數(shù)據(jù)或在此基礎(chǔ)上的圖像數(shù)據(jù)的進一步處理中的稍后校正和/或精確化的基礎(chǔ)。
      [0018]優(yōu)選地這樣構(gòu)造X射線系統(tǒng)的所描述的控制裝置,使得由投影探測器裝置采集的投影數(shù)據(jù)和/或基于投影數(shù)據(jù)重建的圖像數(shù)據(jù)與由監(jiān)視探測器在時間上與之相關(guān)地采集的劑量測量數(shù)據(jù)或在此基礎(chǔ)上的能量數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)。如已經(jīng)解釋的,投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)通過單獨的測量裝置互相分離地被采集。這些原始數(shù)據(jù)既可以單獨地被進一步處理也可以在處理的不同的中間級被組合或相關(guān)聯(lián)。投影數(shù)據(jù)相應(yīng)地可以通過使用劑量測量數(shù)據(jù)或不使用劑量測量數(shù)據(jù)被處理為圖像數(shù)據(jù)。劑量測量數(shù)據(jù)可以與投影數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)或單獨地被處理為能量數(shù)據(jù)。“能量數(shù)據(jù)”理解為包括了關(guān)于在測量時刻擊中監(jiān)視探測器的X射線光子的能量的信息的數(shù)據(jù)。其可以被進一步處理為包括了關(guān)于在發(fā)射X射線輻射的時刻在X射線源上施加的實際電壓的信息的數(shù)據(jù)。關(guān)聯(lián)過程可以融入到相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)的立即處理中或中間存儲器中的相關(guān)聯(lián)的存儲中。
      [0019]投影數(shù)據(jù)或圖像數(shù)據(jù)可以按照任意方式與劑量測量數(shù)據(jù)或能量數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián),例如共同存儲或通過指針進行鏈接。數(shù)據(jù)的關(guān)聯(lián)例如可以在作為控制裝置的組成部分的組合單元中進行。關(guān)聯(lián)過程證明是有利的,方法是,該過程形成同時采集的投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)的正確對應(yīng)的前提條件并且由此形成對于檢查對象的改善的成像的前提條件。
      [0020]按照一種優(yōu)選實施方式,X射線系統(tǒng)具有圖像產(chǎn)生單元,其這樣構(gòu)造,使得其基于投影數(shù)據(jù)產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù),其中除了投影數(shù)據(jù)之外使用在時間上相關(guān)地采集的劑量測量數(shù)據(jù)或在此基礎(chǔ)上的能量數(shù)據(jù)。圖像產(chǎn)生單元例如可以執(zhí)行從投影數(shù)據(jù)重建圖像數(shù)據(jù),其中直接在重建中采用劑量測量數(shù)據(jù)或能量數(shù)據(jù)。為此重建單元必須相應(yīng)地構(gòu)造,以便能夠處理劑量測量數(shù)據(jù)或能量數(shù)據(jù)。替換地或附加地,也可以在重建的圖像與相對應(yīng)的(正確的)能量數(shù)據(jù)對應(yīng)之后,進行從已經(jīng)重建的圖像中產(chǎn)生正確的混合圖像。其也可以構(gòu)造為將相關(guān)的能量數(shù)據(jù)分別集成到圖像數(shù)據(jù)的文件頭中。圖像產(chǎn)生單元的組成部分可以是重建單元,圖像產(chǎn)生單元本身可以是控制裝置的組成部分。圖像產(chǎn)生單元提供將測量數(shù)據(jù)進一步處理為圖像數(shù)據(jù)的優(yōu)點,所述圖像數(shù)據(jù)對于用戶來說例如可以通過屏幕簡單分析。
      [0021]優(yōu)選地X射線系統(tǒng) 的監(jiān)視探測器布置在面向X射線源的遮光板的區(qū)域中。X射線源在運行中向所有側(cè)面發(fā)射X射線輻射。遮光板優(yōu)選布置在X射線源和投影探測器裝置之間并且特別優(yōu)選布置在緊靠X射線源。遮光板可以具有開口,其邊緣限定扇形X射線或錐形X射線的側(cè)向伸展,所述射線由X射線源通過遮光板開口進入測量場中并且朝著投影探測器裝置行進。而遮光板的封閉區(qū)域可以阻止X射線輻射的傳播。監(jiān)視探測器可以在從X射線源指向投影探測器裝置的光子主入射方向上定位在遮光板之前或之后,或者可以集成到遮光板裝置中。監(jiān)視探測器的探測面相應(yīng)地優(yōu)選小于并且特別優(yōu)選地以數(shù)倍小于投影探測器裝置的探測面。術(shù)語“光子主入射方向”在本上下文中表示從X射線源到投影探測器裝置的直接射線方向。監(jiān)視探測器優(yōu)選在每種布置中直接被施加X射線輻射。擊中的X射線輻射可以是“未衰減的”,由此表示,衰減僅通過周圍空氣引起。由此,在監(jiān)視探測器的在光子主入射方向上位于遮光板后面的位置中,遮光板優(yōu)選具有允許以X射線輻射直接施加到監(jiān)視探測器的開口。監(jiān)視探測器的按照本發(fā)明的布置證明是有利的,因為在緊靠X射線源處在監(jiān)視探測器上入射的X射線輻射的不期望的衰減得到降低。
      [0022]按照X射線系統(tǒng)的一種替換的優(yōu)選構(gòu)造,監(jiān)視探測器定位在投影探測器裝置上或者集成到投影探測器裝置中。例如監(jiān)視探測器可以這樣布置在投影探測器裝置的探測器面的邊緣區(qū)域旁邊或其中,使得通過遮光板開口入射到測量場中的扇形X射線以與按照投影探測器裝置形式的主探測器相同的強度到達監(jiān)視探測器。該實施方式提供優(yōu)點,即,不需要另一個探測器元件的單獨布置。由此可以降低X射線系統(tǒng)的復(fù)雜性。原則上X射線系統(tǒng)可以包括多個相同或不同構(gòu)造的監(jiān)視探測器。
      [0023]優(yōu)選地,監(jiān)視探測器包括至少兩個能量累計的探測器元件,在其之上游分別連接不同的輻射濾波器。能量累計的X射線探測器可以這樣構(gòu)造,使得其在特定的測量時間段期間對所有擊中的X射線光子不取決于其各自的能量地確定劑量或總和,只要能量和劑量位于探測器的測量區(qū)域中。X射線輻射劑量的探測間接通過在探測器中釋放的、在那里轉(zhuǎn)換為電子的X射線光子的電荷的測量進行。用于X射線輻射的濾波的光譜濾波器可以阻擋輻射譜的特定分量、即波 長范圍。
      [0024]優(yōu)選在光子主入射方向上在能量累計的探測器元件的上游連接輻射濾波器,其阻止至少兩個不同的輻射譜。特別優(yōu)選地,第一輻射濾波器吸收低能量的(軟的,即相對長波長的)X射線輻射,第二輻射濾波器吸收相對高能量的(硬的,即相對短波長的)X射線輻射。輻射濾波器的不同構(gòu)造特別優(yōu)選地對于高的能量分離而構(gòu)造。合適的輻射濾波器例如包括構(gòu)造材料鋁、錫或鉬并且與其吸收強度無關(guān)地具有特定的厚度。
      [0025]這樣的構(gòu)造方式的優(yōu)點在于,能量集成的X射線探測器可以照明高的照射強度并且是成本低的。不同的輻射濾波器的按照本發(fā)明的使用允許X射線輻射的能量分辨的測量。低能量的X射線輻射由為了吸收低能量的X射線輻射而構(gòu)造的濾波器這樣來濾波,使得在X射線光子的主入射方向上布置在其下游的探測器元件上僅可以測量微小的電子流。在上游連接有輻射濾波器的、構(gòu)造為用于吸收高能量的X射線輻射的探測器元件上在此同時可以測量高的電子流。在兩個探測器元件上的電子流速率的均衡使得可以實現(xiàn)在投影探測器裝置和監(jiān)視探測器的同步測量的情況下將通過投影探測器裝置采集的數(shù)據(jù)集與實際上在該時刻或在測量的時間段中在X射線管上施加的電壓對應(yīng)。
      [0026]替換提到的能量累計的探測器元件,X射線系統(tǒng)的監(jiān)視探測器優(yōu)選包括至少一個光子計數(shù)的探測器元件,其具有至少兩個不同的能量閾值。能量閾值確定擊中探測器元件的X射線光子的配準。優(yōu)選這樣構(gòu)造探測器元件,使得其互相分離地計數(shù)具有在第一能量閾值和第二能量閾值之間的能量的X射線光子和具有比第二能量閾值高的能量的X射線光子,其中第二能量閾值比第一能量閾值高。至少兩個能量閾值優(yōu)選在高的能量分離的意義上互相遠離地選擇并且例如對應(yīng)于與施加到X射線管的80kV和120kV的電壓相應(yīng)的能量水平。X射線光子的計數(shù)間接進行,方法是,探測器元件將X射線光子轉(zhuǎn)換為電子,其釋放的電荷被測量。監(jiān)視探測器可以包括多個光子計數(shù)的探測器元件。監(jiān)視探測器的優(yōu)選的實施方式提供優(yōu)點:精確測量由X射線源發(fā)射的并且在主入射方向上擊中監(jiān)視探測器的探測器面的X射線光子。監(jiān)視探測器的探測器元件的不同的能量閾值使得可以能量分辨地測量入射的X射線輻射。由此可以非常精確地計算分別在特定的測量時刻在X射線管上施加的有效或?qū)嶋H電壓。
      [0027]替換監(jiān)視探測器的所述兩個構(gòu)造方式,其優(yōu)選可以具有兩個探測器類型的組合,從而其包括至少兩個探測器元件,所述探測器元件在光子主入射方向上先后布置,其中每個探測器元件構(gòu)造為能量累計的或光子計數(shù)的。光子主入射方向與監(jiān)視探測器的探測器面垂直或成角度。原則上監(jiān)視探測器可以包括多個探測器層和/或多個多層的探測器元件。優(yōu)選地,其包括一個至少兩層的探測器元件,它們構(gòu)造為,至少兩個探測器層測量入射的X射線輻射的不同能量譜。即探測器元件可以包括能量累計的探測器的層和光子計數(shù)的探測器的層,它們可以在光子主入射方向上任意布置。在此原則上兩個層可以針對低能量或高能量的X射線輻射的探測而構(gòu)造。優(yōu)選地,兩個探測器連續(xù)的組合這樣進行,使得入射的X射線光子的測量按照高的能量分離進行。監(jiān)視探測器的該構(gòu)造方式統(tǒng)一了能量累計的和光子計數(shù)的探測器類型的已經(jīng)描述的優(yōu)點。此外所述探測器類型的任意其他組合也是可以的。
      [0028]上面描述的按照本發(fā)明的、用于采集檢查對象的投影數(shù)據(jù)的方法優(yōu)選這樣構(gòu)造,使得其在測量過程期間或在兩個測量過程之間這樣控制X射線源,使得在不同的時間片段中利用不同的X射線能量采集投影數(shù)據(jù),并且基于監(jiān)視探測器的劑量測量數(shù)據(jù)分別確定不同的時間片段的能量數(shù)據(jù)。X射線源如提到的那樣優(yōu)選構(gòu)造為X射線管,其在兩個電壓和/或電流強度之間切換,從而其交替地確定低能量和高能量的X射線輻射。特別優(yōu)選地,該切換按照高的頻率進行。 作為測量過程,在本上下文中理解為對在空間的體積中行進的檢查對象的測量之和,如測量通常進行的那樣以產(chǎn)生其截面圖和/或體積圖像。在通過X射線源優(yōu)選交替發(fā)射低能量和高能量的X射線輻射的情況下可以單獨地確定并且單獨地累加或計算時間片段,在所述時間片段中在低能量輻射情況下采集投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)以及在相對高能量輻射情況下采集投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)。累加的時間片段然后可以對于X射線能量分別表示檢查對象的每個體積片段(或?qū)τ趩蝹€截面圖)的“曝光時間”。因為劑量測量數(shù)據(jù)是利用不是透過檢查對象的X射線輻射的部分來采集的,所以其可以作為參考用于評估同時采集的投影數(shù)據(jù)。在使用定義的計算方法的條件下將劑量測量數(shù)據(jù)處理為能量數(shù)據(jù)可以帶來關(guān)于如下的信息,哪些X射線能量在哪個時間片段中被測量。結(jié)果該方法可以實現(xiàn)與如下相同的正面效果:就好像在利用低能量的X射線輻射的第一封閉的測量過程中和在利用高能量的X射線輻射的第二封閉的測量過程中掃描檢查對象并且然后互相計算測量數(shù)據(jù)。但是一種方法(該方法的組成部分是按照本發(fā)明的方法)的優(yōu)點在于,對檢查對象的圖像質(zhì)量的負面影響明顯降低,該影響可以從檢查對象的運動產(chǎn)生,特別是當進行活的有機體、例如人或動物的活體內(nèi)掃描時。[0029]按照一種優(yōu)選實施方式,已經(jīng)提到的用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的方法包括直接在基于投影數(shù)據(jù)重建圖像數(shù)據(jù)時使用監(jiān)視探測器的劑量測量數(shù)據(jù)的步驟。圖像數(shù)據(jù)的重建在此理解為從投影數(shù)據(jù)中計算檢查對象的截面圖像數(shù)據(jù)和/或體積圖像數(shù)據(jù)。重建的圖像數(shù)據(jù)有利地可以包括檢查對象的校正的成像,其通過劑量測量數(shù)據(jù)的能量分辨的采集實現(xiàn)。例如校正的成像可以帶來在檢查對象內(nèi)部的結(jié)構(gòu)的更好的可區(qū)分性的優(yōu)點。提到的方法步驟可以在X射線系統(tǒng)的控制裝置中并且優(yōu)選在重建單元中進行和/或在控制裝置中的或連接到控制裝置上的數(shù)據(jù)處理單元(例如計算機系統(tǒng))中進行。在方法的不同的中間步驟中,數(shù)據(jù)集可以在存儲單元中中間存儲并且然后重新饋送給通過數(shù)據(jù)處理單元的處理鏈。
      [0030]用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的方法此外優(yōu)選還包括方法步驟,按照所述方法步驟,監(jiān)視探測器的劑量測量數(shù)據(jù)被用于產(chǎn)生能量數(shù)據(jù),并且能量數(shù)據(jù)在從圖像數(shù)據(jù)產(chǎn)生混合圖像數(shù)據(jù)時被使用。圖像數(shù)據(jù)在此事先從投影探測器裝置的、在不同的X射線能量的情況下被采集的投影數(shù)據(jù)中被重建。相對于方法的事先描述的構(gòu)造,在此在圖像數(shù)據(jù)的重建步驟之后進行從單獨采集的投影數(shù)據(jù)和劑量測量數(shù)據(jù)中產(chǎn)生的、進一步處理的數(shù)據(jù)的綜合?;旌蠄D像數(shù)據(jù)可以是校正的圖像數(shù)據(jù),其中對于校正過程,使用與對于X射線能量的當前值有關(guān)的能量數(shù)據(jù)。方法步驟可以在X射線系統(tǒng)的控制裝置中進行和/或在控制裝置中或連接到控制裝置上的數(shù)據(jù)處理單元中進行。在方法的不同的中間步驟中,數(shù)據(jù)集可以在存儲單元中中間存儲并且然后重新饋送給處理鏈。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0031]以下借助附圖根據(jù)實施例再次詳細解釋本發(fā)明。在不同的附圖中相同的組件具有相同的附圖標記。其中,
      [0032]圖1示出了按照第一實施方式的計算機斷層成像系統(tǒng)的示意圖,
      [0033]圖2示出了按照第二實施方式的計算機斷層成像系統(tǒng)的示意圖的部分圖,
      [0034]圖3示出了通過按照第一實施方式的計算機斷層成像系統(tǒng)的控制裝置處理數(shù)據(jù)的流程圖,
      [0035]圖4示出了通過按照第二實施方式的計算機斷層成像系統(tǒng)的控制裝置處理數(shù)據(jù)的流程圖,
      [0036]圖5示出了按照第一實施方式的監(jiān)視探測器的示意草圖,
      [0037]圖6示出了按照第二實施方式的監(jiān)視探測器的示意草圖。
      【具體實施方式】
      [0038]圖1示出具有用于在使用X射線輻射X的條件下獲得檢查對象P的投影數(shù)據(jù)ro的掃描儀2的計算機斷層成像系統(tǒng)I。檢查對象P在測量過程中定位在臺6上,該臺位于計算機斷層成像系統(tǒng)I的測量室3中。在測量室3的相對的側(cè)面上,互相面對地在掃描架上布置有X射線源4和用于測量X射線輻射X的投影探測器裝置7,其在計算機斷層成像系統(tǒng)I的運行中同心地圍繞測量室3運動,而不相對彼此運動。X射線源4在運行中發(fā)射X射線輻射X,所述X射線輻射在X射線源4的面向投影探測器裝置7的側(cè)面上部分地通過遮光板5吸收。遮光板5具有第一遮光板開口 50,通過所述遮光板開口,X射線福射X在光子主入射方向R上入射到測量室3中。X射線輻射X在其從遮光板5的第一遮光板開口 50出來之后稱為扇形X射線F。在遮光板5的相應(yīng)形狀的情況下也可以在從第一遮光板開口 50出來之后替換地形成錐形X射線。這樣確定第一遮光板開口 50的尺寸,使得扇形X射線F在擊中投影探測器裝置7的情況下施加至投影探測器裝置7的至少一個整個探測面。按照與X射線源4的微小距離,在X射線源4和遮光板5之間的區(qū)域中布置用于測量X射線輻射X的監(jiān)視探測器8。監(jiān)視探測器8面向X射線源4并且具有比投影探測器裝置7更小的探測面并且在運行狀態(tài)中由X射線輻射X,但是不由扇形X射線F到達。扇形X射線F作為整個X射線輻射X的部分對每個輻射空間角度單位、每個時間單位和在限定的時刻具有與X射線輻射X相同的強度和X射線能量。
      [0039]X射線源4在計算機斷層成像系統(tǒng)I的運行中發(fā)射具有至少兩個不同的能量譜(雙能量CT/多能量CT)的X射線輻射X,其中能量譜按照高的頻率交替或切換(“快速kVp切換”)。監(jiān)視探測器8具有至少兩個帶有對于X射線能量的不同敏感性的探測器元件。由此其可以執(zhí)行由X射線源4發(fā)射的X射線光子的能量分辨的測量。投影探測器裝置7具有多個用于產(chǎn)生在測量室3中布置的檢查對象P的投影數(shù)據(jù)H)的探測器元件。監(jiān)視探測器8在測量中產(chǎn)生關(guān)于在特定的測量時間段期間擊中其探測面的X射線輻射X的劑量的劑量測量數(shù)據(jù)DD。X射線輻射X在此僅通過環(huán)境空氣透射。在X射線輻射X由X射線源4通過檢查對象P投影之后,投影探測器裝置7產(chǎn)生關(guān)于在測量時間段期間擊中投影探測器裝置7的不同探測器元件的X射線輻射X的劑量的投影數(shù)據(jù)H)。
      [0040]計算機斷層成像系統(tǒng)I還包括用于處理數(shù)據(jù)和發(fā)射控制信號到掃描儀2的控制裝置10??刂蒲b置10與投影探測器裝置7和監(jiān)視探測器8相連。其此外通過接口 16與用于數(shù)據(jù)傳輸?shù)目偩€20相連。在總線20上一方面連接有具有屏幕22和操作單元23的用于數(shù)據(jù)處理的終端21,另一方面連接有大容量存儲器24??偩€20例如也可以連接到放射信息系統(tǒng)(RIS)。在所有在圖1中示出的計算機斷層成像系統(tǒng)I的元件、裝置和單元之間的連接構(gòu)造為用于發(fā)送和接收信號的電子雙路連接。
      [0041]控制裝置10包括具有同步單元12的測量控制單元11??刂蒲b置10構(gòu)造為,用于基于預(yù)先給出的、由操作者可選的并且可改變的測量協(xié)議自動控制整個CT系統(tǒng)以執(zhí)行特定的測量或以記錄特定的圖像數(shù)據(jù),其中由此也可以預(yù)先給出圖像數(shù)據(jù)的重建。原理性的測量方式是專業(yè)人員公知的并且在此不需要進一步解釋。測量單元11的同步單元12在此這樣控制X射線源4、投影探測器裝置7和監(jiān)視探測器8,使得X射線輻射X的發(fā)射和所發(fā)射的X射線輻射X通過探測器7、8的同時測量在所限定的時間間隔內(nèi)部進行。該控制通過由同步化單元12向X射線源4 (CS,)、向監(jiān)視探測器8 (CSm)以及向投影探測器裝置7 (CSp)發(fā)送時鐘信號CSK、CSM, CSp來進行。
      [0042]控制裝置10在此還包括用于將事先在共同的測量時間段中或在相同的測量時刻被采集的劑量測量數(shù)據(jù)DD和投影數(shù)據(jù)ro相關(guān)聯(lián)的組合單元15??刂蒲b置10還具有用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)BD的圖像產(chǎn)生單元14、用于從投影數(shù)據(jù)ro重建圖像數(shù)據(jù)BD的重建單元13。圖像數(shù)據(jù)BD包括檢查對象H)以截面圖形式的圖像并且可以在屏幕22上顯示。此外控制裝置10還具有接口 16,其將數(shù)據(jù)從控制裝置10傳輸?shù)娇偩€20。
      [0043]可以將在共同的測量時間段3中采集的劑量測量數(shù)據(jù)DD和投影數(shù)據(jù)H)在組合單元15中相關(guān)聯(lián)。它們也可以被直接傳輸?shù)街亟▎卧?3,所述重建單元從中可以產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)BD。按照另一個替換形式,圖像數(shù)據(jù)BD可以在不使用劑量數(shù)據(jù)DD或在此基礎(chǔ)上的能量數(shù)據(jù)ED的條件下從投影數(shù)據(jù)ro中被產(chǎn)生。在數(shù)據(jù)處理的另一個步驟中可以在考慮能量數(shù)據(jù)ED的條件下從(以通常的方式或在使用劑量測量數(shù)據(jù)或能量數(shù)據(jù)的條件下重建的)圖像數(shù)據(jù)BD生成混合圖像數(shù)據(jù)MD。
      [0044]在圖2中與圖1相比改變在掃描儀2中的監(jiān)視探測器8的位置。監(jiān)視探測器8在此在光子主入射方向R上布置在遮光板5的第二遮光板開口 51中或之后,其面積優(yōu)選不大于監(jiān)視探測器8的探測面。穿過遮光板5的第一遮光板開口 50的扇形X射線F由此不受遮光板5的第二遮光板開口 51影響。監(jiān)視探測器8在計算機斷層成像系統(tǒng)I的運行中由從X射線源4發(fā)射的X射線輻射X照射。
      [0045]圖3示出了按照第一實施方式的測量數(shù)據(jù)采集和處理的過程。在第一測量(步驟
      3.1II)中進行投影數(shù)據(jù)ro的采集,在第二、在時間上并行的測量(步驟3.1)中單獨地進行劑量測量數(shù)據(jù)DD的采集。數(shù)據(jù)采集和第一處理步驟分開地進行,而不將數(shù)據(jù)互相混合。從劑量測量數(shù)據(jù)DD中首先計算能量數(shù)據(jù)ED (步驟3.1I),其包含關(guān)于在特定的時間段中的X射線能量的信息。從投影數(shù)據(jù)H)中重建(步驟3.1V)圖像數(shù)據(jù)BD。能量數(shù)據(jù)ED和圖像數(shù)據(jù)BD然后被相關(guān)聯(lián)(步驟3.V)為圖像-能量-數(shù)據(jù)BDe,其包括關(guān)于如下的信息,在哪個X射線能量的情況下產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)BD的相應(yīng)的集合。該圖像-能量-數(shù)據(jù)BDe可以被加載(步驟3.VII)到存儲器中或者在另一個處理步驟(步驟3.VI)中被使用以產(chǎn)生混合圖像數(shù)據(jù)MD?;旌蠄D像數(shù)據(jù)MD表示校正的圖像數(shù)據(jù)BD,其中對于校正過程使用與與X射線能量的實際值有關(guān)的能量數(shù)據(jù)ED。中間存儲的數(shù)據(jù)可以分別形成進一步的數(shù)據(jù)處理步驟的基礎(chǔ)。
      [0046]在圖4中示 出的測量數(shù)據(jù)采集(步驟4.1 ;4.1I)和處理的過程與圖3中示出的流程不同在于,從投影數(shù)據(jù)ro重建圖像數(shù)據(jù)BD (步驟4.1II)直接在使用劑量測量數(shù)據(jù)DD的條件下進行。由此可以不必,但并不排除從劑量測量數(shù)據(jù)DD計算能量數(shù)據(jù)ED。在重建之后圖像數(shù)據(jù)BD被加載到存儲器中(步驟4.1V)。在此,稍后類似于圖3產(chǎn)生混合圖像數(shù)據(jù)也是可以的。
      [0047]圖5示出了具有兩個探測器元件30、31的監(jiān)視探測器8,所述兩個探測器元件在光子主入射方向R上并排布置,從而X射線光子的第一部分擊中探測器元件30并且在那里被測量,并且X射線光子的第二部分通過探測器元件31被測量。探測器元件30、31按照能量累計的原理構(gòu)造。它們通過不同強地構(gòu)造的輻射濾波器36、37相區(qū)別,所述輻射濾波器中分別一個輻射濾波器在光子主入射方向R上連接在探測器元件上游。該實施方式允許通過監(jiān)視探測器8進行X射線輻射X的能量分辨的測量。兩個探測器元件30、31連接到處理單元34,所述處理單元將探測器元件30、31的討論的信號處理為劑量測量數(shù)據(jù)DD。
      [0048]圖6示出具有兩個探測器元件32、33的按照多層構(gòu)造的監(jiān)視探測器8,所述兩個探測器元件在光子主入射方向R上先后布置,從而X射線光子的第一部分擊中探測器元件32并且在那里被測量,并且X射線光子的第二部分穿過探測器元件32行進并且在探測器元件33處被測量。兩個探測器元件32、33連接到處理單元35,所述測量單元將探測器元件32、33的進入的信號處理為劑量測量數(shù)據(jù)DD。探測器元件32按照光子計數(shù)原理構(gòu)造,而探測器元件33按照能量累計原理工作。由此可以通過監(jiān)視探測器8進行X射線輻射X的能量分辨的測量。
      [0049]最后再次指出,前面詳細描述的計算機斷層成像系統(tǒng)僅僅是實施例,其可以由專業(yè)人員以不同的方式修改,而不脫離本發(fā)明的范圍。特別地不同的實施例中提到的特征或方法步驟可以組合為新的實施例。此外不定冠詞“一個”的使用不排除,涉及的特征也可以多重存在。同樣,術(shù)語“模塊” “單元”和“裝置”也不排除,涉及的組件可以由多個共同作用的子組件組成,它們必要時也可以是空間上分布的。
      [0050]附圖標記列表
      [0051]1計算機斷層成像系統(tǒng)
      [0052]2掃描儀
      [0053]3測量空間
      [0054]4 X射線源
      [0055]5遮光板
      [0056]6 臺
      [0057]7投影探測器裝置
      [0058]8監(jiān)視探測器
      [0059]10控制裝置
      [0060]11測量控制單元
      [0061]12同步化單元
      [0062]13重建單元
      [0063]14圖像產(chǎn)生單元
      [0064]15組合單元
      [0065]16 接口
      [0066]20 總線
      [0067]21 終端
      [0068]22 屏幕
      [0069]23操作單元
      [0070]24大容量存儲器
      [0071]30探測器元件
      [0072]31探測器元件
      [0073]32探測器元件
      [0074]33探測器元件
      [0075]34處理單元
      [0076]35處理單元
      [0077]36輻射濾波器
      [0078]37輻射濾波器
      [0079]50第一遮光板開口
      [0080]51第二遮光板開口
      [0081]BD圖像數(shù)據(jù)
      [0082]BDe圖像-能量-數(shù)據(jù)
      [0083]DD劑量測量數(shù)據(jù)
      [0084]ED能量數(shù)據(jù)
      [0085]MD混合圖像數(shù)據(jù)[0086]PD投影數(shù)據(jù)
      [0087]F扇形X射線
      [0088]P檢查對象
      [0089]R光子主入射方向
      [0090]X X射線輻射 [0091]CSk時鐘信號X射線源
      [0092]CSm時鐘信號監(jiān)視探測器
      [0093]CSp時鐘信號投影探測器裝置
      【權(quán)利要求】
      1.一種X射線系統(tǒng)(I)、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)(I),具有 -X射線源(4), -與所述X射線源(4)對應(yīng)的用于采集檢查對象(P)的投影數(shù)據(jù)(PD)的投影探測器裝置(7),和 -用于測量所述X射線源(4)的X射線輻射(X)的當前的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)的監(jiān)視探測器(8),所述監(jiān)視探測器被構(gòu)造和布置為使得所述監(jiān)視探測器探測不是通過所述檢查對象(P)行進的X射線輻射(X)的部分, 其中,所述監(jiān)視探測器(8)被構(gòu)造為能量分辨的探測器。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線系統(tǒng),具有控制裝置(10),所述控制裝置被構(gòu)造為使得所述控制裝置在運行中將所述投影探測器裝置(7)和所述監(jiān)視探測器(8)控制為同步地、優(yōu)選在時間上并行地采集投影數(shù)據(jù)(PD)和劑量測量數(shù)據(jù)(DD)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線系統(tǒng),具有控制裝置(10),所述控制裝置被構(gòu)造為使得將由所述投影探測器裝置(7)所采集的投影數(shù)據(jù)(PD)和/或基于所述投影數(shù)據(jù)(PD)所重建的圖像數(shù)據(jù)(BD)與由所述監(jiān)視探測器(8)在時間上與之相關(guān)地所采集的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)或在此基礎(chǔ)上的能量數(shù)據(jù)(ED)相關(guān)聯(lián)。
      4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的X射線系統(tǒng),具有圖像產(chǎn)生單元(14),所述圖像產(chǎn)生單元被構(gòu)造為,其基于所述投影數(shù)據(jù)(PD)產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)(BD),其中,除了所述投影數(shù)據(jù)(PD)之外使用在時間 上相關(guān)地所采集的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)或在此基礎(chǔ)上的能量數(shù)據(jù)(ED)。
      5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的X射線系統(tǒng),其中,所述監(jiān)視探測器(8)布置在面向所述X射線源(4)的遮光板(5)的區(qū)域中。
      6.根據(jù)上述權(quán)利要求1至3中任一項所述的X射線系統(tǒng),其中,所述監(jiān)視探測器(8)被定位在所述投影探測器裝置(7)上或者被集成到所述投影探測器裝置(7)中。
      7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的X射線系統(tǒng),其中,所述監(jiān)視探測器(8)包括至少兩個能量累計的探測器元件(30,31),在所述至少兩個能量累計的探測器元件(30,31)的上游分別連接有不同的輻射濾波器(36,37)。
      8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的X射線系統(tǒng),其中,所述監(jiān)視探測器(8)包括至少一個光子計數(shù)的探測器元件,該探測器元件具有至少兩個不同的能量閾值。
      9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的X射線系統(tǒng),其中,所述監(jiān)視探測器(8)包括至少兩個探測器元件(32,33),這些探測器元件在光子主入射方向(R)上先后布置,其中,每個探測器元件(32,33)被構(gòu)造為能量累計的或光子計數(shù)的。
      10.一種用于借助帶有X射線源(4)的X射線系統(tǒng)(I)、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)(I)采集檢查對象(P)的投影數(shù)據(jù)(PD)的方法,其中, -借助與所述X射線源(4)對應(yīng)的投影探測器裝置(7)采集檢查對象(P)的投影數(shù)據(jù)(PD),以及 -借助監(jiān)視探測器(8)采集所述X射線輻射(X)的不是通過所述檢查對象(P)行進的部分的當前的劑量測量數(shù)據(jù)(DD), 其中,所述當前的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)的測量以能量分辨的方式進行。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中,所述X射線源(4)在測量過程期間或者在兩個測量過程之間被控制為,在不同的時間片段中利用不同的X射線能量采集投影數(shù)據(jù)(PD),并且基于所述監(jiān)視探測器(8)的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)分別對于所述不同的時間片段確定能量數(shù)據(jù)(ED)。
      12.一種用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)(BD)的方法,包括以下方法步驟: -提供借助X射線系統(tǒng)(I)的、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)(I)的投影探測器裝置(7)所采集的投影數(shù)據(jù)(PD), -提供當前的劑量測量數(shù)據(jù)(DD),所述當前的劑量測量數(shù)據(jù)是借助監(jiān)視探測器(8)以能量分辨的測量從所述X射線輻射(X)的不是通過所述檢查對象(P)行進的部分采集的, -基于所述投影數(shù)據(jù)(PD)在使用所述監(jiān)視探測器(8)的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)的條件下產(chǎn)生所述圖像數(shù)據(jù)(BD)。
      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)(BD)的方法,其中在基于所述投影數(shù)據(jù)(PD)重建所述圖像數(shù)據(jù)(BD)的情況下使用所述監(jiān)視探測器(8)的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)。
      14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的方法,其中,將所述監(jiān)視探測器(8)的劑量測量數(shù)據(jù)(DD)用于產(chǎn)生能量數(shù)據(jù)(ED),并且在從圖像數(shù)據(jù)(BD)中產(chǎn)生混合圖像數(shù)據(jù)(MD)的情況下利用所述能量數(shù)據(jù)(ED),所述圖像數(shù)據(jù)(BD)是從投影探測器裝置(7)的在不同的X射線能量的情況下所采集的投影數(shù)據(jù)(PD)中重建的。
      15.一種計算機程序產(chǎn)品,所述計算機程序產(chǎn)品直接加載到X射線系統(tǒng)(I)的、特別是計算機斷層成像系統(tǒng)(I)的可編程的控制裝置(10)和/或圖像產(chǎn)生單元(14)中,所述計算機程序產(chǎn)品具有程序代碼資源,用于當該程序產(chǎn)品在所述控制裝置(10)和/或圖像產(chǎn)生單元(14)上運行時執(zhí)行按照權(quán)利要求10至14中任一項所述的方法的所有步驟。
      【文檔編號】G01T1/29GK103654828SQ201310409834
      【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月13日
      【發(fā)明者】S.卡普勒 申請人:西門子公司
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