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      一種靶材厚度測(cè)量?jī)x的制作方法

      文檔序號(hào):6186555閱讀:434來(lái)源:國(guó)知局
      一種靶材厚度測(cè)量?jī)x的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種靶材厚度測(cè)量?jī)x,涉及測(cè)量工具的【技術(shù)領(lǐng)域】,為了可以提高測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,以及能夠簡(jiǎn)化測(cè)量靶材厚度的測(cè)量過(guò)程、提高工作效率而發(fā)明。所述靶材厚度測(cè)量?jī)x包括支撐體,測(cè)距單元,所述支撐體用于設(shè)置在與靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè),所述支撐體上支撐所述測(cè)距單元,所述測(cè)距單元與所述待測(cè)區(qū)相對(duì)設(shè)置,且所述測(cè)距單元用于測(cè)量所述靶材的厚度。本發(fā)明主要用于測(cè)量靶材的余量。
      【專利說(shuō)明】一種靶材厚度測(cè)量?jī)x【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及測(cè)量工具的【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種靶材厚度測(cè)量?jī)x。
      【背景技術(shù)】
      [0002]靶材是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。換言之,靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,在濺射(Sputter)工藝中,當(dāng)不同功率密度、不同輸出能能量的高能粒子與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的濺射效應(yīng)。
      [0003]在進(jìn)行濺射工藝時(shí),隨著基板上薄膜厚度的增加,靶材逐漸被消耗,靶材的厚度隨之減薄。靶材的余量厚度是影響設(shè)備工藝調(diào)整的重要參數(shù),通過(guò)此參數(shù),不但可以判斷靶材是否需要更換,而且還可以為設(shè)備工藝參數(shù)進(jìn)行再次調(diào)整,以進(jìn)一步提高靶材利用率而提供依據(jù)。
      [0004]目前測(cè)量靶材余量厚度的專用工具采用傳統(tǒng)的測(cè)量工具:游標(biāo)卡尺。測(cè)量時(shí)首先將具有平整表面的工具(例如鋼尺)平放在靶材的待測(cè)表面上,再用游標(biāo)卡尺以鋼尺為基準(zhǔn)測(cè)出鋼尺與靶材待測(cè)表面之間的距離,然后記錄此時(shí)游標(biāo)卡尺測(cè)得的數(shù)據(jù),最后根據(jù)靶材在進(jìn)行濺射工藝之前的已知厚度,可以計(jì)算出靶材的余量厚度。此測(cè)量方法通常需要一個(gè)人手拿游標(biāo)卡尺進(jìn)行測(cè)量、并同時(shí)保持游標(biāo)卡尺與鋼尺之間的垂直,另一個(gè)人記錄數(shù)據(jù),但是手拿游標(biāo)卡尺會(huì)不可避免地使游標(biāo)卡尺晃動(dòng)或傾斜,導(dǎo)致測(cè)量的數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,而且此測(cè)量方法需要兩個(gè)人共同協(xié)作完成,操作過(guò)程較為繁瑣,降低工作效率。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種靶材測(cè)厚度量?jī)x,不但能夠較好地提高測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,而且能夠簡(jiǎn)化測(cè)量靶材厚度的測(cè)量過(guò)程、提高工作效率。
      [0006]為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
      [0007]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種靶材厚度測(cè)量?jī)x,包括支撐體,測(cè)距單元,所述支撐體用于設(shè)置在與靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè),所述支撐體上支撐所述測(cè)距單元,所述測(cè)距單元與所述待測(cè)區(qū)相對(duì)設(shè)置,且所述測(cè)距單元用于測(cè)量所述靶材的厚度。
      [0008]其中,所述支撐體包括底座和支撐板,所述支撐板固定在所述底座上,所述支撐板上支撐所述測(cè)距單元,所述支撐板設(shè)置在與所述靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè)。
      [0009]其中,所述底座用于支撐在一平臺(tái)上,所述平臺(tái)用于支撐所述靶材,在所述靶材支撐在所述平臺(tái)上后,所述支撐板和所述靶材相互平行。
      [0010]可選地,所述底座的數(shù)量為兩個(gè),且設(shè)置在所述支撐體相對(duì)的兩側(cè),在兩個(gè)所述底座支撐在所述平臺(tái)后,所述靶材位于兩個(gè)所述支撐體之間。
      [0011]可選地,所述支撐板和所述底座一體成型。
      [0012]進(jìn)一步地,所述支撐板上設(shè)有滑槽,所述滑槽滑動(dòng)連接有滑動(dòng)件,所述滑動(dòng)件上安裝所述測(cè)距單元。[0013]進(jìn)一步地,所述滑動(dòng)件包括滑臺(tái)和滑塊,所述滑臺(tái)容納在所述滑槽內(nèi),所述滑臺(tái)和所述滑塊可旋轉(zhuǎn)的連接,通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述滑塊使所述測(cè)距單元靠近或遠(yuǎn)離所述靶材的待測(cè)區(qū)。
      [0014]其中,所述滑塊上設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕,通過(guò)所述轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕使所述滑塊發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。
      [0015]進(jìn)一步地,所述滑塊設(shè)有安裝孔,所述安裝孔內(nèi)安裝所述測(cè)距單元,在所述滑塊垂直于所述支撐板時(shí),所述安裝孔的軸向垂直于所述靶材的待測(cè)區(qū)。
      [0016]優(yōu)選地,所述測(cè)距單元為電子感應(yīng)測(cè)距單元。
      [0017]當(dāng)所述測(cè)距單元為電子感應(yīng)測(cè)距單元時(shí),所述電子感應(yīng)測(cè)距單元包括測(cè)量桿、彈簧、滾珠、電子感應(yīng)刻度尺、控制器以及顯示組件,所述測(cè)量桿和所述彈簧安裝在所述安裝孔內(nèi),且所述測(cè)量桿的一端將所述彈簧壓縮在所述安裝孔內(nèi),所述測(cè)量桿的另一端伸出所述安裝孔、并與所述滾珠滾動(dòng)連接,所述滾珠接觸所述靶材的待測(cè)區(qū),所述電子感應(yīng)刻度尺設(shè)置在所述測(cè)量桿上,且所述電子感應(yīng)刻度尺設(shè)置在所述電連接所述控制器,所述控制器電連接所述顯示組件。
      [0018]可選地,所述電子感應(yīng)測(cè)距單元包括測(cè)距傳感器、控制器以及顯示組件,所述測(cè)距傳感器與所述靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)且安裝在所述滑塊上,所述測(cè)距傳感器電連接所述控制器,所述控制器電連接所述顯示組件。
      [0019]進(jìn)一步地,所述顯示組件包括顯示主體、以及嵌在所述顯示主體內(nèi)的顯示屏,所述顯示主體安裝在所述滑塊上,且所述顯示主體上設(shè)有開關(guān)按鍵、歸零按鍵、最大值按鍵、最小值按鍵以及平均值按鍵。
      [0020]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材厚度測(cè)量?jī)x,包括支撐體,測(cè)距單元,所述支撐體用于設(shè)置在與靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè),所述支撐體上支撐所述測(cè)距單元,所述測(cè)距單元與所述待測(cè)區(qū)相對(duì)設(shè)置,且所述測(cè)距單元用于測(cè)量所述靶材的厚度,這與【背景技術(shù)】中的手握測(cè)距單元相比,本發(fā)明可以直接通過(guò)支撐體來(lái)支撐測(cè)距單元,避免出現(xiàn)由手握測(cè)距單元而引起測(cè)距單元的晃動(dòng)或傾斜,提高測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,而且在操作者通過(guò)測(cè)距單元測(cè)出靶材的厚度后,操作者可以單獨(dú)完成數(shù)據(jù)的記錄,而不需要兩個(gè)人的協(xié)作,簡(jiǎn)化了操作過(guò)程,提高了工作效率。
      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0021]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
      [0022]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x的示意圖之一;
      [0023]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x的示意圖之二 ;
      [0024]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x的示意圖之三;
      [0025]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x測(cè)量靶材的示意圖。
      [0026]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x中測(cè)距單元的示意圖;
      [0027]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x中顯示組件的示意圖。
      [0028]【專利附圖】
      附圖
      【附圖說(shuō)明】:[0029]100-靶材厚度測(cè)量?jī)x,10-支撐體,101-支撐板,102-底座,103-滑槽,11-測(cè)距單元,110-測(cè)量桿,111-彈簧,112-滾珠,113-電子感應(yīng)刻度尺,114-顯示主體,115-顯示屏,12-滑動(dòng)件,120-滑塊,121-滑臺(tái),13-轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕,130-定位珠,200-革巴材,201-待測(cè)區(qū),300-背銅板
      【具體實(shí)施方式】
      [0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
      [0031]參照?qǐng)D1所示,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種靶材厚度測(cè)量?jī)x100,包括支撐體10,測(cè)距單元11,其中,支撐體10用于設(shè)置在與圖4所示的靶材200的待測(cè)區(qū)201相對(duì)的一側(cè),且支撐體10支撐在平臺(tái)(可以指下述的背銅板300或固定平臺(tái))上;測(cè)距單元11支撐在支撐體10上,且與靶材200的待測(cè)區(qū)201相對(duì)設(shè)置,測(cè)距單元11用于測(cè)量靶材200的厚度。這與【背景技術(shù)】中的手握測(cè)距單元11相比,本發(fā)明可以直接通過(guò)支撐體10來(lái)支撐測(cè)距單元11,避免出現(xiàn)由手握測(cè)距單元11而引起測(cè)距單元11的晃動(dòng)或傾斜,提高測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,而且在操作者通過(guò)測(cè)距單元11測(cè)出靶材200的厚度后,操作者可以單獨(dú)完成數(shù)據(jù)的記錄,而不需要兩個(gè)人的協(xié)作,簡(jiǎn)化了操作過(guò)程,提高了工作效率。
      [0032]如【背景技術(shù)】所述,在濺射(Sputter)工藝中,隨著基板(如玻璃基板)上薄膜厚度的增加,靶材逐漸被消耗,靶材的厚度隨之減薄。在完成濺射工藝后,靶材的余量厚度是影響設(shè)備工藝調(diào)整的重要參數(shù)。由于靶材在濺射后會(huì)形成凹凸不平的波峰表面,因此一般將殘余靶材的最小厚度作為靶材的余量,而靶材余量的測(cè)量,通常選在靶材上凹進(jìn)去的區(qū)域進(jìn)行,測(cè)量時(shí),首先測(cè)量殘余靶材上某一區(qū)域的最深點(diǎn)的靶材厚度,然后移動(dòng)測(cè)距單元測(cè)量下一區(qū)域的最深點(diǎn)的靶材厚度,這樣獲取多個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)后,通過(guò)比較得出殘余靶材的余量。
      [0033]本領(lǐng)域技術(shù)人員可以知道的是,在進(jìn)行濺射工藝前,靶材需要先焊接在背銅板300上,然后一起放入真空腔室內(nèi)。進(jìn)行完濺射工藝后,為了本發(fā)明中的測(cè)距單元測(cè)出殘余靶材的余量,可以將本發(fā)明中的支撐體支撐在背銅板300上,因此,殘余靶材的余量為靶材濺射最深點(diǎn)到背銅板的距離。
      [0034]需要說(shuō)明的是,本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x100不但可以測(cè)量殘余靶材的余量,而且還可以測(cè)量完整靶材的厚度(即未進(jìn)行濺射工藝前的靶材厚度),測(cè)量時(shí),首先將靶材平放在一固定平臺(tái)上,然后將支撐體10支撐在平臺(tái)上,通過(guò)測(cè)距單元11對(duì)完整靶材不同區(qū)域的厚度進(jìn)行測(cè)量,獲取多個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù),并通過(guò)比較多個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)而得出完整靶材上用于高能粒子轟擊的表面的平整度,根據(jù)該平整度,可以適當(dāng)調(diào)整設(shè)備工藝參數(shù)等,以使后續(xù)的濺射工藝達(dá)到更好的效果。
      [0035]以測(cè)量殘余靶材的余量為例,以下結(jié)合上述內(nèi)容以及圖1-圖6,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材厚度測(cè)量?jī)x100進(jìn)行具體的說(shuō)明。靶材厚度測(cè)量?jī)x100包括支撐體10,測(cè)距單元11,其中支撐體10包括底座102、固定在底座102上的支撐板101,測(cè)距單元11支撐在支撐板101上,在底座102支撐在背銅板300上后,支撐板101位于與靶材200的待測(cè)區(qū)201相對(duì)的一側(cè)(即圖4所示的上方),測(cè)距單元11與靶材200的待測(cè)區(qū)201相對(duì)。為了便于說(shuō)明,靶材200與靶材厚度測(cè)量?jī)x100的方位狀態(tài)以圖1、圖2或圖4所示的方位狀態(tài)為例,但是并不依此作為限定。
      [0036]在底座102支撐在背銅板300上后,支撐板101和靶材200的整體相互平行,這樣使兩者具有較好的平行度,保證測(cè)距單元11在檢測(cè)時(shí)可以始終垂直于靶材200的待測(cè)區(qū)201,有利于減小誤差,提高數(shù)據(jù)測(cè)量的準(zhǔn)確性。
      [0037]其中,對(duì)底座102的數(shù)量不作具體限定,此處作為可選的實(shí)施例,采用兩個(gè)等高的底座102,且設(shè)置在支撐體10相對(duì)的兩側(cè)(圖1所示的左右兩側(cè)),在兩個(gè)底座102支撐在平臺(tái)后,靶材200位于兩個(gè)支撐體10之間。
      [0038]對(duì)于支撐體10形成方式,可以是通過(guò)支撐板101和底座102 —體成型形成的,也可以是支撐板101和底座102通過(guò)連接件固定連接形成的。
      [0039]作為本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選的方案,上述支撐板101與測(cè)距單元11的連接方式可采用滑動(dòng)連接的方式,具體地,如圖1或圖2所示,在支撐板101上設(shè)有滑槽103,滑槽103滑動(dòng)連接有滑動(dòng)件12,滑動(dòng)件12上安裝測(cè)距單元11,這樣可以直接滑動(dòng)測(cè)距單元11對(duì)所需點(diǎn)進(jìn)行檢測(cè),而不需要不斷地挪動(dòng)測(cè)距單元11進(jìn)行檢測(cè),有利于簡(jiǎn)化操作過(guò)程,提高工作效率。
      [0040]由于殘余靶材200的待測(cè)區(qū)201凹凸不平,因此為了避免在放置或移動(dòng)靶材厚度測(cè)量?jī)x100時(shí)使測(cè)距單元11碰撞到殘余靶材200的待測(cè)區(qū)201,可以使滑動(dòng)件12在支撐板101上形成一個(gè)旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),通過(guò)旋轉(zhuǎn)滑動(dòng)件12,使滑動(dòng)件12收起。具體地,如圖3所示,該滑動(dòng)件12包括滑臺(tái)121和滑塊120,滑臺(tái)121容納在滑槽103內(nèi),滑臺(tái)121和滑塊120可旋轉(zhuǎn)的連接,通過(guò)旋轉(zhuǎn)滑塊120使測(cè)距單元11靠近或遠(yuǎn)離殘余靶材200的待測(cè)區(qū)201。當(dāng)旋轉(zhuǎn)滑塊120使測(cè)距單元11靠近待測(cè)區(qū)201時(shí),即圖1所示的滑塊120與支撐板101相互垂直,測(cè)距單元11開始測(cè)量;當(dāng)旋轉(zhuǎn)滑塊120時(shí)測(cè)距單元11遠(yuǎn)離待測(cè)區(qū)201時(shí),即圖2所示的滑塊120與支撐板101相互平行,可以方便靶材厚度測(cè)量?jī)x100的放置和攜帶。
      [0041]繼續(xù)參照?qǐng)D1和圖2,上述滑塊120和滑臺(tái)121之間還可以設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕13,通過(guò)操作轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕13可以使滑塊120相對(duì)于支撐板101發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。測(cè)量時(shí),可通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕13上的定位珠130來(lái)保持與支撐板101的垂直狀態(tài)。測(cè)量完成后,通過(guò)旋轉(zhuǎn)滑塊120將測(cè)距單元11收起,此時(shí)滑塊120和支撐板101呈相互平行狀態(tài)。
      [0042]對(duì)于測(cè)距單元11而言,可以是電子游標(biāo)卡尺,也可以是電子感應(yīng)測(cè)距單元11,不論是何種形式,測(cè)距單元11均可以安裝在滑塊120的安裝孔內(nèi),其中在滑塊120垂直于支撐板101時(shí),安裝孔的軸向垂直于靶材200的待測(cè)區(qū)201。
      [0043]當(dāng)測(cè)距單元11為電子感應(yīng)測(cè)距單元11時(shí),如圖1和圖5所示,該電子感應(yīng)測(cè)距單元11包括測(cè)量桿110、彈簧111、滾珠112、電子感應(yīng)刻度尺113、控制器以及顯示組件,測(cè)量桿110和彈簧111安裝在安裝孔內(nèi),且測(cè)量桿110的一端將彈簧111壓縮在安裝孔內(nèi),測(cè)量桿110的另一端伸出安裝孔、并與滾珠112滾動(dòng)連接,滾珠112接觸靶材200的待測(cè)區(qū)201,電子感應(yīng)刻度尺113設(shè)置在測(cè)量桿110上,且電子感應(yīng)刻度尺113設(shè)置在電連接控制器,控制器電連接顯示組件。
      [0044]進(jìn)一步地,參照?qǐng)D6,顯示組件包括顯示主體114、以及嵌在顯示主體114內(nèi)的顯示屏115,顯示主體114安裝在滑塊120上,且顯示主體114上設(shè)有開關(guān)按鍵、歸零按鍵、最大值按鍵、最小值按鍵以及平均值按鍵。[0045]測(cè)量前,先將靶材厚度測(cè)量?jī)x100支撐在背銅板300上,靶材200位于兩個(gè)底座102之間,靶材200的上方為支撐板101,滑塊120與支撐板101呈相互垂直狀態(tài),測(cè)量桿110下端的滾珠112接觸靶材200的待測(cè)區(qū)201,按下顯示主體114的開關(guān)按鍵,使顯示屏115處于打開狀態(tài),并按下歸零按鍵,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的初始化。測(cè)量時(shí),通過(guò)左右移動(dòng)滑塊120使電子感應(yīng)測(cè)距單元11左右移動(dòng),滾轉(zhuǎn)在靶材200的待測(cè)區(qū)201上滾動(dòng),當(dāng)滾珠112從靶材200待測(cè)區(qū)201的凹點(diǎn)移動(dòng)凸點(diǎn)時(shí),測(cè)量桿110會(huì)向上移動(dòng)并同時(shí)壓縮彈簧111,當(dāng)滾珠112從靶材200待測(cè)區(qū)201的凸點(diǎn)移動(dòng)凹點(diǎn)時(shí),測(cè)量桿110在彈簧111的作用向下運(yùn)動(dòng),這樣以保證滾珠112始終與靶材200的待測(cè)區(qū)201接觸。同時(shí)電子感應(yīng)刻度尺113也會(huì)記錄與滾珠112接觸的待測(cè)區(qū)201的厚度值(包括凹點(diǎn)處的最小厚度、凸點(diǎn)處的最大厚度),最終通過(guò)顯示組件顯示,便于操作者觀察。
      [0046]為了提高數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,進(jìn)行完沿圖面所示的左右方向的數(shù)據(jù)測(cè)量后,還可以沿圖面所示的前后方向進(jìn)行數(shù)據(jù)測(cè)量,即將靶材厚度測(cè)量?jī)x100旋轉(zhuǎn)90°后重復(fù)上述測(cè)量動(dòng)作,此處不再贅述。
      [0047]以上測(cè)得輸數(shù)據(jù)儲(chǔ)存在控制器中的存儲(chǔ)器中,并可以通過(guò)控制器中的運(yùn)算器處理測(cè)得的數(shù)據(jù),能夠分析計(jì)算出最小值和最小值、平均值等。當(dāng)操作者需要提取最小值、最小值或平均值時(shí),分別按下最小值按鍵、最大值按鍵以及平均值按鍵,顯示屏115中將顯示出所需的數(shù)據(jù)。
      [0048]電子感應(yīng)測(cè)距單元11除上述形式外,還可以是傳感器的形,例如可以包括測(cè)距傳感器、控制器以及顯示組件,測(cè)距傳感器與靶材200的待測(cè)區(qū)201相對(duì)且安裝在滑塊120上,測(cè)距傳感器電連接控制器,控制器電連接顯示組件。測(cè)量前,先將靶材厚度測(cè)量?jī)x100支撐在背銅板300上,靶材200位于兩個(gè)底座102之間,靶材200的上方為支撐板101,滑塊120與支撐板101呈相互垂直狀態(tài),按下顯示主體114的開關(guān)按鍵,使顯示屏115處于打開狀態(tài),并按下歸零按鍵,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的初始化。測(cè)量時(shí),通過(guò)左右移動(dòng)滑塊120使電子感應(yīng)測(cè)距單元11左右移動(dòng),通過(guò)測(cè)距傳感器檢測(cè)出靶材200待測(cè)區(qū)201的厚度值(包括凹點(diǎn)處的最小厚度、凸點(diǎn)處的最大厚度),最終通過(guò)顯示組件顯示。
      [0049]此外,當(dāng)測(cè)距單元11為電子游標(biāo)卡尺時(shí),可以將電子游標(biāo)卡尺直接卡在滑塊120的安裝孔內(nèi)。測(cè)量時(shí),首先測(cè)量殘余靶材200上某一區(qū)域的最深點(diǎn)的靶材200厚度,然后通過(guò)移動(dòng)滑塊120使測(cè)距單元11測(cè)量下一區(qū)域的最深點(diǎn),并獲取最深點(diǎn)的靶材厚度,這樣獲取多個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)后,通過(guò)比較得出殘余靶材的余量。
      [0050]同理,對(duì)于測(cè)量完整靶材的厚度,也可以采取上述測(cè)量過(guò)程,此處不再贅述。
      [0051]以上,僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,包括支撐體,測(cè)距單元,所述支撐體用于設(shè)置在與靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè),所述支撐體上支撐所述測(cè)距單元,所述測(cè)距單元與所述待測(cè)區(qū)相對(duì)設(shè)置,且所述測(cè)距單元用于測(cè)量所述靶材的厚度。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述支撐體包括底座和支撐板,所述支撐板固定在所述底座上,所述支撐板上支撐所述測(cè)距單元,所述支撐板設(shè)置在與所述靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)的一側(cè)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述底座用于支撐在一平臺(tái)上,所述平臺(tái)用于支撐所述靶材,在所述靶材支撐在所述平臺(tái)上后,所述支撐板和所述靶材相互平行。
      4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述底座的數(shù)量為兩個(gè),且設(shè)置在所述支撐體相對(duì)的兩側(cè),在兩個(gè)所述底座支撐在所述平臺(tái)后,所述靶材位于兩個(gè)所述支撐體之間。
      5.根據(jù)權(quán)利要求2-4任一項(xiàng)所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述支撐板和所述底座一體成型。
      6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述支撐板上設(shè)有滑槽,所述滑槽滑動(dòng)連接有滑動(dòng)件,所述滑動(dòng)件上安裝所述測(cè)距單元。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述滑動(dòng)件包括滑臺(tái)和滑塊,所述滑臺(tái)容納在所述滑槽內(nèi),所述滑臺(tái)和所述滑塊可旋轉(zhuǎn)的連接,通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述滑塊使所述測(cè)距單元靠近或遠(yuǎn)離所述靶材的待測(cè)區(qū)。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述滑塊上設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕,通過(guò)所述轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕使所述滑塊發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。
      9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述滑塊設(shè)有安裝孔,所述安裝孔內(nèi)安裝所述測(cè)距單元,在所述滑塊垂直于所述支撐板時(shí),所述安裝孔的軸向垂直于所述靶材的待測(cè)區(qū)。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述測(cè)距單元為電子感應(yīng)測(cè)距單元。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述電子感應(yīng)測(cè)距單元包括測(cè)量桿、彈簧、滾珠、電子感應(yīng)刻度尺、控制器以及顯示組件,所述測(cè)量桿和所述彈簧安裝在所述安裝孔內(nèi),且所述測(cè)量桿的一端將所述彈簧壓縮在所述安裝孔內(nèi),所述測(cè)量桿的另一端伸出所述安裝孔、并與所述滾珠滾動(dòng)連接,所述滾珠接觸所述靶材的待測(cè)區(qū),所述電子感應(yīng)刻度尺設(shè)置在所述測(cè)量桿上,且所述電子感應(yīng)刻度尺設(shè)置在所述電連接所述控制器,所述控制器電連接所述顯示組件。
      12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述電子感應(yīng)測(cè)距單元包括測(cè)距傳感器、控制器以及顯示組件,所述測(cè)距傳感器與所述靶材的待測(cè)區(qū)相對(duì)且安裝在所述滑塊上,所述測(cè)距傳感器電連接所述控制器,所述控制器電連接所述顯示組件。
      13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的靶材厚度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述顯示組件包括顯示主體、以及嵌在所述顯示主體內(nèi)的顯示屏,所述顯示主體安裝在所述滑塊上,且所述顯示主體上設(shè)有開關(guān)按鍵、歸零按鍵、最大值按鍵、最小值按鍵以及平均值按鍵。
      【文檔編號(hào)】G01B7/06GK103644836SQ201310645952
      【公開日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年12月4日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月4日
      【發(fā)明者】李勝斌, 高連龍, 董斌, 車奉周 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
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