一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其中：真空腔系統(tǒng)包括腔體和入射窗口，光束準(zhǔn)直系統(tǒng)、干涉元件和探測(cè)元件均置于所述腔體內(nèi)；所述入射窗口用于入射真空紫外激光；光束準(zhǔn)直系統(tǒng)用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直；所述干涉元件為楔形劈尖，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光反射形成兩束相干光束，在探測(cè)元件表面產(chǎn)生干涉條紋；所述探測(cè)元件用于采集所述干涉條紋的信息；數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)用于采集和處理所述探測(cè)元件獲得的干涉條紋的信息，得到所述真空紫外激光的線寬。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于波長(zhǎng)小于185nm的真空紫外激光無(wú)法直接測(cè)量線寬的技術(shù)問(wèn)題，光學(xué)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，性能穩(wěn)定，對(duì)連續(xù)、準(zhǔn)連續(xù)和脈沖真空紫外激光均可實(shí)時(shí)測(cè)量。
【專利說(shuō)明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及激光【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置。 一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置

【背景技術(shù)】
[0002] 激光技術(shù)是二十世紀(jì)最偉大的發(fā)明之一，自1960年第一臺(tái)激光器發(fā)明以來(lái)，它對(duì) 光學(xué)及其它多學(xué)科的發(fā)展產(chǎn)生了極其深遠(yuǎn)的影響。激光線寬是指激光譜線的半高全寬，是 激光的一項(xiàng)重要參數(shù)。許多應(yīng)用中都需要精確、快速地測(cè)量所用激光的線寬，比如光譜分析 中必須考慮激光線寬對(duì)光譜測(cè)量的影響。
[0003] 目前，測(cè)量激光線寬的方法主要有光柵衍射法、干涉法和拍頻法。其中光柵衍射法 測(cè)量精度較低，只可測(cè)量大于GHz量級(jí)的激光線寬；拍頻法精度最高，可測(cè)量KHz量級(jí)激光 線寬，但測(cè)量裝置復(fù)雜。干涉法主要包括F-P固定干涉法和F-P掃描干涉法，其中F-P固定 干涉法需調(diào)節(jié)F-P腔鏡，實(shí)驗(yàn)操作不方便；F-P掃描干涉法只適于連續(xù)和準(zhǔn)連續(xù)激光測(cè)量。
[0004] 真空紫外（vacuum ultraviolet, VUV)對(duì)應(yīng)電磁波譜中波長(zhǎng)約為40?185nm的區(qū) 域，由于該波段的光在空氣中吸收較大，只能在真空或惰性氣體條件下傳輸，因此被稱為真 空紫外。由于νυν波長(zhǎng)短、光子能量高，因而在高分辨率成像、光譜應(yīng)用、微細(xì)加工等諸多領(lǐng) 域具有重要的應(yīng)用價(jià)值，是國(guó)際光電子領(lǐng)域最重要的發(fā)展方向之一。真空紫外區(qū)域存在著 大量的原子共振線，輻射與物質(zhì)相互作用時(shí)，在很短的距離內(nèi)便被吸收，物質(zhì)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的 吸收特性。真空紫外激光在空氣中傳播時(shí)會(huì)被氧氣強(qiáng)烈吸收，所以真空紫外激光的產(chǎn)生及 應(yīng)用一般在真空或惰性氣體環(huán)境中進(jìn)行。由于真空系統(tǒng)往往比較復(fù)雜，真空紫外波段的光 學(xué)元件鍍膜困難，并且傳感器件需特殊制造等原因，對(duì)于波長(zhǎng)小于185nm的真空紫外激光， 目前沒(méi)有可用的儀器直接測(cè)量其線寬。比如，德國(guó)HighFinesse公司生產(chǎn)的WS系列波長(zhǎng)計(jì) 可同時(shí)測(cè)量激光波長(zhǎng)和線寬，最短可測(cè)波長(zhǎng)為192nm;白俄羅斯Solar公司SHR系列激光波 長(zhǎng)計(jì)，最短可測(cè)波長(zhǎng)為190nm，以上方法均無(wú)法測(cè)量波長(zhǎng)小于185nm的真空紫外激光。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005](一）要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0006] 本實(shí)用新型提供一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，以解決在真空紫外激光的波 長(zhǎng)范圍內(nèi)無(wú)法直接測(cè)量激光線寬的技術(shù)問(wèn)題。
[0007] (二）技術(shù)方案
[0008] 為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，包括： 真空腔系統(tǒng)、光束準(zhǔn)直系統(tǒng)、干涉元件、探測(cè)元件和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)；
[0009] 所述真空腔系統(tǒng)包括腔體和入射窗口，所述腔體內(nèi)為真空或充滿對(duì)真空紫外激光 吸收較低的氣體，用于防止真空紫外激光被吸收，所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)、干涉元件和探測(cè)元件 均置于所述腔體內(nèi)；所述入射窗口位于所述腔體的腔壁上，用于入射真空紫外激光；
[0010] 所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直；
[0011] 所述干涉元件為楔形劈尖，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光反射形成兩束相干光 束，在所述探測(cè)元件表面產(chǎn)生干涉條紋；
[0012] 所述探測(cè)元件為真空紫外波段可用的探測(cè)器，用于采集所述干涉條紋的信息；
[0013] 所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在所述腔體外，與所述探測(cè)元件相連，用于采集和處理所述探 測(cè)元件獲得的干涉條紋的信息，得到所述真空紫外激光的線寬。
[0014] 進(jìn)一步地，
[0015] 所述干涉元件包括：兩個(gè)光學(xué)平板和帶小楔角的兩個(gè)光學(xué)材料墊塊，所述兩個(gè)光 學(xué)材料墊塊分別夾在所述兩個(gè)光學(xué)平板的內(nèi)側(cè)兩端，形成空心楔形空間；
[0016] 所述兩個(gè)光學(xué)平板的不鍍膜的內(nèi)表面和所述空心楔形空間構(gòu)成所述干涉元件的 干涉腔。
[0017] 進(jìn)一步地，
[0018] 所述光學(xué)材料墊塊為：石英墊塊，或氟化鈣墊塊，或氟化鎂墊塊；
[0019] 所述兩個(gè)光學(xué)平板的材料為：氟化鈣、氟化鎂中的一種；
[0020] 若光學(xué)平板材料為氟化鎂，由于該材料有雙折射特性，則對(duì)入射光偏振態(tài)有一定 要求。
[0021] 所述光學(xué)材料墊塊與所述兩個(gè)光學(xué)平板之間采用光膠方法膠合為一體。
[0022] 進(jìn)一步地，所述干涉元件為：實(shí)心楔形劈尖，其兩個(gè)外表面和實(shí)體楔形空間構(gòu)成所 述干涉元件的干涉腔。
[0023] 進(jìn)一步地，
[0024] 所述實(shí)心楔形劈尖的材料為：氟化鈣、氟化鎂中的一種；
[0025] 若實(shí)心楔形劈尖的材料為氟化鎂，由于該材料有雙折射特性，則對(duì)入射光偏振態(tài) 有一定要求。
[0026] 進(jìn)一步地，
[0027] 所述探測(cè)元件為真空紫外電荷耦合器件，或狹縫掃描式探測(cè)器；所述狹縫掃描式 探測(cè)器包括真空紫外光功率計(jì)和狹縫，所述真空紫外光功率計(jì)的探測(cè)面積大于所述干涉條 紋的面積，所述狹縫位于所述真空紫外光功率計(jì)之前，長(zhǎng)度方向平行于所述干涉條紋，并在 測(cè)量時(shí)掃描覆蓋整個(gè)干涉條紋區(qū)域；
[0028] 所述探測(cè)元件位于所述兩束相干光束的零剪切面上。
[0029] 進(jìn)一步地，所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)包括：
[0030] 會(huì)聚透鏡、準(zhǔn)直透鏡和空間濾波器；所述會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直透鏡共焦放置，用于 對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直擴(kuò)束；所述空間濾波器包括小孔，所述小孔位于所述會(huì)聚 透鏡和所述準(zhǔn)直透鏡的焦點(diǎn)位置，用于對(duì)經(jīng)過(guò)會(huì)聚透鏡的真空紫外激光進(jìn)行小孔濾波；
[0031] 或，會(huì)聚透鏡、準(zhǔn)直凹面鏡和空間濾波器；所述會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直凹面鏡共焦放 置，用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直擴(kuò)束；所述空間濾波器包括小孔，所述小孔位于所 述會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直凹面鏡的焦點(diǎn)位置，用于對(duì)經(jīng)過(guò)會(huì)聚透鏡的真空紫外激光進(jìn)行小孔 濾波。
[0032] 進(jìn)一步地，
[0033] 所述腔體內(nèi)為真空或充滿對(duì)真空紫外激光吸收較低的氣體。
[0034] 進(jìn)一步地，所述裝置還包括：
[0035] 分光鏡，置于所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)和所述干涉元件之間，與準(zhǔn)直后的真空紫外激光 的光路成45度夾角，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光透射至所述干涉元件，并將所述干涉元 件反射的兩束相干光束反射至所述探測(cè)元件表面；
[0036] 和/或，柱狀透鏡，置于所述干涉元件和所述探測(cè)元件之間，用于將所述兩束相干 光束聚焦至探測(cè)元件的表面。
[0037] 進(jìn)一步地，所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)還用于：
[0038] 通過(guò)采集和處理所述探測(cè)元件獲得的干涉條紋的信息，得到所述干涉條紋的對(duì)比 度，根據(jù)所述干涉條紋的對(duì)比度計(jì)算所述真空紫外激光的線寬。
[0039] (三）有益效果
[0040] 可見(jiàn)，在本實(shí)用新型提供的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置中，可以利用楔形劈尖 干涉元件通過(guò)Fizeau干涉原理對(duì)真空紫外激光線寬進(jìn)行測(cè)量，根據(jù)所獲得的兩束相干光 束的干涉條紋信息來(lái)獲得真空紫外激光的線寬，解決了現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于波長(zhǎng)小于185nm的 真空紫外激光無(wú)法直接測(cè)量激光線寬的技術(shù)問(wèn)題。本實(shí)用新型光學(xué)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，性能穩(wěn)定，響 應(yīng)速度快，對(duì)連續(xù)、準(zhǔn)連續(xù)和脈沖真空紫外激光均可實(shí)時(shí)測(cè)量。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0041] 為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是 本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下， 還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0042] 圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的基本結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043] 圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的相干光束形成示意圖；
[0044] 圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例1真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045] 圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例2真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0046] 圖5是本實(shí)用新型實(shí)施例3真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0047] 圖6是本實(shí)用新型實(shí)施例4真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0048] 圖7是本實(shí)用新型實(shí)施例5真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0049] 為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新 型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描 述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施 例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于 本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0050] 本實(shí)用新型實(shí)施例首先提出一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，參見(jiàn)圖1，包括： 真空腔系統(tǒng)1、光束準(zhǔn)直系統(tǒng)2、干涉元件3、探測(cè)元件4和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)5 ;
[0051] 所述真空腔系統(tǒng)1包括腔體1-1和入射窗口 1-2,所述腔體1-1內(nèi)為真空或充滿對(duì) 真空紫外激光吸收較低的氣體，用于防止真空紫外激光被吸收，所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)2、干涉 元件3和探測(cè)元件4均置于所述腔體1-1內(nèi)；所述入射窗口 1-2位于所述腔體1-1的腔壁 上，用于入射真空紫外激光；
[0052] 所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)2用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直；
[0053] 所述干涉元件3為楔形劈尖，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光反射形成兩束相干光 束，在所述探測(cè)元件4表面產(chǎn)生干涉條紋；
[0054] 所述探測(cè)元件4為真空紫外波段可用的探測(cè)器，用于采集所述干涉條紋的信息；
[0055] 所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)5在所述腔體1-1外，與所述探測(cè)元件4相連，用于采集和處理 所述探測(cè)元件獲得的干涉條紋的信息，得到所述真空紫外激光的線寬。
[0056] 可見(jiàn)，在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置中，可以利用楔 形劈尖干涉元件通過(guò)Fizeau干涉原理對(duì)真空紫外激光線寬進(jìn)行測(cè)量，根據(jù)所獲得的兩束 相干光束的干涉條紋信息來(lái)獲得真空紫外激光的線寬，解決了現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于波長(zhǎng)小于 185nm的真空紫外激光無(wú)法直接測(cè)量激光線寬的技術(shù)問(wèn)題。
[0057] 在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，干涉元件3可以是：兩個(gè)光學(xué)平板和帶小 楔角的兩個(gè)光學(xué)材料墊塊。兩個(gè)光學(xué)材料墊塊分別夾在兩個(gè)光學(xué)平板的內(nèi)側(cè)兩端，形成空 心楔形空間。以上兩個(gè)光學(xué)平板的不鍍膜的內(nèi)表面和空心楔形空間共同構(gòu)成干涉元件3的 干涉腔，用于把真空紫外激光反射為兩束相干光束。
[0058] 在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，光學(xué)材料墊塊可以是：石英墊塊，或氟 化鈣墊塊，或氟化鎂墊塊等利用常見(jiàn)光學(xué)材料制成的墊塊。而制造兩個(gè)光學(xué)平板的材料可 以是：氟化鈣、氟化鎂等在真空紫外波段透過(guò)率較高的材料。兩個(gè)光學(xué)平板的不鍍膜的內(nèi)表 面的粗糙度可以小于真空紫外激光的波長(zhǎng)的1/5。兩個(gè)光學(xué)材料墊塊和兩個(gè)光學(xué)平板之間 可以米用光膠方法膠合為一體。
[0059] 在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，干涉元件3還可以是實(shí)心楔形劈尖，其兩 個(gè)外表面和實(shí)體楔形空間構(gòu)成干涉元件3的干涉腔。制造實(shí)心楔形劈尖的材料可以是：氟 化鈣、氟化鎂中的一種。實(shí)心楔形劈尖的兩個(gè)外表面的粗糙度可以小于真空紫外激光的波 長(zhǎng)的1/5。
[0060] 在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，探測(cè)元件4可以是真空紫外電荷耦合 器件（VUV CCD)，或狹縫掃描式探測(cè)器。其中狹縫掃描式探測(cè)器可以包括真空紫外光功率計(jì) 和狹縫，真空紫外光功率計(jì)的探測(cè)面積大于所形成的干涉條紋的面積，狹縫位于真空紫外 光功率計(jì)之前，長(zhǎng)度方向平行于干涉條紋，并在測(cè)量時(shí)滿足狹縫掃描覆蓋整個(gè)干涉條紋區(qū) 域。為了減小準(zhǔn)直或其他因素造成的波前誤差對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響，優(yōu)選地，探測(cè)元件4可以 位于兩束相干光束的零剪切面上。零剪切面是一個(gè)過(guò)兩相干光束的交點(diǎn)且垂直于兩束相干 光束夾角平分線的平面。
[0061] 在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，光束準(zhǔn)直系統(tǒng)2可以包括：會(huì)聚透鏡、準(zhǔn) 直透鏡和空間濾波器；其中會(huì)聚透鏡和準(zhǔn)直透鏡共焦放置，用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn) 行準(zhǔn)直擴(kuò)束；空間濾波器包括小孔，小孔位于會(huì)聚透鏡和準(zhǔn)直透鏡的焦點(diǎn)位置，用于對(duì)經(jīng)過(guò) 會(huì)聚透鏡的真空紫外激光進(jìn)行小孔濾波，使出射的平行光達(dá)到較高的波面質(zhì)量，減小測(cè)量 誤差。另外，準(zhǔn)直透鏡還可以替換為準(zhǔn)直凹面鏡。
[0062] 在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，真空腔系統(tǒng)1的腔體1-1內(nèi)可以充滿對(duì) 真空紫外激光吸收較低的氣體，或抽真空，以防止入射的真空紫外激光被吸收。
[0063] 在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，測(cè)量裝置還可以包括：分光鏡，置于光束 準(zhǔn)直系統(tǒng)2和干涉元件3之間，與準(zhǔn)直后的真空紫外激光的光路成45度夾角，用于將準(zhǔn)直 后的真空紫外激光透射至干涉元件3,并將干涉元件3反射的兩束相干光束反射至探測(cè)元 件4的表面。在本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，測(cè)量裝置還可以包括柱狀透鏡，置 于干涉元件3和探測(cè)元件4之間，用于將兩束相干光束聚焦至探測(cè)元件4的表面。
[0064] 在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，入射的真空紫外激光經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直擴(kuò)束后，被干涉元 件3反射形成兩束小角度交叉的相干光束，并在探測(cè)元件4表面形成等間距的干涉條紋。圖 2為經(jīng)干涉元件3的干涉腔反射形成兩束相干光束的示意圖，其中經(jīng)光束準(zhǔn)直系統(tǒng)2準(zhǔn)直后 的光束分別由干涉腔3-1的上下兩個(gè)表面反射，即可形成小角度交叉的兩束相干光束，兩 束相干光束相交于探測(cè)元件4的表面，在探測(cè)元件4表面形成干涉條紋。優(yōu)選地，數(shù)據(jù)處理 系統(tǒng)5可以用于：通過(guò)采集和處理探測(cè)元件4獲得的干涉條紋的信息，得到干涉條紋的對(duì)比 度，然后根據(jù)干涉條紋的對(duì)比度計(jì)算真空紫外激光的線寬。數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)5可以由數(shù)據(jù)采 集卡和PC端數(shù)據(jù)處理軟件組成。
[0065] 由干涉條紋對(duì)比度計(jì)算激光線寬的原理（Christopher Reiser, Peter Esherick,Robert B.Lopert, ^Laser-1 inewidth measurement with a Fizeau wavemeter"，1988(13) :981)如下：
[0066] 對(duì)于嚴(yán)格的單色光，干涉條紋歸一化光強(qiáng)分布可以描述為
[0067] I (X) = {1-cos [2 π (L+2xtan a ) v0]}/2 (1)
[0068] 其中，為入射光的波數(shù)，L/2為Fizeau劈尖厚度，α為劈尖夾角，x為沿條紋 分布方向的距離。
[0069] 對(duì)于線寬為b的Gaussian線型激光光源，干涉條紋歸一化光強(qiáng)分布為
[0070]

【權(quán)利要求】
1. 一種真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于，包括：真空腔系統(tǒng)、光束準(zhǔn)直系 統(tǒng)、干涉元件、探測(cè)元件和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)； 所述真空腔系統(tǒng)包括腔體和入射窗口，所述腔體內(nèi)為真空或充滿對(duì)真空紫外激光吸收 較低的氣體，用于防止真空紫外激光被吸收，所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)、干涉元件和探測(cè)元件均置 于所述腔體內(nèi)；所述入射窗口位于所述腔體的腔壁上，用于入射真空紫外激光； 所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直； 所述干涉元件為楔形劈尖，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光反射形成兩束相干光束，在 所述探測(cè)元件表面產(chǎn)生干涉條紋； 所述探測(cè)元件為真空紫外波段可用的探測(cè)器，用于采集所述干涉條紋的信息； 所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在所述腔體外，與所述探測(cè)元件相連，用于采集和處理所述探測(cè)元 件獲得的干涉條紋的信息，得到所述真空紫外激光的線寬。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于： 所述干涉元件包括：兩個(gè)光學(xué)平板和帶小楔角的兩個(gè)光學(xué)材料墊塊，所述兩個(gè)光學(xué)材 料墊塊分別夾在所述兩個(gè)光學(xué)平板的內(nèi)側(cè)兩端，形成空心楔形空間； 所述兩個(gè)光學(xué)平板的不鍍膜的內(nèi)表面和所述空心楔形空間構(gòu)成所述干涉元件的干涉 腔。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于： 所述光學(xué)材料墊塊為：石英墊塊，或氟化鈣墊塊，或氟化鎂墊塊； 所述兩個(gè)光學(xué)平板的材料為：氟化鈣、氟化鎂中的一種； 所述光學(xué)材料墊塊與所述兩個(gè)光學(xué)平板之間采用光膠方法膠合為一體。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于，所述干涉元件 為：實(shí)心楔形劈尖，其兩個(gè)外表面和實(shí)體楔形空間構(gòu)成所述干涉元件的干涉腔。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于： 所述實(shí)心楔形劈尖的材料為：氟化鈣、氟化鎂中的一種。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于： 所述探測(cè)元件為真空紫外電荷耦合器件，或狹縫掃描式探測(cè)器；所述狹縫掃描式探測(cè) 器包括真空紫外光功率計(jì)和狹縫，所述真空紫外光功率計(jì)的探測(cè)面積大于所述干涉條紋的 面積，所述狹縫位于所述真空紫外光功率計(jì)之前，長(zhǎng)度方向平行于所述干涉條紋，并在測(cè)量 時(shí)掃描覆蓋整個(gè)干涉條紋區(qū)域； 所述探測(cè)元件位于所述兩束相干光束的零剪切面上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于，所述光束準(zhǔn)直 系統(tǒng)包括： 會(huì)聚透鏡、準(zhǔn)直透鏡和空間濾波器；所述會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直透鏡共焦放置，用于對(duì)入 射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直擴(kuò)束；所述空間濾波器包括小孔，所述小孔位于所述會(huì)聚透鏡 和所述準(zhǔn)直透鏡的焦點(diǎn)位置，用于對(duì)經(jīng)過(guò)會(huì)聚透鏡的真空紫外激光進(jìn)行小孔濾波； 或，會(huì)聚透鏡、準(zhǔn)直凹面鏡和空間濾波器；所述會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直凹面鏡共焦放置， 用于對(duì)入射的真空紫外激光進(jìn)行準(zhǔn)直擴(kuò)束；所述空間濾波器包括小孔，所述小孔位于所述 會(huì)聚透鏡和所述準(zhǔn)直凹面鏡的焦點(diǎn)位置，用于對(duì)經(jīng)過(guò)會(huì)聚透鏡的真空紫外激光進(jìn)行小孔濾 波。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于： 所述腔體內(nèi)為真空或充滿對(duì)真空紫外激光吸收較低的氣體。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空紫外激光線寬的測(cè)量裝置，其特征在于，所述裝置還包 括： 分光鏡，置于所述光束準(zhǔn)直系統(tǒng)和所述干涉元件之間，與準(zhǔn)直后的真空紫外激光的光 路成45度夾角，用于將準(zhǔn)直后的真空紫外激光透射至所述干涉元件，并將所述干涉元件反 射的兩束相干光束反射至所述探測(cè)元件表面； 和/或，柱狀透鏡，置于所述干涉元件和所述探測(cè)元件之間，用于將所述兩束相干光束 聚焦至探測(cè)元件的表面。
【文檔編號(hào)】G01J9/02GK203848938SQ201420070415
【公開(kāi)日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2014年2月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月18日
【發(fā)明者】宗楠, 趙巍, 許祖彥, 彭欽軍, 張申金, 楊峰, 王志敏, 張豐豐 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院理化技術(shù)研究所