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      一種水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置及方法與流程

      文檔序號:11152046閱讀:954來源:國知局
      一種水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置及方法與制造工藝

      本發(fā)明涉及水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置及方法。



      背景技術(shù):

      鑒于深海資源開發(fā)、海洋科研以及水下工程作業(yè)的迫切需求,使得水下激光成像技術(shù)研究和裝備研制成為當前國內(nèi)外重點研究方向之一。但由于光在水中的衰減以及水中的雜質(zhì)對光的散射作用,使得水下激光成像的作用距離和成像質(zhì)量受到影響。研究水下激光成像設(shè)備主要技術(shù)指標及關(guān)鍵參數(shù)的測試和測量,需要搭建相關(guān)的試驗平臺,模擬被測設(shè)備的應(yīng)用環(huán)境,測試測量其工作特性。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的是針對水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量的不足,搭建一套可模擬水下環(huán)境的一種水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置及方法,用以模擬水下光電成像設(shè)備的工作環(huán)境,提供水下目標供被測設(shè)備成像,對成像質(zhì)量及最大衰減長度進行測量。

      本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的,一種水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置,其包括:

      一試驗水槽、一移動導軌、一目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)、一水下目標觀察窗口、一激光測距儀、多個高度可調(diào)的腳輪以及一計算機;

      移動導軌包括兩條精密絲桿,安裝在試驗水槽縱向的兩條長邊的上方;靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)跨接在移動導軌上,可在移動導軌上沿試驗水槽縱向做水平位移;水下目標觀察窗口為透明材質(zhì),安裝在試驗水槽的一端;激光測距儀安裝在試驗水槽上帶有水下目標觀察窗口的一端上方;腳輪安裝在試驗水槽下方;計算機位于水下目標觀察窗口前方;

      移動導軌,用于承載目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)在水平方向上的移動,移動導軌兩條軸線水平且互相平行。

      試驗水槽,用于盛放配置好的具有一定水質(zhì)衰減系數(shù)的實驗水樣本,創(chuàng)造一個模擬的水下環(huán)境;

      靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)為靶板的安裝機構(gòu)并用于調(diào)節(jié)靶板靶面的方位;

      激光測距儀,用于測量水下目標觀察窗口與靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)之間的距離,并發(fā)送到計算機;

      腳輪,用于帶動試驗水槽在水平地面上移動,以及固定試驗水槽位置,并用于調(diào)節(jié)試驗水槽的水平角度;

      計算機,用于對被測成像設(shè)備的圖像進行處理分析。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,試驗水槽四周壁及底部涂覆黑色吸光材料,用于形成一個暗箱環(huán)境。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,

      目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)包括調(diào)整手柄、帶直線軸承的安裝支架及目標靶板;

      目標靶板安裝在目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)的下部,當試驗水槽盛滿水后,目標靶板完全浸沒在其中,用于提供水下成像目標;調(diào)整手柄用于旋轉(zhuǎn)使目標靶板沿垂向軸線旋轉(zhuǎn)以改變目標靶板的成像角度,且具有角度鎖緊裝置;

      目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)通過帶有直線軸承的安裝支架跨接在移動導軌上。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,

      水下目標觀察窗口采用高透玻璃制作并鍍增透膜,并進行密封以防止漏水,水下激光成像設(shè)備通過水下目標觀察窗口對浸沒在試驗水槽中的目標靶板成像,水下目標觀察窗口安裝平面應(yīng)試驗水槽縱向垂直。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,

      激光測距儀安裝在試驗水槽安裝有水下目標觀察窗口的一端的上方,測距方向瞄準目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu),用于測量出目標靶板的位置,從而得到被測水下激光成像設(shè)備的成像距離,并將成像距離發(fā)送到計算機。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,

      計算機用于采集被測水下激光成像設(shè)備對水下目標靶板所成的圖像,并進行分析,確定能分辨的圖像極限,計算最大衰減長度。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置中,

      試驗水槽底部安裝的腳輪為六個,用于承載試驗水槽及安裝在試驗水槽上的其他裝置,通過六個腳輪上的高度調(diào)節(jié)固定裝置可以調(diào)節(jié)試驗水槽的水平角度并固定其位置。

      本發(fā)明還提供一種使用上述任一項所述的測量裝置測量水下激光成像設(shè)備最大衰減長度的方法,它包括下述步驟:

      第一步、調(diào)節(jié)試驗水槽底部各個腳輪,保證各個腳輪均勻受力,且試驗水槽處于水平;

      第二步、檢查移動導軌上的絲桿是否清潔無雜物,目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)在未鎖死的情況下是否能夠在移動導軌上平滑移動,方位調(diào)整手柄是否能夠順利轉(zhuǎn)動;

      第三步、在目標靶安裝于方位調(diào)節(jié)機構(gòu)上安裝目標靶板;

      第四步、檢查水下目標觀察窗口是否清潔透明,以能夠從水下目標觀察窗口清晰觀察試驗水槽內(nèi)部目標;

      第五步、往試驗水槽中注入所需特定衰減系數(shù)的水體樣本,構(gòu)成一個模擬的水下環(huán)境;

      第六步、使用被測水下激光成像設(shè)備通過水下目標觀察窗口對浸沒在水中的目標靶板成像,由激光測距儀測量出成像距離,通過計算機中的測量軟件對成像質(zhì)量分析得出被測成像設(shè)備在某特定成像環(huán)境下的最大衰減長度。

      在本發(fā)明所述的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量方法中,通過向試驗水槽中的水里添加不同量的添加物改變衰減系數(shù),通過調(diào)節(jié)目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)在移動導軌上的位置改變成像距離,通過成像靶板上的不同的靶標圖案來改變圖像對比度和分辨率,以得到不同環(huán)境參數(shù)條件下對不同圖像的水下激光成像最大衰減長度。

      本發(fā)明的水下激光成像設(shè)備最大衰減長度測量裝置及方法,根據(jù)水下激光成像設(shè)備的工作特性,采用四周壁及底部涂上黑色吸光材料的試驗水槽,向水槽內(nèi)注滿水后以一個有限的小空間模擬實際大空間的水下環(huán)境;通過往試驗水槽中注入與被模擬環(huán)境相同衰減系數(shù)的水樣本,模擬不同水質(zhì)條件的水下環(huán)境;采用在試驗水槽上安裝目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu),讓目標靶板浸沒在試驗水槽中,模擬被水下激光成像設(shè)備探測的水下目標;通過調(diào)節(jié)目標靶板在試驗水槽中的方位和位置,可以測試目標靶板在不同方位和不同作用距離下在激光成像設(shè)備中的成像質(zhì)量;通過更換不同分辨率對比度的目標靶,可以測試不同分辨率對比度的目標在激光成像設(shè)備中的成像質(zhì)量;通過在試驗水槽的一端設(shè)計水下目標觀察窗口,便于對試驗水槽中目標觀察和進行相關(guān)的測試。本發(fā)明是一套全面系統(tǒng)的測量裝置,可以模擬不同水參數(shù)下的試驗環(huán)境、不同分辨率對比度的水下目標、不同的目標作用距離和方位等,用于對水下激光成像設(shè)備進行成像質(zhì)量及最大衰減長度等參數(shù)的測量。

      附圖說明

      參照相應(yīng)附圖,結(jié)合優(yōu)選實施方式,本發(fā)明的其他目的、細節(jié)、特征和優(yōu)勢將變得更為清楚,所述實施例僅為例示性介紹并無限制的意圖,其中:

      圖1 為測量裝置組成正視圖;

      圖2 為測量裝置組成俯視圖;

      圖3為目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)第一組成圖;

      圖4為目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)第二組成圖;

      1-試驗水槽,2-移動導軌,3-目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu),3.1-調(diào)整手柄,3.2-帶直線軸承的安裝支架,3.3-目標靶板,4-水下目標觀察窗口,5-激光測距儀,6-腳輪,7-計算機。

      具體實施方式

      為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實施例,對本發(fā)明進行進一步詳細說明。

      實施例1:是本發(fā)明的一個基本實施例。如圖1所示,一種模擬水下環(huán)境的實驗裝置它包括一個試驗水槽1,用于容納特定衰減系數(shù)的水體;一個移動導軌2,安裝在試驗水槽1縱向的兩條長邊的上方;一個靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3,它包括調(diào)整手柄3.1、帶直線軸承的安裝支架3.2及目標靶板3.3;靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3通過安裝支架3.2跨接在移動導軌2上,可以在移動導軌2上沿試驗水槽1縱向做水平位移,調(diào)整手柄3.1用于調(diào)節(jié)及鎖緊目標靶板3.3的方位;一個水下目標觀察窗口4,安裝在試驗水槽1的一端;一個激光測距儀5,安裝在試驗水槽1上,測量水下目標觀察窗口4與靶板安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3之間的距離;六個帶高度調(diào)節(jié)固定裝置的腳輪6,用于試驗水槽1的移動、調(diào)整及固定。

      實施例2:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,試驗水槽1作為一個盛水裝置,其四周壁與底部應(yīng)粘合牢固,可以承受試驗水槽1盛滿水后四周壁及底部的壓力,同時具有防水性能,保證在長期盛水情況下無滲漏情況發(fā)生。試驗水槽1的內(nèi)徑及縱向尺寸根據(jù)需要確定,應(yīng)能夠滿足完成被測水下激光成像設(shè)備的視場和成像距離要求。試驗水槽的形狀根據(jù)實際情況可以設(shè)計為圓筒狀或者長方體。

      實施例3:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,其試驗水槽1盛滿水后以一個有限的小空間模擬實際大空間的水下環(huán)境。水下激光成像設(shè)備實際的工作環(huán)境可以認為是一個暗箱環(huán)境,成像目標只受到激光的照明。因此要充分減小試驗水槽1的四周壁及底部對水下激光成像設(shè)備入射照明激光的后向散射和反射,以避免激光的散射和反射再次照射到模擬目標,影響模擬的真實性。因此在試驗水槽1四周壁及底部涂上黑色吸光材料,形成一個暗箱環(huán)境。試驗水槽1四周壁和底部的吸光材料要求耐腐蝕,具有長期穩(wěn)定性,不會對試驗水槽1中的水樣品的物理或者化學特性產(chǎn)生影響從而改變水體的衰減系數(shù);不會對外部入射激光有散射和反射作用,并且能阻止試驗水槽1外部的光線透過試驗水槽1對內(nèi)部的環(huán)境產(chǎn)生影響。

      實施例4:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,其移動導軌2安裝在試驗水槽1縱向的兩條長邊的上方,承載目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在水平方向上的移動,其兩條軸線水平且互相平行。在移動導軌2上設(shè)置有距離標識刻線,可以指示目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在移動導軌2上的大致位置。移動導軌2表面拋光處理并具有一定的直線度,便于承載目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3且能順利在其上移動。同時,移動導軌2的兩端設(shè)有限位裝置,防止目標靶安裝于方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在移動到導軌兩端時碰撞到試驗水槽1的有關(guān)機構(gòu)造成損傷。

      實施例5:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,其目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3通過帶有直線軸承的安裝支架3.2跨接在移動導軌2上,可以沿移動導軌2軸線方向上移動,且具有鎖緊功能,在移動到確定的位置后可以通過鎖緊機構(gòu)將目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3固定在移動導軌2上,防止其在水平方向上的滑動影響成像。

      實施例6:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,目標靶板3.3安裝在目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3的下部,目標靶板3.3應(yīng)牢固安裝以避免在水中的晃動及漂浮。當試驗水槽1盛滿水后,目標靶板3.3完全浸沒在其中,為被測水下激光成像設(shè)備提供水下成像目標。目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3具有調(diào)整手柄3.1,可以旋轉(zhuǎn)調(diào)整手柄3.1使目標靶板3.3沿垂向軸線旋轉(zhuǎn)以改變并能夠鎖定靶板平面與被測成像設(shè)備光軸的角度,其作用之一是得到被測成像設(shè)備在不同的成像角度下的水下目標圖像,其作用之二是當目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在移動導軌2上移動的時候,將目標靶板3.3旋轉(zhuǎn)至與移動導軌2的方向平行,以減小其在水中移動時的阻力,方便操作。

      實施例7:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,其水下目標觀察窗口4采用高透玻璃制作并針對被測水下激光成像設(shè)備的工作波長鍍增透膜,嵌入安裝在試驗水槽1的一端,通過帶有密封墊圈的壓板牢固安裝在試驗水槽1的一端的面板上,避免滲水,安裝螺釘使用不銹鋼材料避免銹蝕。水下激光成像設(shè)備通過水下目標觀察窗口4對水下目標成像,水下目標觀察窗口4安裝平面應(yīng)與試驗水槽1縱向垂直。其大小應(yīng)根據(jù)試驗水槽1的端面大小以及被測成像設(shè)備的視場綜合考慮確定,具有一定的強度,能夠承受試驗水槽1內(nèi)部盛滿水的壓力,鍍增透膜以在被測成像設(shè)備的工作波長具有高透過率,減少對入射照明激光的衰減。

      實施例8:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,一個激光測距儀5安裝在試驗水槽1帶有觀察窗口4的一端上方,激光測距儀5的測量方向與移動導軌2的方向一致,測距激光瞄準目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3,從而精確測量出目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在移動導軌2上的位置。再通過確定目標靶板3.3在目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3上的位置以及激光測距儀5與被測水下激光成像設(shè)備之間的距離,從而得出成像距離——即被測成像設(shè)備與目標靶板3.3之間的距離。

      實施例9:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,試驗水槽1底部安裝六個腳輪6,腳輪6帶有高度調(diào)節(jié)及鎖緊裝置,當其收起時,試驗水槽1可以通過腳輪在地面移動調(diào)整安放位置,當其放下時,試驗水槽1在地面的位置固定并可以調(diào)節(jié)和鎖定水平方向角度,在腳輪6旁邊還可以設(shè)置輔助支撐裝置以減小試驗水槽1在盛水后的整體結(jié)構(gòu)形變,確保穩(wěn)定。

      實施例10:是進一步的實施例。與上述實施例1不同的是,計算機7安裝圖像采集卡采集被測成像設(shè)備對水下目標靶板3.3所成的圖像,并通過對圖像分辨率和對比度的分析,確定被測成像設(shè)備在特定衰減系數(shù)和成像距離上的識別極限,進而計算出被測成像設(shè)備的最大衰減長度。

      實施例11:是一種使用本發(fā)明所述的測量裝置模擬某水質(zhì)條件下的水下環(huán)境方法,它包括下述步驟:第一步、調(diào)節(jié)試驗水槽1底部六個腳輪6,保證六個腳輪6均勻受力,且試驗水槽1處于水平;第二步、檢查移動導軌2絲桿是否清潔無雜物,目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在未鎖死的情況下是否能夠在移動導軌上2平滑移動,方位調(diào)整手柄3.1是否能夠順利轉(zhuǎn)動;第三步、在目標靶安裝于方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3上安裝目標靶板3.3;第四步、檢查水下目標觀察窗口是否清潔透明,以能夠從水下目標觀察窗口清晰觀察試驗水槽1內(nèi)部目標;第五步、往試驗水槽1中注入所需特定衰減系數(shù)的水體樣本,構(gòu)成一個模擬的水下環(huán)境。第六步、使用被測成像設(shè)備通過水下目標觀察窗口4對浸沒在水中的目標靶板3.3成像,由激光測距儀5測量出成像距離,通過計算機7中的測量軟件對成像質(zhì)量分析得出被測成像設(shè)備在某特定成像環(huán)境下的最大衰減長度。

      實施例12:是進一步的實施例。與上述實施例11不同的是,其所述特定衰減系數(shù)的水體樣本,是通過向水中添加一定量的無機鹽并充分攪拌均勻來實現(xiàn),其對激光的衰減系數(shù)由專門的水體衰減系數(shù)測量裝置取樣測量,并記錄在測量軟件中用于計算最大衰減長度。

      實施例13:是進一步的實施例。成像環(huán)境參數(shù)的改變通過下述方式實現(xiàn):通過向試驗水槽1中添加不同量的添加物改變衰減系數(shù),通過調(diào)節(jié)目標靶安裝與方位調(diào)節(jié)機構(gòu)3在移動導軌2上的位置改變成像距離,通過成像靶板3.3上的不同的靶標圖案來改變圖像對比度和分辨率。在某特定衰減系數(shù)下由被測成像設(shè)備對某特定靶標圖案成像,改變成像距離以至被測成像設(shè)備不能分辨靶標圖案為止得到該條件下的最大成像距離,計算出最大衰減長度;然后保持水體衰減系數(shù)不變,更換靶標圖像后再改變成像距離進行測量;所需圖案靶標測量完畢后,改變水體的衰減系數(shù),再次重復上述過程。從而得到一組不同衰減系數(shù)條件下,被測成像設(shè)備對不同分辨率和對比度的水下目標的最大衰減長度。

      以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。

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