用于測定水的暫時硬度的方法和裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種測定可以通過流體處理設(shè)備的流體處理部件從流體去除的組分 的濃度的量度的方法，該方法包括操作流體處理裝置，所述流體處理裝置包括：
[0002] 用于未處理流體的入口；
[0003] 入口和至少一條第一流體路徑以及至少一條第二流體路徑之間的分支點(diǎn)，
[0004] 每個第一流體路徑包括至少一個流體處理部件，所述流體處理部件用于處理流體 以至少在一定程度上去除通過流體處理部件的流體中的至少某些類型的組分，
[0005] 每個第二流體路徑旁路至少一個流體處理部件，在使用中，第二流體路徑在零和 一之間引導(dǎo)通過入口接收的流體的混合比值；以及
[0006] 混合位置，第一和第二流體路徑在混合位置匯合，所述方法包括：
[0007] 獲取至少兩個測量值，分別表示所述流體一參數(shù)的相應(yīng)值，所述值部分依賴于通 過被旁路的流體處理部件可去除的組分的濃度，
[0008] 其中，至少第一個所述測量值是從所述混合位置的下游實(shí)施的第一測量獲取的 值；以及
[0009] 根據(jù)至少第一測量值和第二測量值之間的差確定表示未處理流體和混合位置下 游的流體中至少之一的量度的輸出值，所述第二測量值獲取自以與所述第一測量的混合比 值的不同的值在混合位置下游的測量和針對未處理的流體實(shí)施的測量中之一。
[0010] 本發(fā)明還涉及通過操作流體處理裝置測定可以通過流體處理設(shè)備的流體處理部 件從流體去除的組分的濃度的量度的系統(tǒng)，所述流體處理裝置包括：
[0011] 用于未處理流體的入口；
[0012] 入口和至少一條第一流體路徑以及至少一條第二流體路徑之間的分支點(diǎn)，
[0013] 每個第一流體路徑包括至少一個流體處理部件，所述流體處理部件用于處理流體 以至少在一定程度上去除通過流體處理部件的流體中的至少某些類型的組分，
[0014] 每個第二流體路徑旁路至少一個流體處理部件，在使用中，第二流體路徑在零和 一之間引導(dǎo)通過入口接收的流體的混合比值；以及
[0015] 混合位置，第一和第二流體路徑在混合位置匯合，所述系統(tǒng)包括：
[0016] 與至少一個傳感器的至少一個接口，用于獲取至少兩個測量值，每個測量值表示 所述流體一參數(shù)的相應(yīng)值，所述值部分依賴于通過被旁路的流體處理部件可去除的組分的 濃度，
[0017] 其中，所述系統(tǒng)被配置為獲取測量值中的至少第一測量值，該第一測量值為從混 合位置下游實(shí)施的第一測量獲取的值的形式；以及
[0018] 數(shù)據(jù)處理單元，其被配置為根據(jù)至少第一測量值和第二測量值之間的差來確定表 示未處理流體和混合位置下游的流體中至少之一的量度的輸出值，第二測量值獲取自以與 所述第一測量的混合比值的不同的值在混合位置下游的測量和針對未處理的流體實(shí)施的 測量中之一。
[0019] 本發(fā)明還涉及用于處理流體的系統(tǒng)，包括：
[0020] 用于未處理流體的入口；
[0021] 入口和至少一條第一流體路徑以及至少一條第二流體路徑之間的分支點(diǎn)，
[0022] 每個第一流體路徑包括至少一個流體處理部件，所述流體處理部件用于處理流體 以至少在一定程度上去除通過流體處理部件的流體中的至少某些類型的組分，
[0023] 每個第二流體路徑旁路至少一個流體處理部件，在使用中，第二流體路徑在零和 一之間引導(dǎo)通過入口接收的流體的混合比值；以及
[0024] 混合位置，第一和第二流體路徑在混合位置匯合。
[0025] 本發(fā)明也涉及計算機(jī)程序。
【背景技術(shù)】
[0026] EP 2 169 393 Al公開了一種測量水的硬度的方法和裝置。在一個實(shí)施例中，待測 量的水在分流站被分成幾個子流，并且流向不同的處理設(shè)備。在子流被處理之后，它們接下 來通過第二分流站的閥流向電導(dǎo)率測量設(shè)備。然后，相關(guān)的值輸出至評價設(shè)備，水的硬度在 評價設(shè)備中測定。這些方法的變形的優(yōu)勢在于只需要一個電導(dǎo)率測量設(shè)備。因此，消除了 偏移誤差，特別是使得電導(dǎo)率差的明顯更精確的測定成為可能。EP 2169393A1還公開了水 的一部分應(yīng)當(dāng)不被處理。該方法特別適用于水混合設(shè)備。這意味著提前實(shí)施軟化水與硬水 的混合。可以使用公開的方法測定混和之后的水的硬度。
[0027] 公知方法的一個問題是需要多個處理設(shè)備，即至少一個用于水的實(shí)際軟化的設(shè)備 和至少一個用于后續(xù)測量的設(shè)備。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0028] 本發(fā)明的目的是提供一種上述類型的方法、系統(tǒng)和計算機(jī)程序，所述方法、系統(tǒng)和 計算機(jī)程序可以用于根據(jù)也依賴于其他的組分的濃度的性質(zhì)的測量獲取通過流體處理設(shè) 備的流體處理部件從流體可去除的組分的濃度的相對精確的量度，并且適用于以相對有效 的方式與流體處理裝置結(jié)合。
[0029] 根據(jù)本發(fā)明的方法的第一方面獲得該目的，其特征在于：
[0030] 至少如果用于獲取第二測量值的測量是在混合位置的下游以混合比值為零的值 的測量之外的測量，
[0031] 根據(jù)表示相對于參考值在所述第一測量中采用（prevailing)的混合比值的值確 定所述輸出值。
[0032] 術(shù)語組分在本文中用于表示懸浮在或者溶解在流體中的成分。例如，特別涉及某 些礦物、某些離子種類或者某些離子種類的可限定部分，例如那些對暫時硬度有貢獻(xiàn)的部 分。參考值可以是常數(shù)，特別是零，或者是可變的已知值。
[0033] 流體處理裝置包括用于未處理流體的入口、入口和至少一條第一流體路徑以及至 少一條第二流體路徑之間的分支點(diǎn)、以及混合位置，第一和第二流體路徑在混合位置匯合。 因此混合位置在第一流體路徑的處理部件的下游。假設(shè)第二流體路徑旁路所有的這種處理 部件（但是不必須旁路不同類型的處理部件），所述流體處理裝置可以用于提供作為兩種 流體的混合的流體，一種流體經(jīng)歷流體處理部件被配置為實(shí)施的類型的處理，另一種流體 不經(jīng)歷這種處理。不經(jīng)歷這種處理的流體的比例稱為混合比值。
[0034] 流體處理部件通常被配置為從經(jīng)過它的流體中去除絕大多數(shù)的某些類型的組分， 至少只要它沒有到達(dá)它的可用壽命的終止。然而，它可以被配置為將這些組分去除至小于 100%的已知的或可知的特定程度。為了從入口處提供的未處理流體中部分去除這些組分， 入口處提供的未處理流體的一部分通過第二流體路徑。本文所述的方法用于測定表示通過 流體處理部件從未處理狀態(tài)的流體或者在混合位置的下游普遍（prevailing)的狀態(tài)的流 體中可去除的組分的濃度的值。
[0035] 本文所述的方法使用表示不僅部分依賴于可以通過處理部件去除的組分的濃度， 還依賴于其他組分的濃度的流體的參數(shù)值的測量值。這種參數(shù)的一個示例是電導(dǎo)率，電導(dǎo) 率依賴于溶解的離子種類的總濃度，而不僅僅是那些引起暫時硬度的離子種類的濃度。其 他離子種類與那些引起暫時硬度的離子種類的比值是不固定的并且通常不能準(zhǔn)確地知道。 通過求針對已處理流體和未處理流體的不同的比值的第一測量值和第二測量值的差，可以 排除不能通過流體處理部件去除的組分的貢獻(xiàn)?？梢岳斫?，例如，從針對完