沿所述收集路徑 導(dǎo)引的照明的部分被檢測(cè)；及 計(jì)算系統(tǒng)，其通信地耦合到所述至少一個(gè)檢測(cè)器，所述計(jì)算系統(tǒng)經(jīng)配置以基于照明的 所述所檢測(cè)部分而確定所述樣本的至少一個(gè)空間屬性。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述照明掃描儀安置于所述照明路徑的所述光瞳 平面內(nèi)。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述照明掃描儀沿所述照明路徑安置于所述變跡 器與所述照明場(chǎng)光闌之間。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中所述變跡器安置于所述至少一個(gè)照明源與所述照 明掃描儀之間。5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中所述照明場(chǎng)光闌安置于所述至少一個(gè)照明源與所 述照明掃描儀之間。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述照明場(chǎng)光闌沿所述照明路徑安置于所述變跡 器與所述照明掃描儀之間。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述變跡器沿所述照明路徑安置于所述照明掃描 儀與所述照明場(chǎng)光闌之間。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述照明場(chǎng)光闌包括變跡場(chǎng)光闌。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述照明掃描儀經(jīng)進(jìn)一步配置以將沿所述收集路 徑從所述樣本的所述表面散射、反射或輻射的照明導(dǎo)引到所述至少一個(gè)檢測(cè)器。10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)照明源包括相干照明源。11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡器的變跡曲線：其中 F(p(k))是成本函數(shù)， P(k)是光瞳變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， 1?界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， X1界定場(chǎng)平面中的尾部減小及光瞳函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 NA界定光瞳孔徑。12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述收集場(chǎng)光闌包括經(jīng)配置以使沿所述收集路 徑導(dǎo)引的照明變跡的變跡場(chǎng)光闌。13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡收集場(chǎng)光闌的 變跡曲線：其中 F (p(x))是成本函數(shù)， P(X)是場(chǎng)光闌變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， 1?界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， λ2界定場(chǎng)平面中的尾部減小及收集場(chǎng)光闌函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 L界定場(chǎng)光闌大小。14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括： 光譜控制器，其沿所述照明路徑安置，所述光譜控制器經(jīng)配置以通過(guò)控制沿所述照明 路徑導(dǎo)引的照明的光譜而影響變跡。15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其中所述光譜控制器包含微鏡陣列、多個(gè)主動(dòng)式快 門(mén)或選定濾波器。16. -種用于執(zhí)行光學(xué)計(jì)量的系統(tǒng)，其包括： 載臺(tái)，其經(jīng)配置以支撐樣本； 至少一個(gè)照明源，其經(jīng)配置以提供沿照明路徑的照明以照明所述樣本的表面； 變跡光瞳，其沿所述照明路徑安置，所述變跡光瞳包含經(jīng)配置以提供四極照明功能的 至少四個(gè)長(zhǎng)形孔徑，所述變跡光瞳經(jīng)進(jìn)一步配置以使沿所述照明路徑導(dǎo)引的照明變跡； 照明場(chǎng)光闌，其沿所述照明路徑安置，所述照明場(chǎng)光闌經(jīng)配置以阻止沿所述照明路徑 導(dǎo)引的照明的部分照射所述樣本的所述表面； 至少一個(gè)檢測(cè)器，其經(jīng)配置以檢測(cè)沿收集路徑從所述樣本的所述表面散射、反射或輻 射的照明的部分；及 計(jì)算系統(tǒng)，其通信地耦合到所述至少一個(gè)檢測(cè)器，所述計(jì)算系統(tǒng)經(jīng)配置以基于照明的 所述所檢測(cè)部分而確定所述樣本的至少一個(gè)空間屬性。17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括： 照明掃描儀，其沿所述照明路徑安置，所述照明掃描儀經(jīng)配置以用所述變跡照明的至 少部分來(lái)掃描所述樣本的所述表面。18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述照明掃描儀經(jīng)進(jìn)一步配置以將沿所述收集 路徑從所述樣本的所述表面散射、反射或輻射的照明導(dǎo)引到所述至少一個(gè)檢測(cè)器。19. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述照明場(chǎng)光闌包括變跡場(chǎng)光闌。20. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)照明源包括相干照明源。21. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡光瞳的變跡曲 線：其中 F(p(k))是成本函數(shù)， P(X)是光瞳變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， h界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， λ 2界定場(chǎng)平面中的尾部減小及光瞳函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 NA界定光瞳孔徑。22. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括： 變跡收集場(chǎng)光闌，其沿所述收集路徑安置，所述變跡收集場(chǎng)光闌經(jīng)配置以使沿所述收 集路徑導(dǎo)引的照明變跡，且經(jīng)進(jìn)一步配置以阻止沿所述收集路徑導(dǎo)引的照明的部分被檢 測(cè)。23. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡收集場(chǎng)光闌的 變跡曲線：其中 F(p(k))是成本函數(shù)， P(X)是場(chǎng)光闌變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， 1?界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， λ2界定場(chǎng)平面中的尾部減小及收集場(chǎng)光闌函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 L界定場(chǎng)光闌大小。24. -種用于執(zhí)行光學(xué)計(jì)量的系統(tǒng)，其包括： 載臺(tái)，其經(jīng)配置以支撐樣本； 至少一個(gè)照明源，其經(jīng)配置以提供沿照明路徑的照明以照明所述樣本的表面； 變跡器，其安置于所述照明路徑的光瞳平面內(nèi)，所述變跡器經(jīng)配置以使沿所述照明路 徑導(dǎo)引的照明變跡； 照明場(chǎng)光闌，其沿所述照明路徑安置，所述照明場(chǎng)光闌經(jīng)配置以阻止沿所述照明路徑 導(dǎo)引的照明的部分照射所述樣本的所述表面； 至少一個(gè)檢測(cè)器，其經(jīng)配置以檢測(cè)沿收集路徑從所述樣本的所述表面散射、反射或輻 射的照明的部分； 變跡收集場(chǎng)光闌，其沿所述收集路徑安置，所述變跡收集場(chǎng)光闌經(jīng)配置以將沿所述收 集路徑導(dǎo)引的照明變跡，且經(jīng)進(jìn)一步配置以阻止沿所述收集路徑導(dǎo)引的照明的部分被檢 測(cè)；及 計(jì)算系統(tǒng)，其通信地耦合到所述至少一個(gè)檢測(cè)器，所述計(jì)算系統(tǒng)經(jīng)配置以基于照明的 所述所檢測(cè)部分而確定所述樣本的至少一個(gè)空間屬性。25. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括： 照明掃描儀，其沿所述照明路徑安置，所述照明掃描儀經(jīng)配置以用所述變跡照明的至 少部分來(lái)掃描所述樣本的所述表面。26. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中所述照明掃描儀經(jīng)進(jìn)一步配置以將沿所述收集 路徑從所述樣本的所述表面散射、反射或輻射的照明導(dǎo)引到所述至少一個(gè)檢測(cè)器。27. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其中所述照明場(chǎng)光闌包括變跡場(chǎng)光闌。28. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)照明源包括相干照明源。29. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡器的變跡曲 線：其中 F(p(k))是成本函數(shù)， P (k)是光瞳變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， h界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， X1界定場(chǎng)平面中的尾部減小及光瞳函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 NA界定光瞳孔徑。30. 根據(jù)權(quán)利要求24所述的系統(tǒng)，其中根據(jù)以下方程式而選擇所述變跡收集場(chǎng)光闌的 變跡曲線：其中 F (p(x))是成本函數(shù)， P(X)是場(chǎng)光闌變跡器曲線， χ〇界定所述樣本的目標(biāo)范圍， 1?界定所述光瞳平面的目標(biāo)范圍， λ2界定場(chǎng)平面中的尾部減小及收集場(chǎng)光闌函數(shù)均勻度的相對(duì)權(quán)重，且 L界定場(chǎng)光闌大小。
【專利摘要】本發(fā)明涉及用于光瞳成像散射測(cè)量的各種變跡方案。在一些實(shí)施例中，系統(tǒng)包含安置于照明路徑的光瞳平面內(nèi)的變跡器。在一些實(shí)施例中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包含經(jīng)配置以用變跡照明的至少一部分來(lái)掃描樣本的表面的照明掃描儀。在一些實(shí)施例中，所述系統(tǒng)包含經(jīng)配置以提供四極照明功能的變跡光瞳。在一些實(shí)施例中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包含變跡收集場(chǎng)光闌。本文中描述的各種實(shí)施例可經(jīng)組合以實(shí)現(xiàn)某些優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】H01L21/66, G01N21/47
【公開(kāi)號(hào)】CN104903705
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380069795
【發(fā)明人】安德魯·W·希爾, 阿姆農(nóng)·瑪納森, 巴拉克·布林戈?duì)柎? 歐哈德·巴沙爾, 馬克·吉諾烏克, 澤夫·博姆索恩, 丹尼爾·坎德?tīng)?
【申請(qǐng)人】科磊股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年9月9日
【申請(qǐng)日】2013年11月25日
【公告號(hào)】US9091650, US20140146322, US20150316783, WO2014085338A1