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      光學(xué)量測(cè)裝置及方法

      文檔序號(hào):9595546閱讀:409來源:國(guó)知局
      光學(xué)量測(cè)裝置及方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ] 本發(fā)明關(guān)于一種光學(xué)量測(cè)裝置以及方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 由于光學(xué)量測(cè)技術(shù)具有非侵入、快速反應(yīng)等優(yōu)點(diǎn),因此常被應(yīng)用于非接觸性的檢 測(cè)。例如可應(yīng)用于檢測(cè)眼球內(nèi)部的構(gòu)造或是皮膚下層的組織等等。然而,無論是何種光學(xué)量 測(cè)技術(shù),皆會(huì)遭遇量測(cè)機(jī)臺(tái)、受測(cè)物的生理反應(yīng)、或受測(cè)者移動(dòng)所造成的量測(cè)誤差的問題。
      [0003] 以采用光學(xué)同調(diào)斷層法的眼角膜量測(cè)裝置為例,為了避免上述的誤差產(chǎn)生的解決 的方法有二,其一可透過加快量測(cè)掃描時(shí)間、使得于量測(cè)期間的振動(dòng)的影響降低的方式?;?者,可透過于量測(cè)裝置中設(shè)置兩組光源模塊,兩組光源模塊可同時(shí)產(chǎn)生兩道光束進(jìn)行光學(xué) 同調(diào)相干,以補(bǔ)正機(jī)臺(tái)與角膜的相對(duì)振動(dòng)。但前者的作法,即便縮短了掃描時(shí)間,依然存在 機(jī)臺(tái)與待測(cè)物的相對(duì)運(yùn)動(dòng)干擾量測(cè)結(jié)果的情況,且于量測(cè)裝置中提高掃描時(shí)間亦有技術(shù)難 度。而后者的光路較復(fù)雜,且設(shè)置額外的光源模塊亦會(huì)使得成本增加。
      [0004] 因此,如何將量測(cè)過程中機(jī)臺(tái)與受測(cè)物的相對(duì)運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的誤差排除或降低的方法 及裝置為本領(lǐng)域的重要的課題之一。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005] 有鑒于上述課題,本發(fā)明的目的為提供一種修正光學(xué)量測(cè)的光學(xué)量測(cè)裝置以及方 法,進(jìn)一步而言,透過本發(fā)明裝置以及方法可以降低量測(cè)過程的誤差。
      [0006] 為達(dá)上述目的,本發(fā)明提供一種光學(xué)量測(cè)裝置,其包括光源模塊、感測(cè)單元、參考 鏡組、光耦合模塊以及處理單元。
      [0007] 光源模塊提供第一光線以及第二光線。參考鏡組其包括致動(dòng)器以及參考鏡,致動(dòng) 器以掃描速度帶動(dòng)參考鏡往復(fù)移動(dòng)。光耦合模塊將第一光線傳遞至參考鏡組以及待測(cè)物。
      [0008] 光源模塊傳遞第一光線至光耦合模塊,光耦合模塊將部份第一光線傳遞至待測(cè) 物、部份第一光線傳遞至參考鏡組,第一光線被待測(cè)物的表面反射后依序傳遞至光耦合模 塊及處理單元,第一光線被參考鏡組反射后依序傳遞至光耦合模塊及處理單元。
      [0009] 光源模塊傳遞第二光線至待測(cè)物,第二光線被待測(cè)物的表面反射后傳遞至感測(cè)單 元,據(jù)此感測(cè)單元傳遞感測(cè)信號(hào)給處理單元,處理單元依據(jù)感測(cè)信號(hào)提供相對(duì)速度值。依據(jù) 相對(duì)速度值與參考鏡組的掃描速度,計(jì)算厚度。
      [0010] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,厚度由掃描速度與相對(duì)速度值相加后除以待測(cè)物折射率的 積分所產(chǎn)生。
      [0011] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,處理單元利用以下的公式計(jì)算厚度:
      [0013] 其中,t是掃描速度,Vs為相對(duì)速度值,η為待測(cè)物折射率。
      [0014] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,處理單元利用以下的公式計(jì)算厚度L :
      [0016] 其中,t是掃描速度,Vs為相對(duì)速度值,η為待測(cè)物折射率。
      [0017] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,其中于第一時(shí)序,被待測(cè)物反射的第一光線與被參考鏡組 反射的第一光線產(chǎn)生建設(shè)性干涉,據(jù)此處理單元提供第一光程差。于第二時(shí)序,待測(cè)物反 射的第一光線與被參考鏡組反射的第一光線產(chǎn)生建設(shè)性干涉,據(jù)此處理單元提供第二光程 差,依據(jù)第一與第二光程差,處理單元得以計(jì)算第一時(shí)序與第二時(shí)序的時(shí)間差。
      [0018] 本發(fā)明更可提供一種光學(xué)量測(cè)方法,用于光學(xué)量測(cè)裝置,且光學(xué)量測(cè)裝置的參考 鏡組具有掃描速度,其步驟更包括:藉由光源模塊提供光線至待測(cè)物表面。光線被待測(cè)物表 面反射并傳遞至感測(cè)單元。感測(cè)單元傳遞感測(cè)信號(hào)給處理單元,感測(cè)信號(hào)包括光線移動(dòng)速 度。處理單元依據(jù)感測(cè)信號(hào)提供光源模塊與待測(cè)物表面的相對(duì)速度值。依據(jù)相對(duì)速度值與 參考鏡組的掃描速度,計(jì)算待測(cè)物的厚度。
      [0019] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,其中步驟包括:依據(jù)掃描速度與相對(duì)速度值相加后除以待 測(cè)物折射率的積分,以計(jì)算厚度。
      [0020] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,其中厚度L為:
      [0022] 其中,t是掃描速度,Vs為相對(duì)速度值,η為待測(cè)物折射率。
      [0023] 在本發(fā)明一實(shí)施例中,厚度L為:
      [0025] 其中,Vr是掃描速度,VS為相對(duì)速度值,η為待測(cè)物折射率。
      [0026] 綜上所述,本發(fā)明可透過光源模塊與感測(cè)單元,計(jì)算出光學(xué)量測(cè)裝置與待測(cè)物的 相對(duì)速度值,并依據(jù)參考鏡組的掃描速度與相對(duì)速度計(jì)算出待測(cè)物的厚度,透過此修正,以 排除、降低光學(xué)量測(cè)裝置與待測(cè)物相對(duì)振動(dòng)、量測(cè)過程中的環(huán)境干擾對(duì)量測(cè)精度的影響,以 達(dá)到提商量測(cè)精度的目的。
      [0027] 此外,本發(fā)明亦可使得光學(xué)量測(cè)裝置不須額外裝設(shè)或設(shè)計(jì)抗震結(jié)構(gòu),簡(jiǎn)化光學(xué)量 測(cè)裝置的設(shè)計(jì)、降低成本。且,本發(fā)明透過既有的光學(xué)量測(cè)設(shè)備的架構(gòu),進(jìn)行量測(cè)以及修正, 僅須于處理單元內(nèi)導(dǎo)入修正,即可在不須額外裝設(shè)補(bǔ)正單元亦不須汰換既有設(shè)備的情況 下,大幅的改善量測(cè)精度,實(shí)為經(jīng)濟(jì)且效果顯著。
      【附圖說明】
      [0028] 圖1為本發(fā)明的一種光學(xué)量測(cè)方法的步驟流程圖。
      [0029] 圖2為光學(xué)量測(cè)裝置的架構(gòu)示意圖。
      [0030] 圖3為光學(xué)量測(cè)裝置的感測(cè)單元應(yīng)用的示意圖。
      [0031] 圖4為感測(cè)單元量測(cè)結(jié)果的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0032] 以下將參照相關(guān)附圖,說明依本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光學(xué)量測(cè)裝置以及方法, 其中相同的構(gòu)件、步驟將以相同的參照符號(hào)加以說明。且,以下實(shí)施例及附圖中,與本發(fā)明 非直接相關(guān)的組件、步驟均已省略而未繪示;且附圖中各組件間的尺寸關(guān)系僅為求容易了 解,非用以限制實(shí)際比例。
      [0033] 請(qǐng)一并參考圖1至圖4,圖1為本發(fā)明的一種光學(xué)量測(cè)方法的步驟流程圖。圖2為 光學(xué)量測(cè)裝置的架構(gòu)示意圖。圖3為光學(xué)量測(cè)裝置的感測(cè)單元應(yīng)用的示意圖。圖4為感測(cè) 單元量測(cè)結(jié)果的示意圖。
      [0034] 為達(dá)上述目的,本發(fā)明提供一種光學(xué)量測(cè)裝置1,其包括光源模塊10、感測(cè)單元 11、光耦合模塊12、參考鏡組13以及處理單元14。
      [0035] 光源模塊10提供第一光線L1以及第二光線L2。且若應(yīng)用于人眼的角膜、視網(wǎng)膜 量測(cè)時(shí),為了顧及被量測(cè)者的舒適程度,則此光源模塊10可為一寬帶雷射光源(例如本實(shí) 施例的中心光源的波長(zhǎng)可介于1030nm,且頻寬可為20至40nm,但不以不可見光為限制)。 此寬帶雷射光源可透過窄頻雷射光源射入激發(fā)材料以提供,但不以此方法為限。
      [0036] 參考鏡組13可至少包括致動(dòng)器133 (micro-actuator)以及參考鏡132,參考鏡 132可透過致動(dòng)器133往復(fù)移動(dòng)(例如可透過傳動(dòng)平臺(tái)移動(dòng),圖未繪出),且致動(dòng)器133以 掃描速度t帶動(dòng)參考鏡132的移動(dòng),實(shí)際上的掃描速度可透過馬達(dá)的轉(zhuǎn)速換算得知。其中, 參考鏡132與致動(dòng)器133可為兩個(gè)獨(dú)立構(gòu)件或是整合成單一構(gòu)件(例如可將參考鏡132貼 附于致動(dòng)器133上)。
      [0037] 光耦合模塊12可將光源模塊10的第一光線L1傳遞至參考鏡組13以及待測(cè)物E。 光奉禹合模塊12將部份第一光線L1傳遞至參考鏡組13,以及光稱合模塊12將部份第一光線 L1傳遞至參考鏡組13待測(cè)物E。本實(shí)施例的光耦合模塊12可為分光器,但不以分光器為 限制。例如可將光源模塊10的50%的光線反射進(jìn)入?yún)⒖肩R組13,而其余50%的光線穿透 進(jìn)入待測(cè)物E,以達(dá)成光耦合的效果。
      [0038] 另外,參考鏡組13更可包含第一透鏡組131,第一透鏡組131可由至少一透鏡所 組成,其用以使光耦合模塊12傳遞的第一光線L1傳遞至參考鏡132。本實(shí)施例的光學(xué)量 測(cè)裝置1亦可包含第二透鏡組15,透過第二透鏡組15可使光耦合模塊12將的第一光線L1 傳遞至待測(cè)物E。
      [0039] 接著,參考鏡組13與待測(cè)物E將分別反射第一光線L1,從參考鏡組13離開的第 一光線L1將會(huì)依序經(jīng)過第一透鏡組131、光耦合模塊12后進(jìn)入處理單元14。而從待測(cè)物 E離開的第一光線L1將會(huì)依序經(jīng)過第二透鏡組15、光耦合模塊12后進(jìn)入處理單元14。
      [0040] 此外,本實(shí)施例的待測(cè)物E為一個(gè)球狀體,且以眼球?yàn)槔荆灰粤繙y(cè)眼球?yàn)橄?制,本領(lǐng)域的通常技術(shù)者應(yīng)可藉由本發(fā)明的設(shè)計(jì)概念應(yīng)用于其它的待測(cè)物。承前,以量測(cè)眼 球的角膜為例,于第一時(shí)序,可先調(diào)整第二透鏡組15,使所述第一光線L1匯聚于角膜的外 表面,此時(shí)致動(dòng)器133將帶動(dòng)參考鏡132往復(fù)移動(dòng),當(dāng)被參考鏡組13反射的第一光線L1的 光程差與被待測(cè)物E反射的第一光線L1的光程差為整數(shù)倍時(shí),所述第一光線L1產(chǎn)生建設(shè) 性干涉,紀(jì)錄所述光程差,并定義此為第一光程差。
      [0041] 接著,于第二時(shí)序,再調(diào)整第二透鏡組15,使所述第一光線L1匯聚于角膜的內(nèi)表 面,并重復(fù)上述步驟,使得被參考鏡組13反射的第一光線L1的光程差與被待測(cè)物E反射的 第一光線L1的光程差為整數(shù)倍,所述第一光線L1產(chǎn)生建設(shè)性干涉,此時(shí)紀(jì)錄第二光程差。 處理單元14可藉此兩個(gè)光程差推算出第一光線L1于待測(cè)物E中移動(dòng)的時(shí)間(亦即處理單 元14得以計(jì)算出第一時(shí)序與第二時(shí)序的時(shí)間差)。
      [0042] 本實(shí)施例可藉由光源模塊10提供第二光線L2至待測(cè)物E表面(步驟S1)。第二 光線L2將會(huì)被待測(cè)物E表面反射并傳遞至感測(cè)單元11 (步驟S2)。以角膜量測(cè)為例,第二 光線L2將會(huì)傳遞至角膜的外表面并被反射。
      [0043] 感測(cè)單元11可為光學(xué)感測(cè)單元,例如位置型敏感型偵測(cè)器(position sensitive detector, PSD)。透過感測(cè)單元11可量測(cè)待測(cè)物E相對(duì)光源模塊10的相對(duì)位置進(jìn)而計(jì)算 出待測(cè)物E或光源模塊10的相對(duì)振動(dòng)情況。以角膜量測(cè)為例,此處的感測(cè)單元11可測(cè)出 工作平臺(tái)或眼睛閃動(dòng)的變化。
      [0044] 詳細(xì)而言,感測(cè)單元11將會(huì)傳遞感測(cè)信號(hào)給處理單元14,感測(cè)信號(hào)可包括光線移 動(dòng)速度(步驟S3)。處理單元14依據(jù)感測(cè)信號(hào)提供光源模塊10與待測(cè)物E表面的相對(duì)速 度值(步驟S4)。詳細(xì)而言,感測(cè)單元11將第二光線L2聚焦于感測(cè)單元11的位置轉(zhuǎn)換成 一個(gè)感測(cè)信號(hào),并傳遞至處理單元14,因此處理單元14可知道于一單位時(shí)間內(nèi),第二光線 L2的位移變化量(感測(cè)單元11初始量測(cè)到的為一個(gè)位置對(duì)時(shí)間的信號(hào)),透過低通濾波處 理不必要的光噪聲后,即可對(duì)時(shí)間一次微分求得光線移動(dòng)速度(圖4)。此處的「光線移動(dòng) 速度」即為待測(cè)物E相對(duì)光源模塊10的相對(duì)速度值Vs,亦可理解為待測(cè)物E相對(duì)光源模塊 10的相對(duì)振動(dòng)情況。
      [0045] 以下將對(duì)厚度L的計(jì)算以及修正方式進(jìn)行說明。
      [0046] 本實(shí)施例的修正公式應(yīng)用了都卜勒公式的進(jìn)行修正,鑒于光為一種具有高傳播速 度的波動(dòng),故除了須考慮到波源(光源模塊10)與觀察者(光學(xué)量測(cè)裝置1)的相對(duì)運(yùn)動(dòng)關(guān) 系以外,亦須考慮狹義相對(duì)論帶來的效應(yīng)。
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