。
[0032]圖7為圖6所示的強(qiáng)度探測(cè)模塊的垂直于X射線扇面形束流觀察時(shí)的結(jié)構(gòu)原理示意圖。
[0033]圖1至圖7中，各附圖標(biāo)記分別代表:
[0034]1、電子加速器；
[0035]2、探測(cè)器陣列；
[0036]3、準(zhǔn)直器；
[0037]4、被檢物體；
[0038]5、閃爍探測(cè)模塊；
[0039]51、閃爍體；
[0040]52、光敏器件；
[0041]53、屏蔽層；
[0042]6、氣體探測(cè)模塊；
[0043]61、高壓電極板；
[0044]62、收集電極板；
[0045]63、工作氣體。
【具體實(shí)施方式】
[0046]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。以下對(duì)至少一個(gè)示例性實(shí)施例的描述實(shí)際上僅僅是說(shuō)明性的，決不作為對(duì)本實(shí)用新型及其應(yīng)用或使用的任何限制。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0047]除非另外具體說(shuō)明，否則在這些實(shí)施例中闡述的部件和步驟的相對(duì)布置、數(shù)字表達(dá)式和數(shù)值不限制本實(shí)用新型的范圍。同時(shí)，應(yīng)當(dāng)明白，為了便于描述，附圖中所示出的各個(gè)部分的尺寸并不是按照實(shí)際的比例關(guān)系繪制的。對(duì)于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的技術(shù)、方法和設(shè)備可能不作詳細(xì)討論，但在適當(dāng)情況下，所述技術(shù)、方法和設(shè)備應(yīng)當(dāng)被視為授權(quán)說(shuō)明書(shū)的一部分。在這里示出和討論的所有示例中，任何具體值應(yīng)被解釋為僅僅是示例性的，而不是作為限制。因此，示例性實(shí)施例的其它示例可以具有不同的值。應(yīng)注意到:相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步討論。
[0048]第一實(shí)施例
[0049]圖1至圖5示出了本實(shí)用新型第一實(shí)施例的X射線檢查系統(tǒng)。
[0050]圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的X射線檢查系統(tǒng)的布局示意圖。圖2為圖1所示的X射線檢查系統(tǒng)的B — B向剖視示意圖。如圖1和圖2所示，第一實(shí)施例的X射線檢查系統(tǒng)包括用于發(fā)射X射線的X射線發(fā)射裝置、準(zhǔn)直器3、X射線檢查用的探測(cè)器陣列2和X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置。
[0051]其中X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置用于監(jiān)控X射線發(fā)射裝置的X射線束流強(qiáng)度。X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置包括強(qiáng)度探測(cè)模塊和數(shù)據(jù)處理模塊。數(shù)據(jù)處理模塊與強(qiáng)度探測(cè)模塊耦合以接收強(qiáng)度探測(cè)模塊發(fā)出的探測(cè)信號(hào)并輸出X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)。X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)包括X射線束流的劑量監(jiān)控信號(hào)和X射線束流的亮度校正信號(hào)。該X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置可以同時(shí)進(jìn)行劑量監(jiān)控和亮度監(jiān)控，提升了 X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置的使用效率。
[0052]X射線發(fā)射裝置發(fā)出的X射線束流包括照射于探測(cè)器陣列2上的工作束流和照射于探測(cè)器陣列2之外的冗余束流。X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置的強(qiáng)度探測(cè)模塊優(yōu)選地設(shè)置于發(fā)射裝置和探測(cè)器陣列2之間以接受冗余束流的照射并發(fā)出探測(cè)信號(hào)。該X射線檢查系統(tǒng)的強(qiáng)度探測(cè)模塊利用的是X射線束流的冗余束流，強(qiáng)度探測(cè)模塊基本不受X射線發(fā)射裝置和被檢物體4的影響，從而可使X射線束流強(qiáng)度的監(jiān)控結(jié)果更加準(zhǔn)確可靠。另外，由于強(qiáng)度探測(cè)模塊對(duì)工作束流沒(méi)有影響，因此不影響到達(dá)被檢物體4以及探測(cè)器陣列2的工作束流的強(qiáng)度。
[0053]第一實(shí)施例中，X射線發(fā)射裝置為電子加速器I。在其它未不出的實(shí)施例中，可以為X射線管等其它X射線發(fā)射裝置。
[0054]準(zhǔn)直器3位于X射線發(fā)射裝置和探測(cè)器陣列2之間。準(zhǔn)直器3用于屏蔽掉冗余束流。在對(duì)被檢物體4進(jìn)行檢查時(shí)，準(zhǔn)直器3位于X射線發(fā)射裝置和被檢物體4之間，X射線束流的工作束流經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直器3后照射到被檢物體4以及探測(cè)器陣列2。
[0055]在X射線檢查系統(tǒng)具有準(zhǔn)直器3時(shí)，強(qiáng)度探測(cè)模塊位于X射線發(fā)射裝置和準(zhǔn)直器3之間。該設(shè)置在避免電子加速器I的直接電磁干擾的同時(shí)，也不會(huì)因?yàn)闇?zhǔn)直器3的設(shè)置影響X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控結(jié)果。
[0056]優(yōu)選地，X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置包括相對(duì)于工作束流對(duì)稱布置的多個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊。相對(duì)于工作束流對(duì)稱布置多個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊可以在X射線發(fā)射裝置發(fā)射的X射線束流發(fā)生偏擺時(shí)，使各強(qiáng)度探測(cè)模塊發(fā)出的探測(cè)信號(hào)彼此進(jìn)行補(bǔ)償，從而可使X射線束流強(qiáng)度的監(jiān)控結(jié)果比僅設(shè)置單個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊更為準(zhǔn)確可靠。第一實(shí)施例中具體地設(shè)置了兩個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊。在其它未示出的實(shí)施例中，可以設(shè)置更多個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊，例如四個(gè)。
[0057]第一實(shí)施例中，工作束流是扇面形束流，強(qiáng)度探測(cè)模塊位于扇面形束流的扇面?zhèn)确?。該設(shè)置使強(qiáng)度探測(cè)模塊處于X射線束流的“主束”處，更靠近X射線束流的中心位置，從而可以更有效地提供X射線束流強(qiáng)度信息。
[0058]如圖1和圖2所示，扇面形束流的扇面垂直于地面，電子加速器I所在一側(cè)為前偵牝探測(cè)器陣列2所在一側(cè)為后側(cè)，在扇面形束流的扇面左右兩側(cè)各布置一個(gè)強(qiáng)度探測(cè)模塊(下稱左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊)。其中左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊安放在電子加速器I和準(zhǔn)直器3之間，將得到的探測(cè)信號(hào)傳輸?shù)綌?shù)據(jù)處理模塊進(jìn)行合并處理并轉(zhuǎn)換后，產(chǎn)生X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)。
[0059]左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊左右對(duì)稱地設(shè)置在扇面形束流的扇面兩側(cè)且位于冗余束流能直接照射到的位置，以利用冗余束流對(duì)X射線束流進(jìn)行強(qiáng)度監(jiān)控。左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊中間隔開(kāi)一定的空隙，空隙的寬度保證工作束流能不受影響地照射到探測(cè)器陣列2的寬度要求的范圍之內(nèi)。
[0060]左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊是兩個(gè)幾何形狀對(duì)稱的、結(jié)構(gòu)相同的探測(cè)器。在垂直于X射線束流的扇面的方向上，有足夠的靈敏尺寸滿足在扇面形束流發(fā)生左右偏擺的情況下依然不超出這兩個(gè)探測(cè)器靈敏體積的覆蓋寬度。強(qiáng)度探測(cè)模塊可以有多種實(shí)現(xiàn)方式。圖3為圖1所示的X射線束流強(qiáng)度監(jiān)控裝置的強(qiáng)度探測(cè)模塊的結(jié)構(gòu)原理示意圖。圖4為圖3所示的強(qiáng)度探測(cè)模塊的C 一 C向剖視結(jié)構(gòu)原理示意圖。圖3和圖4以左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊中的一個(gè)為例說(shuō)明第一實(shí)施例的強(qiáng)度探測(cè)模塊的工作原理。圖4中，L代表X射線束流的入射方向。
[0061]如圖3和圖4所示，第一實(shí)施例中左探測(cè)模塊和右探測(cè)模塊為閃爍探測(cè)模塊5。閃爍探測(cè)模塊5包括閃爍體51、光敏器件52、屏蔽層53和反射層(未示出)。其中閃爍體51的一端與光敏器件52耦合并位于光敏器件52和工作束流之間。屏蔽層53設(shè)置在光敏器件52的外圍用來(lái)屏蔽散射的X射線對(duì)光敏器件52的損壞。屏蔽層53優(yōu)選地采用重金屬制作。閃爍體51在不與光敏器件52耦合的非耦合面上包裹有反射層。反射層的材料可以是二氧化鈦。另外，各閃爍探測(cè)模塊5都有一個(gè)各自的光密封結(jié)構(gòu)，閃爍體51和光敏器件52設(shè)置在對(duì)應(yīng)的密封結(jié)構(gòu)內(nèi)部，確保密封結(jié)構(gòu)不漏光。
[0062]閃爍探測(cè)模塊5的閃爍體51 (即靈敏體積)優(yōu)選地采用閃爍晶體制成。閃爍體51到光敏器件52間的長(zhǎng)度優(yōu)選地保證扇面形束流的偏擺不會(huì)到達(dá)光敏器件52的位置。閃爍體51優(yōu)選地與X射線束流的入射方向L垂直。
[0063]閃爍探測(cè)模塊5在探測(cè)X射線束流強(qiáng)度時(shí)，X射線照射到閃爍晶體上，發(fā)出閃爍光，光敏器件52吸收閃爍光產(chǎn)生電信號(hào)，光敏器件52