一種分析天平的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種分析天平，所述分析天平包括：測量基座、測量室和測量平臺；其中，測量基座的四角設(shè)置4個(gè)槽孔，該分析天平還包括：與該4個(gè)槽孔配合的柱體、插銷，該柱體的側(cè)面設(shè)置有與插銷配合的定位孔，該4個(gè)槽孔的一側(cè)設(shè)置有高度不同的多個(gè)限位孔。本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案具有用戶使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】
一種分析天平
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及測量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種分析天平?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]稱量前應(yīng)檢查天平是否正常，是否處于水平位置，吊耳、圈碼是否脫落，玻璃框內(nèi)外是否清潔。分析天平是定量分析工作中不可缺少的重要儀器，一般是指能精確稱量到 0.0001克(0.1毫克)的天平。分析天平中平穩(wěn)性對檢測的精度影響很大，現(xiàn)有的分析天平僅僅只能在平面上使用，無法在不平整的平臺使用，這對于戶外使用來說非常不方便。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種分析天平，該分析天平具有使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
[0004]—種分析天平，所述分析天平包括:測量基座、測量室和測量平臺；
[0005]其中，測量基座的四角設(shè)置4個(gè)槽孔，該分析天平還包括:與該4個(gè)槽孔配合的柱體、插銷，該柱體的側(cè)面設(shè)置有與插銷配合的定位孔，該個(gè)槽孔的一側(cè)設(shè)置有高度不同的多個(gè)限位孔。
[0006]可選的，所述測量室內(nèi)還包括:加熱管。
[0007]由上述本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案可知，該分析天平的底部設(shè)置有柱體和槽孔， 這樣分析天平就可以依據(jù)該柱體來調(diào)節(jié)分析天平的平整度，所以其能夠在戶外使用，所以其具有用戶使用方便的優(yōu)點(diǎn)?！靖綀D說明】
[0008]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。
[0009]圖1為本實(shí)用新型所提供分析天平的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2為本實(shí)用新型提供的分析天平的柱體和槽孔的配合示意圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0012]下面將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型實(shí)施例作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，如圖1、2所示為本實(shí)用新型所提供分析天平的結(jié)構(gòu)示意圖，所述分析天平包括:測量基座1、測量室2和測量平臺 3；
[0013]其中，測量基座I的四角設(shè)置4個(gè)槽孔10，該分析天平還包括:與該4個(gè)槽孔配合的中空柱體20、插銷，該柱體的側(cè)面設(shè)置有與插銷配合的中空定位孔21，該4個(gè)槽孔10的一側(cè)設(shè)置有高度不同的多個(gè)限位孔19。
[0014]本實(shí)用新型提供的分析天平的底部設(shè)置有柱體和槽孔，這樣分析天平就可以依據(jù)該柱體來調(diào)節(jié)分析天平的平整度，所以其能夠在戶外使用，所以其具有用戶使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
[0015]綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的技術(shù)方案能夠?qū)Ψ治鎏炱降母叨冗M(jìn)行調(diào)整。
[0016]以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型披露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種分析天平，其特征在于，所述分析天平包括:測量基座、測量室和測量平臺； 其中，測量基座的四角設(shè)置4個(gè)槽孔，該分析天平還包括:與該4個(gè)槽孔配合的柱體、插銷，該柱體的側(cè)面設(shè)置有與插銷配合的定位孔，該4個(gè)槽孔的一側(cè)設(shè)置有高度不同的多個(gè)限位孔。
【文檔編號】G01G1/34GK205655896SQ201620156987
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2016年3月1日 公開號201620156987.0, CN 201620156987, CN 205655896 U, CN 205655896U, CN-U-205655896, CN201620156987, CN201620156987.0, CN205655896 U, CN205655896U
【發(fā)明人】戴貴輝
【申請人】廣東中健檢測技術(shù)有限公司