專利名稱:用于改進電子裝置制造系統(tǒng)的操作的方法與設(shè)備的制作方法
用于改進電子裝置制造系統(tǒng)的操作的方法與設(shè)備
本發(fā)明的優(yōu)先權(quán)為2006年3月16日申請,發(fā)明名稱為"改進電子裝置制造 系統(tǒng)操作的方法及i殳備(METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING OPERATION OF AN ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING SYSTEM)"的美國臨時申請案第60/783,370 號;2007年2月19日申請,發(fā)明名稱為r電子裝置制造的混合生命周期盤查分析 的方法及i殳備(METHOD AND APPARATUS FOR A HYBRID LIFE CYCLE INVENTORY FOR ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING )」的美國臨時申請案第60/890, 609號;2006 年3月16日申請,發(fā)明名稱為「電子裝置制造系統(tǒng)中壓力控制的方法及設(shè)^(METHOD AND APPARATUS FOR PRESSURE CONTROL IN ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING SYSTEMS)」的美國臨時申請案第60/783, 374號;以及2006年3月16日申請,發(fā) 明名稱為"改進除污系統(tǒng)操作的方法及設(shè)備(METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVED OPERATION OF AN ABATEMENT SYSTEM)"的美國臨時申請案第60/783,337號。上 述各發(fā)明是將其整體并入以做為參考。
相關(guān)申請的對照
本申請涉及以下一般轉(zhuǎn)讓且共同待批的美國專利申請,它們中的每一個均結(jié) 合在此用于參考
美國專利申請第_號,申請日為_年—月—日,發(fā)明名稱為"電子
裝置制造系統(tǒng)中壓力控制的改進式方法及設(shè)備(METHOD AND APPARATUS FOR PRESSURE CONTROL IN ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING SYSTEMS)";以及
美國專利申請第_號,申請日為_年—月—日,發(fā)明名稱為"用于
除污系統(tǒng)的改進操作的方法和設(shè)備(METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVED OPERATION OF AN ABATEMENT SYSTEM)"。
發(fā)明的領(lǐng)域
本發(fā)明概言的關(guān)于電子裝置制造,特定而言關(guān)于用于電子裝置制造系統(tǒng)的最 佳化操作的設(shè)備與方法。
背景技術(shù):
以往電子裝置制造工具使用處理室或其它適當(dāng)?shù)脑O(shè)備來進行制程(例如化學(xué) 氣相沉積、外延硅成長、蝕刻等),藉以制造電子裝置。這些制程會產(chǎn)生具有不想 要的化學(xué)物質(zhì)的流出物,成為制程的副產(chǎn)品。習(xí)用的電子裝置制造系統(tǒng)可以使用除
污(abatement) i殳備來處理該些流出物。
習(xí)用的除污單元及制程利用多種資源(例如試劑、水、電等)來處理該些流出
息來操作。因此,習(xí)用的除污單元可以次佳化地使用該些資源。次佳化地使用該些 資源在生產(chǎn)設(shè)施中會是一不想要的成本負擔(dān)。此外,對于未最佳化地使用資源的除 污單元即會需要更經(jīng)常性的維護。
因此,對于除污流出物即需要一種改進的方法與設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明第一方面中,提供一種用于改進電子裝置制造系統(tǒng)的操作的第一種 方法。該第一種方法包括提供信息給耦合到一具有參數(shù)的電子裝置制造系統(tǒng)的接 口,其可處理該信息來預(yù)測一第一參數(shù),并提供關(guān)于該電子裝置制造系統(tǒng)的至少一 第二參數(shù)的一指令,其中該指令基于所預(yù)測的第一參數(shù)。
在本發(fā)明第二方面中,提供一種用于改進電子裝置制造系統(tǒng)的操作的第二種 方法。該第二種方法包括測量來自一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的生產(chǎn)參數(shù),比較該些 生產(chǎn)參數(shù)與相關(guān)于使用一程序的參考系統(tǒng)的一數(shù)據(jù)庫,并預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造 系統(tǒng)的至少一個參數(shù)。
在本發(fā)明第三方面中,提供一種用于改進電子裝置制造系統(tǒng)的操作的第三種 方法。該第三種方法包括基于來自 一參考電子裝置制造系統(tǒng)的測量產(chǎn)生一數(shù)據(jù)庫及 程序,在一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)中使用該數(shù)據(jù)庫及程序,以產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置 制造系統(tǒng)的預(yù)測解決,并根據(jù)該預(yù)測解決操作該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)。
本發(fā)明的其它特征及方面將可藉由以下的實施方式、下附權(quán)利要求書及附圖 而更加完整地了解。
圖1為根據(jù)本發(fā)明用于改進電子裝置制造的一系統(tǒng)的區(qū)塊圖。
7圖2為根據(jù)本發(fā)明用于改進電子裝置制造的該系統(tǒng)的接口的區(qū)塊圖。
圖3A至圖3C為可以包含在根據(jù)本發(fā)明的接口當(dāng)中的一示例性數(shù)據(jù)庫。 圖4為根據(jù)本發(fā)明的電子裝置制造的一示例性方法。
圖5為根據(jù)本發(fā)明實時地最佳化一電子裝置制造系統(tǒng)的效能的第一示例性方法。
圖6為根據(jù)本發(fā)明最佳化一電子裝置制造系統(tǒng)的效能的第二示例性方法。 圖7為根據(jù)本發(fā)明最佳化一電子裝置制造系統(tǒng)的效能的第三示例性方法。
除污詳細描述
本發(fā)明提供用于改進(例如最佳化)生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的操作的方法與設(shè) 備。更特定而言,本發(fā)明的方法與設(shè)備利用了一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)、 一參考數(shù) 據(jù)庫及一或多個程序的組件之間的一接口 。該些程序可以用于預(yù)測系統(tǒng)中組件的維 護,因此可以藉由減少系統(tǒng)停機時間來增加系統(tǒng)的可用性。此外或是另外,該一或 多程序及數(shù)據(jù)庫可以用以準(zhǔn)確地預(yù)測流到一除污單元的流出物的數(shù)量及種類,并基 于這些數(shù)據(jù)處理電子裝置制造系統(tǒng)的流出物,并藉此允許該接口能夠基于該預(yù)測而 更為最佳化地操作該除污單元。
該些參考數(shù)據(jù)庫及程序可以使用由一參考電子裝置制造系統(tǒng)所提供的信息。 該參考系統(tǒng)可以具有類似于許多生產(chǎn)系統(tǒng)的組件、單元及參數(shù)的組態(tài)。復(fù)雜的儀器 可以耦合到該參考系統(tǒng),以取得關(guān)于該參考系統(tǒng)的流出物及參數(shù)的信息。該些儀器 在應(yīng)用到大量的生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)時,將會相當(dāng)昂貴。
根據(jù)本發(fā)明一或多個方面,由該些儀器所取得的信息可以用于形成一預(yù)測解 決。該預(yù)測解決可以用于最佳化地操作生產(chǎn)系統(tǒng),而不需要與該參考系統(tǒng)所利用的 儀器相關(guān)的不需要的成本及使用。該預(yù)測解決可包括該參考系統(tǒng)的一數(shù)據(jù)庫,以及 一或多個程序。在至少一具體實施例中,該預(yù)測解決可通過一些方法及媒體提供給 顧客,并做收費。
圖1為根據(jù)本發(fā)明用于改進電子裝置制造的系統(tǒng)的區(qū)塊圖。請參照圖1,用于 改進電子裝置制造的系統(tǒng)101包括一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103,其耦合一接口 105 用于自生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103接收數(shù)據(jù),例如狀態(tài)及/或操作數(shù)據(jù)?;谒?收的數(shù)據(jù),接口 105可以預(yù)測關(guān)于該生產(chǎn)系統(tǒng)103的其它狀態(tài)及/或操作數(shù)據(jù)。接 口 105的細節(jié)將在以下參照圖2做說明。
在一些具體實施例中,接口 105可以耦合到一參考數(shù)據(jù)庫110,例如通過一廣域網(wǎng)絡(luò)(wide area network, WAN) 109或其它適當(dāng)?shù)耐ㄐ琶襟w/網(wǎng)絡(luò)。參考數(shù)據(jù)可 以利用儀器108收集,其可對參考系統(tǒng)107進行精密測量。儀器108亦可包括多種 裝置,例如流量控制器、壓力表等。儀器108可以由于這些儀器108的成本或其它 原因而由生產(chǎn)系統(tǒng)103當(dāng)中省略。例如,參考系統(tǒng)107可包括有用于執(zhí)行偵測及量 化參考系統(tǒng)107的一除污單元上游的放射量的方法的儀器108,像是傅立葉轉(zhuǎn)換紅 外線(Fourier Transform Infra Red, FTIR)光譜儀或四偶極質(zhì)量光譜儀 (Quadrupole Mass Spectroscopy, QMS)。基于這些方法,該些儀器可以收集關(guān)于 參考系統(tǒng)107的信息(例如關(guān)于設(shè)備狀態(tài)及/或操作數(shù)據(jù)的實驗性數(shù)據(jù))。該信息亦 可包括來自參考系統(tǒng)107中關(guān)于參數(shù)的信息,像是氣體流量、射頻(radio frequency, RF)功率等。該信息可進行收集及/或分析。該信息及/或分析結(jié)果可以 儲存在參考數(shù)據(jù)庫110中。
該些測量及/或分析可通過一些方法來執(zhí)行。例如,該些測量可在非生產(chǎn)設(shè)施 中離線地完成(例如在研發(fā)設(shè)施當(dāng)中)。另外,該些測量可在與生產(chǎn)系統(tǒng)103相同的 設(shè)施中執(zhí)行。執(zhí)行該些測量的儀器108可以在遠程及/或在本地操作及控制。儀器 108可以用來分析信息(例如產(chǎn)生長條圖、形成曲線圖等),藉此產(chǎn)生可由接口 105 利用的對象(例如軟件例式、預(yù)測函數(shù)、常數(shù)等)。另外,可在一工作站(例如處理 器為主的系統(tǒng))或是其它可用于分析或操縱信息的適當(dāng)設(shè)備當(dāng)中對于信息及/或?qū)?象離線地進行分析。該信息及/或?qū)ο罂捎迷S多種方式傳送到參考數(shù)據(jù)庫110。例 如,該信息及/或?qū)ο罂山?jīng)由網(wǎng)絡(luò)傳送,像是LAN或WAN,及/或通過其它的媒體, 像是CD-R、軟盤片等。
在一些具體實施例中,接口 105可由數(shù)據(jù)庫110存取及/或取得信息及/或?qū)?象(例如通過WAN 109)。所取得的該信息及/或?qū)ο罂梢杂糜谠诮涌?105中形成及/ 或建立一數(shù)據(jù)庫110,。數(shù)據(jù)庫110'的細節(jié)在下述參照圖2及圖3做說明。接口 105亦可提供來自生產(chǎn)系統(tǒng)103及接口程序的數(shù)據(jù)(例如實時性、已儲存等),以取 得生產(chǎn)系統(tǒng)103的參數(shù)。雖然引述了 WAN 109,信息及/或?qū)ο罂赏ㄟ^多種媒體加 載到接口 105當(dāng)中,例如WAN109、 CD-R、軟盤片等。在一些具體實施例中,接口 105可以機械式地耦合于生產(chǎn)系統(tǒng)103。另外,接口 103可以機械式及/或電氣式地 耦合于一裝置,而非生產(chǎn)系統(tǒng)103(例如一獨立工作站、 一遠程訪問的微控制器等)。
生產(chǎn)系統(tǒng)103可包括像是一化學(xué)輸送單元111等的單元(例如氣體控制面板、 研漿輸送單元、液態(tài)前驅(qū)物輸送系統(tǒng)等)。化學(xué)輸送單元111可以用于傳送化學(xué)物
質(zhì)到一生產(chǎn)電子裝置制造工具113。生產(chǎn)工具113可包括一或多個處理室115,用于執(zhí)行一基板上的一或多種制程。電子裝置制造工具113在化學(xué)輸送單元111的下
游。傳感器117及/或控制器118可耦合到化學(xué)輸送單元111及/或電子裝置制造工 具113,用于在電子裝置制造期間偵測信息。傳感器117及/或控制器118可以提 供信息(例如狀態(tài)、操作數(shù)據(jù)等),其可由接口 105所利用。該信息可以關(guān)聯(lián)到參數(shù),
制器)。亦可使用其它的傳感器種類,例如壓力表、用于測量步驟時間的定時器、 電量表等。
該信息可由控制器118提供給接口 105(例如軌道式安裝、工作站、控制器電 路板、嵌入式處理器等),用于控制及/或接收來自生產(chǎn)工具113及/或處理室115 的信息??刂破?18可以實施成多個控制器。例如,在其它具體實施例中,生產(chǎn)工 具113可以耦合于一第一控制器118,而處理室115可耦合到一第二控制器118。 另外,可使用一單一控制器118及/或一控制器118的網(wǎng)絡(luò)來控制生產(chǎn)工具113及/ 或處理室115。由控制器118所提供的信息可以關(guān)聯(lián)于由控制器118所提供的控制 信號到生產(chǎn)系統(tǒng)103的某些部份。例如,控制器118可提供一信號到處理室115, 以開始在一制程配方中的一步驟。這種信息可以提供給接口 105。
在電子裝置制造工具113的下游,生產(chǎn)系統(tǒng)103可以包括耦合到生產(chǎn)工具113 的一或多個泵浦單元119。泵浦單元119可以用于降低生產(chǎn)工具113的部份當(dāng)中的 壓力(例如輸送室、承載器等)及/或處理室115(例如金屬蝕刻、CVD處理室等)。在 其它具體實施例中,額外的設(shè)備,像是真空泵浦(例如渦輪分子泵浦、冷凍泵浦等), 或任何其它適當(dāng)?shù)脑O(shè)備,其可進一步降低處理室115中的壓力。在處理室115中的 壓力可經(jīng)由參數(shù)的組合來控制,例如節(jié)流閥位置、渦輪分子泵浦速率、進入處理室 115的氣流量及/或生產(chǎn)電子裝置制造工具113,但除了泵浦單元119的參數(shù)之外。 例如,在處理室115中的壓力可由泵浦單元119的泵浦速率(例如每分鐘旋轉(zhuǎn)數(shù)) 所控制。泵浦單元119可在電子裝置制造期間進行操作。泵浦單元119亦可在當(dāng)處 理室115于處理室115中不存在電子裝置的基板時進行操作。泵浦單元119可以排 出來自處理室115的流出物(例如氣體、流體、固體等)。
類似地,在泵浦單元119的下游,生產(chǎn)系統(tǒng)103可包括耦合于泵浦單元119 的除污單元121。除污單元121可處理生產(chǎn)工具113的流出物。除污單元121可包 括一受控的分解氧化(control led decomposition oxidation, CD0)熱反應(yīng)器、水 式洗滌塔、吸收為主惰性樹脂、燃燒系統(tǒng)等。 一種示例性的除污單元121為美國加 州圣荷西(San Jose)市的美呈科技(Metron Technology)公司所提供的Marathon系統(tǒng)。亦可使用其它的除污單元。接口 105、化學(xué)輸送單元111、生產(chǎn)工具113、 泵補單元119及除污單元121可以操作性地耦合,以允許這些組件105、 111、 113、 119、 121之間的通信。例如,這些組件可通過一局i或網(wǎng)纟各(local area network, LAN) 12 3或其它通信網(wǎng)路/媒體進行操作式地耦合。
圖2為根據(jù)本發(fā)明用于改進電子裝置制造的系統(tǒng)101的接口 105的區(qū)塊圖。 請參照圖2,接口 105用于執(zhí)行本發(fā)明的方法。如下述,接口 105可儲存一數(shù)據(jù)庫, 并執(zhí)行一或多個程序來預(yù)測關(guān)聯(lián)于生產(chǎn)系統(tǒng)103的狀態(tài)及/或操作性數(shù)據(jù)。接口 105 可實施成一或多個系統(tǒng)控制器、 一或多個專屬的硬件電路、 一或多個適當(dāng)程序化的 通用型計算機或任何其它類似的電子、機械、電機及/或人工操作的裝置。
接口 105可以包括一處理器201,例如一或多個Intel Pentium⑧處理器,用 于執(zhí)行程序,以及處理器201與其它裝置通信的一或多個通信端口 203,例如生產(chǎn) 系統(tǒng)103。處理器201亦與一數(shù)據(jù)儲存裝置205連接。數(shù)據(jù)儲存裝置205可包括任 何磁性、光學(xué)及/或半導(dǎo)體內(nèi)存的適當(dāng)組合,并可包括例如額外的處理器、通信端 口、隨機存耳又內(nèi)存(Random Access Memory, RAM)、只讀存儲器(Read-Only Memory, ROM)、光盤或數(shù)字多功能盤片,及/或硬盤等。每個處理器201及數(shù)據(jù)儲存裝置205 可以是例如(U整個位在單一計算機或其它運算裝置當(dāng)中;或(H)由一遠程通信 媒體彼此聯(lián)機,例如一串行端口纜線、LAN、電話線、射頻收發(fā)器、光纖連接或類 似者。在一些具體實施例中,例如接口 105可包含一或多部計算機(或處理器201), 其可聯(lián)機到一遠程服務(wù)器計算機,例如包含在參考系統(tǒng)107中的計算機,用于維護 數(shù)據(jù)庫,其中數(shù)據(jù)儲存裝置205包含了遠程服務(wù)器計算機與相關(guān)數(shù)據(jù)庫的組合。
數(shù)據(jù)儲存裝置205可儲存一程序207來控制處理器201。處理器201可執(zhí)行程
序207的指令,并藉此根據(jù)本發(fā)明進行操作,特別是根據(jù)在此詳述的方法進行。本
發(fā)明可以實施成一計算機程序,其使用對象導(dǎo)向語言開發(fā),可允許具有模塊化對象
的復(fù)雜系統(tǒng)的模型化,以產(chǎn)生摘要,其可代表實體世界、實體對象及它們相互關(guān)系。
但是,本領(lǐng)域技術(shù)人員將可了解到此處所述的本發(fā)明可以使用許多種程序化技術(shù)而
用多種不同方式實施,以及使用通用性硬件系統(tǒng)或?qū)倏刂破鱽韺嵤3绦?07
可以儲存成一壓縮、未編譯及/或加密的格式。再者,程序207可包括有程序組件,
其可為通用型,例如一操作系統(tǒng)、 一數(shù)據(jù)庫管理系統(tǒng),以及r裝置驅(qū)動程序J ,可
允許處理器201來介接到計算機周邊裝置,例如通信端口 203。本領(lǐng)域技術(shù)人員皆
熟知適當(dāng)?shù)耐ㄓ眯统绦蚪M件,在此不需要詳細說明。
再者,程序207可用于執(zhí)行一些特定發(fā)明的模塊或函式,其中包括但不限于一或多個函式,其可允許接口 105來預(yù)測關(guān)聯(lián)于生產(chǎn)系統(tǒng)103的參數(shù)(例如狀態(tài)、 操作性數(shù)據(jù)等)。這些參數(shù)的范例在以下配合圖4到圖6所述的流程圖來做說明。
根據(jù)本發(fā)明一些具體實施例,程序207的指令可以由另一個計算機可讀取媒 體而讀入處理器207的主存儲器(未示出),例如由一 ROM到RAM。在程序207中指 令的執(zhí)行順序使得處理器201執(zhí)行此處所述的處理步驟。在其它具體實施例中,硬 件配線電路或集成電路可以用于取代或結(jié)合于軟件指令,用于實施本發(fā)明的制程。 因此,本發(fā)明的具體實施例并不限于任何特定的硬件、韌體及/或軟件的組合。
除了程序207之外,儲存裝置205亦可用于儲存一或多個數(shù)據(jù)庫110,(僅顯 示一個)。該些數(shù)據(jù)庫110,在以下詳細說明,而范例結(jié)構(gòu)則利用附圖中的范例項 目來說明。如本領(lǐng)域技術(shù)人員可了解,在此處所提示的范例數(shù)據(jù)庫的架構(gòu)例示及附 屬說明皆為信息的儲存表示的示例性配置。其可利用任何一種其它配置。例如,即 使例示為一單一數(shù)據(jù)庫,本發(fā)明可使用一個以上的數(shù)據(jù)庫來有效地實施。類似地, 數(shù)據(jù)庫110'的例示的登錄項僅代表示例性信息;本領(lǐng)域技術(shù)人員將可了解該些登 錄項的數(shù)目及內(nèi)容皆可相異于此處所例示者。再者,雖然數(shù)據(jù)庫110,以表格來描 述,可使用一對象為主的模型來儲存及操縱本發(fā)明的數(shù)據(jù)型態(tài),類似地,可使用對 象方法或行為來實施本發(fā)明的處理。這些處理將在以下參照圖4到圖6來詳細說明。
圖3A至圖3C描述一種示例性數(shù)據(jù)庫,其根據(jù)本發(fā)明可包括在該接口中。請 參照圖3A,數(shù)據(jù)庫301可具有一參考參數(shù)組(RPS, "Reference parameter sets") 303,其中包含參考參數(shù)(RP1、 RP2等)305。該數(shù)據(jù)庫亦可具有對象(object, OBJ) 307。接口 105可提供一生產(chǎn)參數(shù)組(PPS, "Production parameter set" ) 309 到數(shù)據(jù)庫301。
數(shù)據(jù)庫301可包含具有參考參數(shù)305的參考參數(shù)組303。該些參考參數(shù)305 可以關(guān)聯(lián)到由參考系統(tǒng)107所提供的信息。更特定而言,參考參數(shù)305可包括有參 數(shù),像是RF功率、節(jié)流閥位置、流出物的化學(xué)組成、系統(tǒng)類型、泵浦類型、除污 單元類型等。參考參數(shù)組303亦可為該信息的衍生,例如數(shù)值的時間平均值、計算 的常數(shù)、參考系統(tǒng)歷史表列等。例如,參考參數(shù)組305可具有一函數(shù)的常數(shù)。該函 數(shù)可為包括四個常態(tài)分布的曲線擬合。該些常數(shù)可為包含該函數(shù)的常態(tài)分布的倍 數(shù)。這種函數(shù)在以下參照圖3B更為詳細地說明。
數(shù)據(jù)庫301亦可包含對象307。對象307可包括有項目,而其為參考系統(tǒng)107 的測量所提供/產(chǎn)生的非必要信息。例如,對象307可包括方法、類別(例如0++、 匯編語言等)、條件式指令、數(shù)據(jù)處理例式等。在一些具體實施例中,對象307可
12以關(guān)聯(lián)于一或多個參數(shù)組303及/或參數(shù)305。此外或另外該參考參數(shù)組303可以 關(guān)聯(lián)于一或多個對象307。
數(shù)據(jù)庫301可為SQL數(shù)據(jù)庫或其它適當(dāng)?shù)男畔齑妗4送饣蛄硗饪梢允褂靡?或多個延伸標(biāo)記語言(XML, "extensible Markup Language")文件來做為數(shù)據(jù)庫 301或其一部份。數(shù)據(jù)庫301所包含的信息可以是二元化或另一種適當(dāng)?shù)母袷?。?如,除了二元化格式之外,可以使用信息交換的美國標(biāo)準(zhǔn)編碼(ASCII, "American Standard Code for Information Interchange")來代表數(shù)據(jù)庫301所包含的信息。 該信息可由數(shù)據(jù)庫及/或接口 105做處理及格式化。例如,數(shù)據(jù)庫301可以將信息 格式化為逗點隔開的數(shù)值(comma separated value, CSV)。此外或另外該信息可利 用巻標(biāo)來格式化,例如由超文字標(biāo)記語言(HTML, "HyperText Markup Language") 標(biāo)準(zhǔn)所定義,其可識別該信息的部份,其方式為可由接口 105解譯來以一恰當(dāng)?shù)姆?式格式化該信息。其可使用許多其它的格式。
數(shù)據(jù)庫301可以用于與接口 105的部份做互動,例如程序207,藉以提供信息 及/或?qū)ο蟮匠绦?07。與接口 105的部份的互動可包括提供一生產(chǎn)參數(shù)組309到 數(shù)據(jù)庫301。該生產(chǎn)參數(shù)組309可由接口 105及/或數(shù)據(jù)庫301用來查詢數(shù)據(jù)庫301, 藉以選擇一適當(dāng)?shù)膮⒖紖?shù)組303。 一示例性查詢可由圖3A中指向到一可能相關(guān) 記錄的箭頭線311所例示。一選出的一或多個參考參數(shù)組303可由數(shù)據(jù)庫301傳回 到接口 105的部份,例如程序207。此外或另外,數(shù)據(jù)庫301可傳回一或多個對象 307或任何其它適當(dāng)?shù)膶ο蟮浇涌?105。
雖然對象307描述為數(shù)據(jù)庫301的一部份,對象307或?qū)ο?07的部份可以 由其它的方式傳送到接口 10 5 。例如,對象3 07可經(jīng)由 一超鏈接來耦合到數(shù)據(jù)庫301, 并到達儲存裝置205上的一位置,藉此通過通信端口 203提供給接口 105 (圖2)。 此外或另外,對象307或其部份可以做為在生產(chǎn)系統(tǒng)103中所包含的一匯編語言級 的程序。在其它具體實施例中,數(shù)據(jù)庫301可以設(shè)置成僅包含已經(jīng)處理到參考參數(shù) 組303中而由已經(jīng)包含在生產(chǎn)系統(tǒng)103中的對象307來使用的信息。例如,藉由分 析參考系統(tǒng)107所提供的信息所產(chǎn)生的常數(shù),其要由對象307所使用,即可做為參 考參數(shù)305。
請參考圖3B,存有示例性參考參數(shù)的范例數(shù)據(jù)庫將根據(jù)本發(fā)明來說明。數(shù)據(jù) 庫301可以存有從用于測量參考系統(tǒng)107內(nèi)制程氣體及/或流出物的儀器108所得 到的參考參數(shù)305 ,。更特定而言,數(shù)據(jù)庫301可以存有自參考系統(tǒng)107操作期間 所采取的測量中取得的參考參數(shù)305',其中可以執(zhí)行一或多個制程,其使用多種
13制程氣體,并由其產(chǎn)生流出物氣體,即需要除污。數(shù)據(jù)庫301可以組織成相關(guān)于在
一制程氣體組303,內(nèi)一特定的制程氣體的參數(shù)305 ,組合。例如,在數(shù)據(jù)庫中的 每一列可包括關(guān)聯(lián)于一特定制程氣體的參數(shù)305 ,。如圖3B所示,數(shù)據(jù)庫301的 第一列可包括關(guān)聯(lián)于制程氣體NF3的參數(shù)305 ,, 一第二列包括關(guān)聯(lián)于制程氣體 C2F6的參數(shù)305,,依此類推。
請仍參考圖3B,該制程氣體組303'可包括參考參數(shù)305 ',其系由儀器108 所提供的信息所得到的系數(shù)。該參考參數(shù)305,可為由對象307所使用的系數(shù),例 如常態(tài)分布的一函數(shù)。這種函數(shù)可為示例性等式
其中變量Cn、 Wi、 Qn、 t、 n及N代表儲存在數(shù)據(jù)庫301中的參考參數(shù)。該 函數(shù)可以儲存在數(shù)據(jù)儲存裝置205中,并由處理器201所利用。此外或另外,該函 數(shù)可以通過通信端口 203傳送到接口 105。該些參考參數(shù)305,除了該示例性等式 之外可由接口 105利用,藉此預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的參數(shù)。例如,該些參考參數(shù)305, 可以用來預(yù)測在流出物中相關(guān)于時間是否存在氣體,或其濃度。這種函數(shù)可產(chǎn)生一 曲線,即可在評估時做為該函數(shù)的一視覺描述。
請參考圖3C,其為根據(jù)本發(fā)明中氣體量相對于時間的示例性預(yù)測的曲線。該 些示例性曲線描述了制程所產(chǎn)生的流出物中氣體(^6及Ch的濃度。該些曲線可包 括一 (^6氣體數(shù)據(jù)曲線313及一 C2Fe氣體函數(shù)曲線315。該曲線亦描述了 (:2&氣體 濃度比率317及"F6氣體時間比率319。該些曲線亦包括一 CF4氣體數(shù)據(jù)曲線321 及一 CF4氣體函數(shù)曲線323。 CF,氣體濃度比率325及CF,氣體時間比率327亦可由 曲線來描述。
包含C2F6氣體數(shù)據(jù)曲線313及CF4氣體數(shù)據(jù)曲線321 (數(shù)據(jù)曲線)的信息可由儀 器108提供給一工作站或其它適當(dāng)?shù)男畔⒎治鲈O(shè)備。工作站可以分析該信息,藉以 形成該函數(shù)。此外或另外,儀器108可分析該信息。例如,儀器108可分析該信息, 并提供參考參數(shù)305 ,。該信息的分析可以將該些式的曲線擬合到該些數(shù)據(jù)曲線。 例如,(^6氣體函數(shù)曲線315及CF4氣體函數(shù)曲線323 (函數(shù)曲線)可以擬合到每一條 數(shù)據(jù)曲線。
每個函數(shù)曲線可以對應(yīng)到一參考參數(shù)組303,。例如,(^6氣體函數(shù)曲線315 可以對應(yīng)于圖3B中所述的一 (^6氣體參考參數(shù)組303, 。 C2F^氣體函數(shù)曲線315 可由采用(^6氣體參考參數(shù)組303'的等式所產(chǎn)生。利用參考參數(shù)組303,的等式可由接口 105用來預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的參數(shù)。例如,該些式可以預(yù)測在生產(chǎn)系統(tǒng) 103所產(chǎn)生的流出物中(^6氣體的濃度。如上所述,該參考參數(shù)305 ,可以提供給 該接口。此外,對應(yīng)于參考參數(shù)組303'的對象(例如等式)亦可提供給接口 105。
如以上參考圖3A所述,接口 105可采用傳回到接口的參考參數(shù)組303及/或 對象307來預(yù)測生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103的至少一系統(tǒng)參數(shù),如以下參考圖4 至圖7所述。
用于改善電子裝置制造的系統(tǒng)101的操作現(xiàn)在參考圖1至圖3說明,并參考 圖4,其為一流程圖,其例示了根據(jù)本發(fā)明的電子裝置制造的一示例性方法。請參 考圖4,于步驟403中開始方法401。在步驟405中, 一數(shù)據(jù)庫及/或?qū)ο蠡趤碜?一參考電子裝置制造系統(tǒng)107的測量而產(chǎn)生。如上述,包含于及/或耦合于參考系 統(tǒng)107的儀器108及/或裝置可以收集關(guān)于參考系統(tǒng)107的信息(例如狀態(tài)、操作數(shù) 據(jù)等)。參考系統(tǒng)107可以儲存所收集的數(shù)據(jù)在一或多個數(shù)據(jù)庫110中。依此方法, 參考系統(tǒng)107的組件可隨時間提供信息。特別是,該信息可包括關(guān)于參考系統(tǒng)107 的參數(shù)的信息。該信息可由一代理者(例如工程師、操作者程序等)使用,以決定如 何適當(dāng)?shù)乜刂茀⒖枷到y(tǒng)107或類似于參考系統(tǒng)107的生產(chǎn)系統(tǒng)103的部份。例如, 該信息可由代理者使用來更為最佳化地控制一生產(chǎn)電子裝置制造工具113下游的 組件。該些下游組件可包括泵浦單元119、除污單元121等。因此,該參考系統(tǒng)107 可提供用于開發(fā)及/或?qū)嵤ο蟮男畔?例如規(guī)則、程序、操作導(dǎo)引等),用于最佳 化生產(chǎn)系統(tǒng)103的操作。
在步驟407中,數(shù)據(jù)庫110,及/或?qū)ο?07由一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103 利用而可更佳化地操作生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103。數(shù)據(jù)庫110,及/或?qū)ο?07 可包括關(guān)于如何響應(yīng)于在電子裝置制造期間所提供的有限的效能及/或有限的反饋 信息而控制生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件。更特定而言,生產(chǎn)系統(tǒng)103利用數(shù)據(jù)庫110,及 程序207,其通過數(shù)據(jù)庫110'使用參考系統(tǒng)107所產(chǎn)生,并基于由生產(chǎn)系統(tǒng)103 所提供的有限信息來產(chǎn)生生產(chǎn)系統(tǒng)103的預(yù)測解決。依此方式,生產(chǎn)系統(tǒng)103可由 參考系統(tǒng)107所收集的信息(例如系統(tǒng)操作參數(shù))而產(chǎn)生效益,而不用負擔(dān)儀器108 的成本(圖l)。關(guān)于數(shù)據(jù)庫10'及程序207如何由生產(chǎn)系統(tǒng)103使用來產(chǎn)生一預(yù) 測解決的細節(jié)將在以下參照圖5及圖6做說明,每一圖說明了產(chǎn)生一電子裝置制造 系統(tǒng)的預(yù)測解決的示例性方法。
在步驟409中,生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)系根據(jù)該預(yù)測解決來操作。例如,接 口 105根據(jù)該預(yù)測解決控制生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的操作,例如處理室115、除污單
15元121等。接口 105可與生產(chǎn)系統(tǒng)103的控制系統(tǒng)(未示出)聯(lián)系以操作生產(chǎn)系統(tǒng) 103。
然后在步驟411中,方法401結(jié)束。通過利用圖4的方法401,可以利用生產(chǎn) 系統(tǒng)10 3的組件之間的通信及由 一參考系統(tǒng)107所得到的信息來改進生產(chǎn)系統(tǒng)10 3 的操作(例如改進生產(chǎn)系統(tǒng)103的所有組件的整合操作)。方法401亦可降低維護與 修理的停機時間,并可預(yù)測何時需要執(zhí)行預(yù)防性維護及/或提供一診斷措施來監(jiān)測 系統(tǒng)103的健全性。例如,方法401可用于降低生產(chǎn)系統(tǒng)103的資源消耗及操作成 本。再者,本方法401可用于將電子裝置制造所造成的有害放射最小化,藉以降低 這種制造的負面環(huán)境沖擊。
如上所述,在根據(jù)本發(fā)明的電子裝置制造期間,接口 105可產(chǎn)生一預(yù)測解決。 圖5為根據(jù)本發(fā)明產(chǎn)生電子裝置制造系統(tǒng)的預(yù)測解決的第一示例性方法的流程圖。 請參考圖5,于步驟503中開始方法501。在步驟505中,包括有數(shù)據(jù)庫110,與 程序207的接口 105可由生產(chǎn)系統(tǒng)103中的單元接收數(shù)據(jù)(例如信息),例如化學(xué)輸 送單元111與處理室115及/或控制器。例如,接口105可以接收信息,例如在化 學(xué)輸送單元111及/或電子裝置制造工具113的出口處是否存在某種氣體,其系由 傳感器117及/或控制器118取得。該信息可包括處理室制程狀態(tài)信息,例如處理 室115所使用的前驅(qū)物氣體種類及流速、處理室115中的壓力,施加于處理室115 的功率,在處理室115中處理的晶圓的狀態(tài),目前由處理室115執(zhí)行的處方步驟, 執(zhí)行目前步驟持續(xù)的時間等。儲存在數(shù)據(jù)庫110,中的參數(shù)可包括生產(chǎn)工具103的 種類,處理室115的種類,處方步驟,步驟時間,壓力,溫度、氣流速度、晶圓種 類及RF功率。在一些具體實施例中,接口 105可每秒接收這些信息一次。但是, 該信息可更頻繁或較不頻繁地提供給該接口。此信息可以便宜地取得。請注意因為 由傳感器117及/或控制器118提供的信息可能有限,僅基于這些信息的預(yù)測并不 足以決定最佳效能,因此若生產(chǎn)系統(tǒng)103不使用本發(fā)明而單獨操作,即沒有效率(例 如可能操作不需要的組件)。
但是于步驟507中,所接收的信息、數(shù)據(jù)庫110'及程序207即可用于預(yù)測電 子裝置制造系統(tǒng)103的參數(shù)。例如,程序207可接收由傳感器117及/或控制器118 提供的信息,并存取數(shù)據(jù)庫110,來(精確地)預(yù)測關(guān)于流出物流動(例如氣體及固 體)到一排出系統(tǒng)的信息,例如除污單元121。接口 105可預(yù)測處理室流出物的種 類及數(shù)量。接口 105亦可預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103或其部份的維護需求。該維護需求系基 于流出物流動。例如,藉由預(yù)測該些流出物的種類及數(shù)量,泵浦單元119的泵浦速率可根據(jù)流出物的種類及數(shù)量以時間為函數(shù)來改變。依此方式,即可預(yù)測泵浦單元
119的維護時程。接口 105可預(yù)測維護需求或設(shè)施問題。接口 105亦可用于當(dāng)一參 數(shù)傾向于偏離預(yù)設(shè)的下限及上限時,即可偵測此趨勢,并傳送警告及/或警示。
在步驟509中,生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103的預(yù)測解決可基于關(guān)于該流出物 氣體及其流量的信息來產(chǎn)生。如前所述,預(yù)測解決可以包括關(guān)于如何在電子裝置制 造期間控制生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的信息。例如,基于所預(yù)測到除污單元121的流出 物流量,即可產(chǎn)生一預(yù)測解決,其中當(dāng)流出物需要處理時僅有操作除污單元121。 除污單元121可以依此來調(diào)整在流出物處理期間所使用化學(xué)物、電量、水等的量。 依此方式,即可降低組件(例如除污單元121)的負栽循環(huán)。再者,可以降低消耗材 的使用,例如除污單元121所使用的化學(xué)物來處理流出物的消耗材。因此,生產(chǎn)系 統(tǒng)10 3的預(yù)測解決代表(例如指示)如何控制生產(chǎn)系統(tǒng)10 3的組件,使得生產(chǎn)系統(tǒng) 103以一種有效率的方式#:作。
然后在步驟511中,圖5的方法501結(jié)束。通過使用圖5的方法501,接口 105可以接收來自生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的有限信息,例如化學(xué)輸送單元111及/或 處理室115,并產(chǎn)生生產(chǎn)系統(tǒng)103的預(yù)測解決。更特定而言, 一程序使用有限的信 息來實施一組操作規(guī)則以產(chǎn)生該預(yù)測解決。依此方式,接口 105可決定如何改進除 污單元121的操作(例如如何以一種有效率的方式操作除污單元121)。
圖6為一流程圖,其為根據(jù)本發(fā)明產(chǎn)生一電子裝置制造系統(tǒng)的預(yù)測解決的第 二示例性方法。請參考圖6,于步驟603中開始方法601。在步驟605中,于時間 U接收到關(guān)于生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103的第一操作性及狀態(tài)數(shù)據(jù),并儲存在一 接口 105中,其中包括一數(shù)據(jù)庫IIO,及程序207。例如,于時間tl,接口 105接 收到關(guān)于氣體流動(例如來自處理室115)、氣體種類、晶圓計數(shù)、處理室115中的 壓力、處理室115中的溫度的數(shù)據(jù)(信息),不論一排出系統(tǒng)(例如泵浦單元119或 除污單元121)是否阻擋,在一處理室115中的污染濃度,在除污單元121處的污 染濃度,及/或是否偵測到一處理室端點信號等。必須了解到上述列出可由接口 105 接收的信息僅為示例性。接口 105可接收更多及/或不同的信息。
在步驟607中,于時間t2,接口 105可接收及儲存關(guān)于生產(chǎn)系統(tǒng)103的第二 操作性及狀態(tài)數(shù)據(jù)。更特定而言,于時間t2時,接口 105可接收上述關(guān)于步驟605 的部份或所有的信息。
在步驟609中,于時間t2時接收的數(shù)據(jù)可以相較于時間tl時接收的數(shù)據(jù)來 產(chǎn)生差異數(shù)據(jù)。例如,接口 105可以比較時間tl時處理室中的壓力與時間"時處理室中的壓力,并決定由時間tl到時間t2當(dāng)中處理室中的壓力是增加或降低某個
量。依此方式,該差異數(shù)據(jù)可以代表由時間tl到時間t2當(dāng)中生產(chǎn)系統(tǒng)103的變化。 在步驟611中,該差異數(shù)據(jù)、數(shù)據(jù)庫及程序用于預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的 維護需求。例如,數(shù)據(jù)庫110,可包括在參考系統(tǒng)107操作期間所收集的差異數(shù)據(jù)。 另外,程序207可以用于接收由接口 105產(chǎn)生的差異數(shù)據(jù),存取數(shù)據(jù)庫110',并 預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的維護需求。依此方式,接口 105基于電子裝置制造期間 由生產(chǎn)系統(tǒng)103提供的數(shù)據(jù)(例如實時性數(shù)據(jù))預(yù)測何時該生產(chǎn)系統(tǒng)103的一組件需 要維護。相反地,習(xí)用的維護計算基于基本上是假設(shè)為保守或最壞狀況,因此,習(xí) 用電子裝置制造系統(tǒng)的零件可能不需要做維修。因此,接口 105提供了對于生產(chǎn)系 統(tǒng)103的維護需求更為準(zhǔn)確的決定,其將可降低維護成本與降低整體系統(tǒng)停機時 間。
在步驟613中,基于該差異數(shù)據(jù)產(chǎn)生生產(chǎn)系統(tǒng)103的預(yù)測解決。更特定而言, 該接口利用該差異數(shù)據(jù)(以及數(shù)據(jù)庫110,及程序207)來預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件 的維護需求?;谶@些預(yù)測,接口 105可產(chǎn)生一解決來指示如何操作生產(chǎn)系統(tǒng)103 的組件。接口 105可根據(jù)該預(yù)測解決控制生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的操作。接口 105 可與生產(chǎn)系統(tǒng)103的控制系統(tǒng)(未示出)通信以根據(jù)該預(yù)測解決操作生產(chǎn)系統(tǒng)103。
然后在步驟615中,圖6的方法601結(jié)束。通過使用圖6的方法601,接口 105可以藉由預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件所需要的維護來降低維護成本及增加系統(tǒng)運 作性。依此方式,方法601可對生產(chǎn)系統(tǒng)103產(chǎn)生一更具預(yù)測性的解決。
圖7為一流程圖,其所述為根據(jù)本發(fā)明產(chǎn)生一電子裝置制造系統(tǒng)的預(yù)測解決 的另一種示例性方法。請參考圖7,于步驟703中開始方法701。在步驟705中, 于時間tl接收到關(guān)于生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)103的第一操作性及狀態(tài)數(shù)據(jù),并儲 存在一接口 105中,其中包括一數(shù)據(jù)庫IIO,及程序207。例如,于時間tl,接口 105接收到關(guān)于氣體流動(例如來自處理室115)、氣體種類、晶圓計數(shù)、處理室115 中的壓力、處理室115中的溫度的數(shù)據(jù)(信息),不論一排出系統(tǒng)(例如泵浦單元119 或除污單元121)是否阻擋,在一處理室115中的污染濃度,在除污單元121處的 污染濃度,及/或是否偵測到一處理室端點信號。必須了解到上述先前列出可由接 口 105接收的信息僅為示例性。接口 105可接收更多及/或不同的信息。
在步驟707中,于時間t2,接口 105可接收及儲存關(guān)于生產(chǎn)系統(tǒng)103的第二 操作性及狀態(tài)數(shù)據(jù)。更特定而言,于時間t2時,接口 105可接收上述在說明步驟 7 05時所列出的部份或所有的信息。在步驟709中,于時間t2時接收的數(shù)據(jù)可以相較于時間tl時接收的數(shù)據(jù)來 產(chǎn)生整合的數(shù)據(jù)。例如,接口 105可比較時間tl時在處理室中一化學(xué)物流速與時 間t2時在處理室中該化學(xué)物流速,并決定在時間tl到t2之間流動通過該處理室 的化學(xué)物的總量。依此方式,該整合數(shù)據(jù)可以代表由時間tl到時間U當(dāng)中生產(chǎn)系 統(tǒng)103的變化。
在步驟711中,該整合數(shù)據(jù)、數(shù)據(jù)庫及程序用于預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的 維護需求。例如,數(shù)據(jù)庫110,可包括在參考系統(tǒng)107操作期間所收集的整合數(shù)據(jù)。 另外,程序207可以用于接收由接口 105產(chǎn)生的整合數(shù)據(jù),存取數(shù)據(jù)庫IIO,,并 預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的維護需求。依此方式,接口 105基于電子裝置制造期間 由生產(chǎn)系統(tǒng)103提供的數(shù)據(jù)(例如實時性數(shù)據(jù))預(yù)測何時該生產(chǎn)系統(tǒng)103的一組件需 要維護。相反地,習(xí)用的維護計算基于基本上是假設(shè)為保守或最壞狀況,因此,習(xí) 用電子裝置制造系統(tǒng)的零件可能不需要做維修。因此,接口 105提供了對于生產(chǎn)系 統(tǒng)103的維護需求更為準(zhǔn)確的決定,其將可降低維護成本與降低整體系統(tǒng)停機時 間。
在步驟713中,基于該整合數(shù)據(jù)產(chǎn)生生產(chǎn)系統(tǒng)103的預(yù)測解決。更特定而言, 該接口利用該整合數(shù)據(jù)(以及數(shù)據(jù)庫110'及程序207)來預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件 的維護需求。基于這些預(yù)測,接口 105可產(chǎn)生一解決來指示如何操作生產(chǎn)系統(tǒng)103 的組件。接口 105可根據(jù)該預(yù)測解決控制生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件的操作。接口 105 可與生產(chǎn)系統(tǒng)103的控制系統(tǒng)(未示出)通信以根據(jù)該預(yù)測解決操作生產(chǎn)系統(tǒng)103。
然后在步驟715中,圖7的方法701結(jié)束。通過使用圖7的方法701,接口 105可以藉由預(yù)測生產(chǎn)系統(tǒng)103的組件所需要的維護來降低維護成本及增加系統(tǒng)運 作性。依此方式,方法701可對生產(chǎn)系統(tǒng)103產(chǎn)生一更具預(yù)測性的解決。
該些最佳化操作方法(例如預(yù)測解決)可以賣給客戶。例如,對于數(shù)據(jù)庫及程 序的存取可以通過網(wǎng)際網(wǎng)絡(luò)收取一使用費而提供給客戶。此外或另外,該數(shù)據(jù)庫及 程序可以提供成為由一客戶或客戶支持員工安裝到生產(chǎn)系統(tǒng)103的軟件更新的一 部份。
前述的說明僅揭示出本發(fā)明的示例性具體實施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將可立即 了解到對于上述設(shè)備及方法的修正皆位在本發(fā)明的范疇內(nèi)。例如,上述揭示的方法 與設(shè)備可以套用到具有多種不同組態(tài)的系統(tǒng),其中包括但并非限制,耦合到多個處 理室的單一除污系統(tǒng),耦合到單一處理室的多個泵浦等。
因此,當(dāng)本發(fā)明已經(jīng)配合其示例性具體實施例說明之后,必須了解到其它具
19體實施例皆位在由下附權(quán)利要求書所定義的本發(fā)明的精神與范疇之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種方法,包含測量關(guān)于一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一參考電子裝置制造系統(tǒng)的參考參數(shù);使用該些測量的參考參數(shù)產(chǎn)生信息;以及分析該信息以預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的至少一參數(shù)。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法,其中分析該信息以預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系 統(tǒng)的至少 一 參數(shù)包括預(yù)測關(guān)于該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的 一 流出物的 一 參數(shù)。
3. 如權(quán)利要求1所述的方法,另包含測量一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的參數(shù)。
4. 如權(quán)利要求3所述的方法,其中分析該信息以預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系 統(tǒng)的至少 一參數(shù)包括比較該些生產(chǎn)參數(shù)與該些參考參數(shù)。
5. 如權(quán)利要求3所述的方法,其中分析該信息以預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系 統(tǒng)的至少一參數(shù)另包括選擇一函數(shù),其可基于該些生產(chǎn)參數(shù)的測量而預(yù)測來自該生 產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的至少一參數(shù)。
6. 如權(quán)利要求3所述的方法,其中測量一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的參數(shù)包括 測量時間tl的一第一至少一參數(shù);測量時間t2的一第二至少一參數(shù);以及 比較該第 一至少 一參數(shù)與該第二至少 一參數(shù)。
7. 如權(quán)利要求6所述的方法,其中比較該第一至少一參數(shù)與該第二至少一參 數(shù)差異式地進行。
8. 如權(quán)利要求7所述的方法,其中比較該第一至少一參數(shù)與該第二至少一參 數(shù)整合式地進行。
9. 一種方法,包含測量來自 一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的生產(chǎn)參數(shù);使用 一程序比較該些生產(chǎn)參數(shù)與關(guān)于一參考系統(tǒng)的 一數(shù)據(jù)庫;以及基于該比較預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的至少一參數(shù)。
10. 如權(quán)利要求9所述的方法,其中測量來自一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的該些 生產(chǎn)參數(shù)包括接收來自控制器的信息。
11. 如權(quán)利要求9所述的方法,其中測量來自一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的該些 生產(chǎn)參數(shù)包括接收來自傳感器的信息。
12. 如權(quán)利要求9所述的方法,其中使用一程序比較該些生產(chǎn)參數(shù)與一數(shù)據(jù)庫 包括比較該些生產(chǎn)參數(shù)與該數(shù)據(jù)庫的參考參數(shù)。
13. 如權(quán)利要求9所述的方法,其中預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的至少一參 數(shù)包括測量時間tl的一第一至少一參數(shù); 測量時間t2的一第二至少一參數(shù);以及 比較該第一至少一參數(shù)與該第二至少一參數(shù)。
14. 如權(quán)利要求13所述的方法,其中比較該第一至少一參數(shù)與該第二至少一 參數(shù)差異式地進行。
15. 如權(quán)利要求13所述的方法,其中比較該第一至少一參數(shù)與該第二至少一 參數(shù)整合式地進行。
16. —種電子裝置制造的方法,包含基于來自一參考電子裝置制造系統(tǒng)的測量以產(chǎn)生一數(shù)據(jù)庫及程序; 利用在一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)中的該數(shù)據(jù)庫及程序以產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置 制造系統(tǒng)的 一預(yù)測解決;以及根據(jù)該預(yù)測解決操作該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)。
17.如權(quán)利要求16所述的方法,其中利用在該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)中的該 數(shù)據(jù)庫及程序以產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一預(yù)測解決包括接收在一接口中的數(shù)據(jù),其中包括來自該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一化學(xué)輸 送單元及處理室的數(shù)據(jù)庫及程序;利用該些接收的信息,數(shù)據(jù)庫及程序來決定在該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)中關(guān) 于流出物氣體及其流量的信息;以及基于關(guān)于該流出物氣體及其流量的信息產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一預(yù) 測解決。
18.如權(quán)利要求16所述的方法,其中利用在該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)中的該 數(shù)據(jù)庫及程序以產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一預(yù)測解決包括在一第一時間,接收關(guān)于該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的第一操作性與狀態(tài)數(shù)據(jù), 并將這些數(shù)據(jù)儲存在包括一數(shù)據(jù)庫與程序的一接口中;在一第二時間,接收關(guān)于該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的第二操作性與狀態(tài)數(shù)據(jù),并將這些數(shù)據(jù)儲存在該接口中;比較在該第 一 時間接收的該數(shù)據(jù)與在該第二時間接收的該數(shù)據(jù)來產(chǎn)生差異數(shù)據(jù);利用該差異數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)庫及程序來預(yù)測該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的組件的維護需求;以及基于該差異數(shù)據(jù)產(chǎn)生該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)的一預(yù)測解決。
19. 一種用于提供關(guān)聯(lián)于一預(yù)測解決的信息的接口 ,包含一通信端口,用于傳送信息到一生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)以及由該生產(chǎn)電子裝置制造系統(tǒng)接收信息;以及一處理器,其可通信地耦合到該通信端口,并用于處理該信息,藉以預(yù)測該 電子裝置制造系統(tǒng)的至少一參數(shù)。
20.—種系統(tǒng),包含一接口,其用于提供關(guān)聯(lián)于一參考系統(tǒng)的信息;以及一電子裝置制造工具,其耦合于該接口,并用于接收關(guān)聯(lián)于一預(yù)測解決的信自、
21.如權(quán)利要求20所述的系統(tǒng),其中該接口為關(guān)聯(lián)于一參考系統(tǒng)的信息的儲 存處。
全文摘要
在本發(fā)明一方面中,提供一種用于改進一電子裝置制造系統(tǒng)的操作的方法。該方法包括提供信息給耦合到一具有參數(shù)的電子裝置制造系統(tǒng)的接口,其可處理該信息來預(yù)測一第一參數(shù),并提供關(guān)聯(lián)于該電子裝置制造系統(tǒng)的至少一第二參數(shù)的一指令,其中該指令基于所預(yù)測的第一參數(shù)。并提供許多其它方面。
文檔編號G05B13/04GK101495925SQ200780009117
公開日2009年7月29日 申請日期2007年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月16日
發(fā)明者A·??怂? M·W·柯里, P·波西內(nèi)夫, S·拉烏 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司