1.一種控制圖的構(gòu)建方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一工藝參數(shù)和優(yōu)化條件，構(gòu)建順序概率比測試sprt控制圖，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一參數(shù)包括樣本數(shù)據(jù)量、期望的受控調(diào)整后平均信號時間、誤判概率、容差水平、采樣頻率、最小允許采樣間隔、最小允許均值偏移量或最大可容忍均值偏移量中的一項或多項；所述約束條件包括第一約束條件、第二約束條件、第三約束條件或第四約束條件中的一項或多項；
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述至少一個第二參數(shù)組和所述優(yōu)化條件，確定最優(yōu)第二參數(shù)組，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述第二參數(shù)組還包括有條件平均樣本數(shù)casn、有條件平均信號時間cats、有條件平均樣本數(shù)的期望值aasn、有條件平均信號時間的期望值aats、平均信號時間標(biāo)準(zhǔn)差sdats或平均有條件信號時間標(biāo)準(zhǔn)偏差asdts中的一項或多項；其中，
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述aaeql根據(jù)所述cats、所述最小允許均值偏移量、所述最大可容忍均值偏移量計算得到。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的方法，其特征在于，所述第一工藝參數(shù)包括估計平均值和估計標(biāo)準(zhǔn)偏差；
8.一種檢測方法，其特征在于，所述方法包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述第二階段的樣本數(shù)據(jù)包括至少一個樣本集；
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述控制統(tǒng)計量、所述sprt控制圖的控制上限和控制下限，對所述第二階段的控制狀態(tài)進(jìn)行判斷，包括：
11.一種控制圖的構(gòu)建裝置，其特征在于，所述裝置包括：獲取模塊，用于獲取第一階段樣本數(shù)據(jù)；參數(shù)模塊，用于根據(jù)所述第一階段樣本數(shù)據(jù)，得到第一工藝參數(shù)；構(gòu)建模塊，用于根據(jù)所述第一工藝參數(shù)和優(yōu)化條件，構(gòu)建順序概率比測試sprt控制圖；其中，所述優(yōu)化條件包括所述sprt控制圖的平均額外二次損失aaeql取得最小值。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述構(gòu)建模塊，還用于：根據(jù)第一參數(shù)、所述第一階段樣本數(shù)據(jù)、所述第一工藝參數(shù)和約束條件，得到至少一個第二參數(shù)組；其中，所述第一參數(shù)根據(jù)用戶設(shè)定得到；所述第二參數(shù)組包括受控有條件平均樣本數(shù)的期望值aasn0、參考參數(shù)、采樣間隔、控制上限或控制下限中的一項或多項；根據(jù)所述至少一個第二參數(shù)組和所述優(yōu)化條件，確定最優(yōu)第二參數(shù)組；根據(jù)所述最優(yōu)第二參數(shù)組，構(gòu)建所述sprt控制圖。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征在于，所述第一參數(shù)包括樣本數(shù)據(jù)量、期望的受控調(diào)整后平均信號時間、誤判概率、容差水平、采樣頻率、最小允許采樣間隔、最小允許均值偏移量或最大可容忍均值偏移量中的一項或多項；所述約束條件包括第一約束條件、第二約束條件、第三約束條件或第四約束條件中的一項或多項；所述構(gòu)建模塊，還用于：根據(jù)所述最小允許采樣間隔、所述第一約束條件和所述第二約束條件，得到至少一個aasn0，根據(jù)所述至少一個aasn0，得到至少一個參考參數(shù)；根據(jù)所述至少一個aasn0、所述至少一個參考參數(shù)、所述第三約束條件和所述第四約束條件，得到至少一個采樣間隔和至少一個控制上限；根據(jù)所述至少一個控制上限和所述第三約束條件，得到至少一個控制下限；根據(jù)所述至少一個aasn0、所述至少一個參考參數(shù)、所述至少一個采樣間隔、所述至少一個控制上限和所述至少一個控制下限，得到所述至少一個第二參數(shù)組。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的裝置，其特征在于，所述構(gòu)建模塊還用于：將所述至少一個第二參數(shù)組中，使得所述aaeql取得最小值的第二參數(shù)組確定為所述最優(yōu)第二參數(shù)組。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的裝置，其特征在于，所述第二參數(shù)組還包括有條件平均樣本數(shù)casn、有條件平均信號時間cats、有條件平均樣本數(shù)的期望值aasn、有條件平均信號時間的期望值aats、平均信號時間標(biāo)準(zhǔn)差sdats或平均有條件信號時間標(biāo)準(zhǔn)偏差asdts中的一項或多項；所述casn根據(jù)所述第一工藝參數(shù)、所述參考參數(shù)、所述控制下限和均值偏移量計算得到；所述cats根據(jù)所述第一工藝參數(shù)、所述參考參數(shù)、所述采樣間隔、所述控制下限和所述均值偏移量計算得到；所述aasn根據(jù)所述casn計算得到；所述aats根據(jù)所述cats計算得到；所述sdats根據(jù)所述cats和所述aats計算得到；所述asdts根據(jù)所述aats計算得到。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其特征在于，所述aaeql根據(jù)所述cats、所述最小允許均值偏移量、所述最大可容忍均值偏移量計算得到。
17.根據(jù)權(quán)利要求11-16中任一項所述的裝置，其特征在于，所述第一工藝參數(shù)包括估計平均值和估計標(biāo)準(zhǔn)偏差；所述參數(shù)模塊，還用于：根據(jù)所述第一階段樣本數(shù)據(jù)的平均值，得到所述估計平均值；根據(jù)所述第一階段樣本數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)偏差，得到所述估計標(biāo)準(zhǔn)偏差。
18.一種檢測裝置，其特征在于，所述裝置包括：獲取模塊，用于獲取第二階段的樣本數(shù)據(jù)；檢測模塊，用于根據(jù)順序概率比測試sprt控制圖，對所述第二階段的樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行檢測；其中，所述sprt控制圖根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法進(jìn)行構(gòu)建得到。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述第二階段的樣本數(shù)據(jù)包括至少一個樣本集；所述檢測模塊，還用于：根據(jù)第一樣本集的平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差及所述sprt控制圖的參考參數(shù)，計算所述第一樣本集的控制統(tǒng)計量；所述第一樣本集為所述至少一個樣本集中的任一樣本集；根據(jù)所述控制統(tǒng)計量、所述sprt控制圖的控制上限和控制下限，對所述第二階段的控制狀態(tài)進(jìn)行判斷。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其特征在于，所述檢測模塊，還用于：若所述控制統(tǒng)計量高于所述控制上限，判斷所述控制狀態(tài)為失控；若所述控制統(tǒng)計量低于所述控制下限，判斷所述控制狀態(tài)為受控；若所述控制統(tǒng)計量在所述控制上限和所述控制下限之間，計算第二樣本集的控制統(tǒng)計量，根據(jù)所述第二樣本集的控制統(tǒng)計量、所述sprt控制圖的控制上限和控制下限，判斷所述控制狀態(tài)；其中，所述第二樣本集為所述至少一個樣本集中除所述第一樣本集外的任一樣本集。
21.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：
22.一種非易失性計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其上存儲有計算機(jī)程序指令，其特征在于，所述計算機(jī)程序指令被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)權(quán)利要求1-7中任意一項所述的方法，或者，實現(xiàn)權(quán)利要求8-10任意一項所述的方法。