本技術(shù)涉及真空鍍膜領(lǐng)域，特別涉及一種氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置、系統(tǒng)及真空鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、氣體流量計是真空鍍膜設(shè)備中必不可少的組件，用于控制工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣等)的流量；在部分需要高精準控制的應用場景中，往往需要配置特定的氣體反應控制器，例如氣體反應控制器speedflo，用來提高鍍膜工藝的穩(wěn)定性，這一類氣體反應控制器屬于閉環(huán)控制，參考圖1所示，現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中，氣體反應控制器speedflo通過反饋接口直接讀取靶電源的電壓值，通過輸出接口實時控制和調(diào)整第三方的工藝氣體流量計，由于氣體反應控制器speedflo的通訊協(xié)議為私有，因此氣體反應控制器speedflo需要使用專門的工控機軟件進行啟用，真空鍍膜設(shè)備的plc僅能發(fā)送啟停信號給氣體反應控制器speedflo，無法讀取和判斷氣體流量是否正常，當氣體反應控制器speedflo出現(xiàn)問題時，無法反饋到真空鍍膜設(shè)備的系統(tǒng)上，導致真空鍍膜運行的穩(wěn)定性和可靠性差。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本實用新型提出一種氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置、系統(tǒng)及真空鍍膜設(shè)備，當氣體反應控制器出現(xiàn)問題時能夠及時發(fā)現(xiàn)和處理，提高真空鍍膜運行的穩(wěn)定性和可靠性。

2、根據(jù)本實用新型第一方面實施例的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，包括：pn通訊模塊，所述pn通訊模塊用于連接所述plc的通訊端；模擬量輸入模塊，所述模擬量輸入模塊用于連接氣體反應控制器的模擬量輸出端；第一模擬量輸出模塊，所述第一模擬量輸出模塊用于連接氣體反應控制器的模擬信號輸入端；第二模擬量輸出模塊，所述第二模擬量輸出模塊用于連接工藝氣體流量計的控制端；mcu，所述mcu分別連接所述pn通訊模塊、所述模擬量輸入模塊、所述第一模擬量輸出模塊和所述第二模擬量輸出模塊。

3、根據(jù)本實用新型的一些實施例，還包括數(shù)字量輸出模塊，所述數(shù)字量輸出模塊用于連接氣體反應控制器的啟停端，所述數(shù)字量輸出模塊連接所述mcu。

4、根據(jù)本實用新型的一些實施例，還包括電源模塊，所述電源模塊用于供電。

5、根據(jù)本實用新型的一些實施例，還包括顯示屏，所述顯示屏連接所述mcu。

6、根據(jù)本實用新型的一些實施例，所述模擬量輸入模塊包括多個不同類型的模擬量接口；

7、根據(jù)本實用新型的一些實施例，所述第一模擬量輸出模塊包括多個不同類型的模擬量接口；

8、根據(jù)本實用新型的一些實施例，所述第二模擬量輸出模塊包括多個不同類型的模擬量接口。

9、根據(jù)本實用新型第二方面實施例的氣體反應控制系統(tǒng)，包括：

10、plc；

11、靶電源，所述靶電源與所述plc相連以用于反饋靶電壓值；

12、中轉(zhuǎn)裝置，所述中轉(zhuǎn)裝置為上述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，所述plc連接所述中轉(zhuǎn)裝置的pn通訊模塊；

13、氣體反應控制器，所述中轉(zhuǎn)裝置的第一模擬量輸出模塊連接所述氣體反應控制器的模擬信號輸入端，所述中轉(zhuǎn)裝置的模擬量輸入模塊連接所述氣體反應控制器的模擬量輸出端；

14、工藝氣體流量計，所述中轉(zhuǎn)裝置的第二模擬量輸出模塊連接所述工藝氣體流量計的控制端。

15、根據(jù)本實用新型第三方面實施例的真空鍍膜設(shè)備，包括上述的氣體反應控制系統(tǒng)。

16、根據(jù)本實用新型實施例的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置、系統(tǒng)及真空鍍膜設(shè)備，至少具有如下

17、有益效果：

18、本實施方式通過pn通訊模塊連接plc，通過第一模擬量輸出模塊連接氣體反應控制器的模擬信號輸入端，mcu將靶電壓反饋信號轉(zhuǎn)換為模擬量反饋至氣體反應控制器，并且mcu通過模擬量輸入模塊接收氣體反應控制器輸出的控制模擬量信號，然后mcu通過第二模擬量輸出模塊將控制模擬量信號輸入至工藝氣體流量計，確保了氣體反應控制器的閉環(huán)控制功能，由于plc通過pn通訊模塊與mcu通訊，因此氣體反應控制器相當于通過mcu和plc通訊，plc可以通過mcu獲取氣體反應控制器的工作狀態(tài)，當氣體反應控制器出現(xiàn)故障，能進行及時響應和處理，提高真空鍍膜運行的穩(wěn)定性和可靠性。

19、本實用新型的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

技術(shù)特征：

1.一種氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括數(shù)字量輸出模塊(150)，所述數(shù)字量輸出模塊(150)用于連接氣體反應控制器(400)的啟停端，所述數(shù)字量輸出模塊(150)連接所述mcu。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括電源模塊，所述電源模塊用于供電。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，還包括顯示屏，所述顯示屏連接所述mcu。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述模擬量輸入模塊(120)包括多個不同類型的模擬量接口。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述第一模擬量輸出模塊(130)包括多個不同類型的模擬量接口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置，其特征在于，所述第二模擬量輸出模塊(140)包括多個不同類型的模擬量接口。

8.一種氣體反應控制系統(tǒng)，其特征在于，包括：

9.一種真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求8所述的氣體反應控制系統(tǒng)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種氣體反應控制中轉(zhuǎn)裝置、系統(tǒng)及真空鍍膜設(shè)備，中轉(zhuǎn)裝置包括PN通訊模塊，PN通訊模塊用于連接PLC的通訊端；模擬量輸入模塊，模擬量輸入模塊用于連接氣體反應控制器的模擬量輸出端；第一模擬量輸出模塊，第一模擬量輸出模塊用于連接氣體反應控制器的模擬信號輸入端；第二模擬量輸出模塊，第二模擬量輸出模塊用于連接工藝氣體流量計的控制端；MCU，MCU分別連接PN通訊模塊、模擬量輸入模塊、第一模擬量輸出模塊和第二模擬量輸出模塊。當氣體反應控制器出現(xiàn)問題時能夠及時發(fā)現(xiàn)和處理，提高真空鍍膜運行的穩(wěn)定性和可靠性。

技術(shù)研發(fā)人員：陳培紹,吳標平,李日天,楊詩鋒,唐勝,劉鵬飛,黃林,文勰,李遠
受保護的技術(shù)使用者：中山凱旋真空科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240511
技術(shù)公布日：2024/12/19