專利名稱：防反射膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及防反射復(fù)合材料，特別是防反射膜。
背景技術(shù)：
在許多情況下，如果制品表面的耀光減少，則通過光透介質(zhì)的信息和圖像的能見度將增強(qiáng)。耀光或鏡面耀光是光從入射表面發(fā)出的不需要的反射光。許多裝置，例如車窗、保護(hù)性眼罩、計(jì)算機(jī)監(jiān)視屏、電視屏幕及其它顯示面板都期望這種反射的減少。
因此，期望提供一種應(yīng)用于這種表面的防反射復(fù)合材料，用來減少耀光的量。目前能用在表面上的防反射復(fù)合材料一般包括無機(jī)物層，例如，金屬或金屬氧化物層；二氧化硅層，包括SiOx，式中x一般是約為2的整數(shù)。另外，也可以提供氧化銦錫(ITO)層。防反射復(fù)合材料施加在表面上后，就形成了防反射制品。但是，ITO和SiOx都難以濺射，因此，使用ITO和/或SiOx的防反射制品的制造成本通常較高。

發(fā)明內(nèi)容
一方面，一件防反射制品包括防反射復(fù)合材料、基片、沉積在基片上的無機(jī)物層、以及與無機(jī)物層接觸以形成防反射復(fù)合材料外表面的聚合物層。無機(jī)物層的厚度約為1nm-10nm。聚合物層的厚度約為70nm-120nm。
許多實(shí)施方式可能包含一個(gè)或多個(gè)以下特征。例如，無機(jī)物層可由金屬形成。金屬層可以是鎳。鎳的厚度可以是約2nm-3.5nm。金屬可以是鉻。無機(jī)物層可以是氮化鈦。
聚合物層的厚度可以是約100nm-110nm。在波長(zhǎng)為約400nm-700nm的范圍內(nèi)，聚合物層的折射指數(shù)小于或等于約1.53。
該制品可包括基片和無機(jī)物層之間的硬涂層。
無機(jī)物層可吸收一定比例的入射光，視防反射復(fù)合材料所需的總透光率情況而定。無機(jī)物層的厚度可根據(jù)無機(jī)物層的色散性能而定。
防反射復(fù)合材料的總厚度可以是可見光譜平均波長(zhǎng)的四分之一。防反射復(fù)合材料的總厚度可以等于無機(jī)物層與聚合物層的厚度之和。
該制品在波長(zhǎng)約400nm-700nm范圍的適光反射率小于約0.5％。聚合物層可通過在無機(jī)物層上將可固化組合物原位固化而形成。
本發(fā)明的技術(shù)和體系可包括一個(gè)或多個(gè)以下優(yōu)點(diǎn)。其單一無機(jī)物層結(jié)構(gòu)提供了與先前包括其它無機(jī)物層的各層的防反射復(fù)合材料基本相等的防反射性能，而且由于不用厚的二氧化硅層和/或其它無機(jī)物層，使生產(chǎn)成本大幅下降。
在無機(jī)物層上具有仔細(xì)控制的折射指數(shù)的外部旋光聚合物層，會(huì)減少制造和生產(chǎn)防反射復(fù)合材料的總成本，因?yàn)闊o機(jī)物層的厚度可以大幅度地減小。而且，使用外部旋光聚合物層的防反射復(fù)合材料，其抗劃痕性與耐沾污性，比如耐指紋沾污性很好。
可在CRT屏，包括通過改變用作光透表面的玻璃表面的厚度制得的新的平板屏上施加防反射復(fù)合材料。因?yàn)楹穸鹊母淖?，?xí)慣上用作減少CRT屏上耀光的有色玻璃不能用在平板屏上?？蓪⒎婪瓷鋸?fù)合材料施加在用于手提裝置的有機(jī)發(fā)光二極管(LED)上。
一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式的詳細(xì)內(nèi)容將通過以下附圖和描述加以闡明。以下描述、附圖以及權(quán)利要求書將使本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)更加顯而易見。


圖1示出了防反射復(fù)合材料的反射率和透光率曲線的模擬圖，其中，對(duì)氧化銦錫層、鉻或鎳的無機(jī)物層和外部聚合物層的復(fù)合層進(jìn)行了調(diào)節(jié)。
圖2示出了在涂布了硬涂層的PET基片上有無機(jī)物層和外部聚合物層的防反射復(fù)合材料的反射率和透光率曲線。
這兩張附圖中相同的數(shù)字表示相同的部件。
具體實(shí)施例方式
參照?qǐng)D1，該圖示出了包括由涂布了硬涂層(HC)的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)制得的表面或基片及防反射復(fù)合材料的聚合防反射制品的反射率與透光率的理論模擬曲線。在這些模擬曲線中，防反射復(fù)合材料的各個(gè)層的厚度被調(diào)節(jié)為能產(chǎn)生80％反射率的防反射復(fù)合材料。發(fā)現(xiàn)防反射復(fù)合材料不需要與先前防反射復(fù)合材料中使用的那樣有ITO層。具體是，模擬了兩種防反射復(fù)合材料。第一種防反射復(fù)合材料包括鎳的無機(jī)物層和外部聚合物層。它示出了反射率曲線100和透光率曲線110。第二種防反射復(fù)合材料示出了反射率曲線105和透光率曲線115。
從反射率曲線100和105可以看出，最低反射率集中在550nm波長(zhǎng)左右，對(duì)該波長(zhǎng)人眼最為敏感。
因此，提供了一種用于基片上的防反射復(fù)合材料，它包括具有較高折射指數(shù)的無機(jī)物層和具有較低折射指數(shù)的外部聚合物層。在無機(jī)物層上沉積可固化的組合物層，然后原位固化該層，就形成了外部聚合物層。所需的較厚可固化組合物層，可用溶液涂布或其它涂布技術(shù)均勻地施加。同時(shí)，由于制得了較厚的外部聚合物層，使無機(jī)物層的厚度減小，從而使成本降低。例如，防反射復(fù)合材料的一個(gè)下述實(shí)施方式包括2.8nm厚的鎳(Ni)層和110nm厚的外部聚合物層。
防反射復(fù)合材料的基片可以是在其上面需要防反射涂層的任何材料，只要該基片能經(jīng)受住沉積無機(jī)物層及固化可固化組合物所用的較為溫和的條件。該基片可以是一個(gè)加工好的光學(xué)制品，例如，透鏡、陰極射線管(CRT)的顯示面或LED顯示屏。該基片可以是塑料膜，一般是聚酯膜；三乙酸纖維素或玻璃。合適的聚酯膜在市場(chǎng)上是容易購(gòu)得的，例如，美國(guó)特拉華州Wilmington市的ICI Americas公司以商品名“MELINEX”銷售的101-177μm聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜。一般來說，可使用厚度約為40μm-400μm的PET。
如果基片是塑料膜，可在其一個(gè)或兩個(gè)表面上施加涂層，增加硬度和抗劃痕性，增加無機(jī)物層對(duì)基片的附著，或提供任何其它需要的性能，例如，過濾紫外輻射或阻擋氣體和/或水分?；嫌餐繉拥囊话愫穸燃s為1-15μm，最好是約2-3μm。可通過某種適宜的可聚合材料由熱或紫外輻射引發(fā)的自由基聚合來產(chǎn)生該硬涂層。一種用于基片的硬涂層由Tekra公司以商品名“TERRAPIN”銷售，該公司的地址是美國(guó)威斯康星州New Berlin市西林肯大街6700號(hào)，郵編53151。
如上所述，防反射復(fù)合材料包括無機(jī)物層。該層可由用于先前防反射復(fù)合材料的任意無機(jī)材料形成。無機(jī)材料包括鎳(Ni)、鉻(Cr)、氮化鈦、氮化硅、金屬氧化物或具有較高折射指數(shù)的任意吸光性金屬。金屬氧化物的例子包括氧化鈦、氧化鎳、氧化鉻、氧化銦、氧化鎘、氧化鎵銦、五氧化二鈮、氧化銦錫和二氧化錫。Ni具有較好的反射性能和適宜的色散特征；因此，無機(jī)物層最好是用于下述聚合物層的鎳的組合物。
防反射復(fù)合材料的無機(jī)物層厚度與聚合物層應(yīng)當(dāng)相關(guān)聯(lián)，使這些層的總厚度近似為所需防反射特征的波長(zhǎng)范圍中值的波長(zhǎng)的1/4。例如，當(dāng)需要在包括可見光譜的約300nm-850nm的范圍內(nèi)有防反射特征時(shí)，總厚度近似為120-145nm。同時(shí)，可對(duì)無機(jī)物層和外部聚合物層的厚度進(jìn)行相互調(diào)節(jié)，使復(fù)合膜產(chǎn)生的反射率最小。
無機(jī)物層的厚度約為1nm-10nm，最好約為2nm-3.5nm，而外部聚合物層的厚度約為70nm-120nm，最好約為100nm-110nm。Ni防反射層厚度的上限依Ni的吸光性能而定。若其厚度很大，Ni開始吸收太多的入射光，透光率百分比就下降。因此，可改變Ni層的厚度來調(diào)節(jié)透光的程度。一般來說，厚度約為2.8nm的Ni在可見區(qū)的波長(zhǎng)吸收約20％-30％的入射光。
雖然可以使用其它技術(shù)，例如電子束和熱蒸發(fā)在基片上沉積無機(jī)物層，但是無機(jī)物層最好通過濺射或化學(xué)氣相沉積來沉積。某些有用的濺射技術(shù)的例子包括直流濺射、射頻濺射、磁控濺射、直接濺射和反應(yīng)濺射。某些有用的化學(xué)氣相沉積技術(shù)的例子包括低壓、等離子增強(qiáng)及激光增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積技術(shù)。無機(jī)物層的沉積應(yīng)在不導(dǎo)致基片損壞的溫度下進(jìn)行。該溫度的范圍隨使用的具體基片而不同。例如，塑料基片的溫度范圍要低于玻璃基片的溫度范圍。
如上所述，厚度約為70nm-120nm的防反射復(fù)合材料的外部聚合物層，其折射指數(shù)在波長(zhǎng)約400nm-700nm的范圍不得超過約1.53。厚度在該范圍的聚合物層的施涂方法，可使用常規(guī)溶液涂布技術(shù)，如狹縫涂布來施加有機(jī)溶劑中適宜的可固化材料的溶液，然后除去溶劑，再進(jìn)行固化。
需要使外部聚合物層的折射指數(shù)盡量低，并與該層的其它可接受的性質(zhì)，特別是硬度和抗劃痕性及耐沾污性相協(xié)調(diào)。外部聚合物層也應(yīng)對(duì)會(huì)使用于防反射復(fù)合材料的清潔劑，例如，乙醇、氨水、丙酮、汽油和異丙醇、以及食品和化妝品等有抵抗性。而且，該聚合物還應(yīng)具有較好的耐久性，例如用承受鋼絲毛磨擦的能力衡量的耐久性。
為了得到合適的較低折射指數(shù)，用于形成所需外部聚合物層的可固化組合物包括氟代烯烴的聚合物，例如聚1，1-二氟乙烯，或者1，1-二氟乙烯/四氟乙烯共聚物，例如San Diego塑料公司以商品名“KYNAR”銷售的材料，該公司的地址美國(guó)加利福尼亞州National City市McKinley大街2220號(hào)，郵編91950。但是，由于僅由氟代烯烴聚合物構(gòu)成的外部聚合物層一般太軟而不具有足夠的抗劃痕性，所以可固化組合物也需要包括烷基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物，如ICI Acrylics公司以商品名“ELVACITE 2041”銷售的材料，該公司的地址美國(guó)特拉華州Wilmington市Silverside Road-McKean 2nd3411號(hào)，郵編19850-5391，或者羅門哈斯公司的“ACRYLOID”(商品名)，該公司的地址美國(guó)賓夕法尼亞州費(fèi)城市Independence Mall West 100號(hào)，郵編19106-2399。
為了促進(jìn)外部聚合物層中的交聯(lián)，并借此增加該層的硬度，最好在可固化組合物中包括多官能丙烯酸單體(多官能表示具有3個(gè)或更多官能度的材料)。一種多官能丙烯酸酯單體是Sartomer公司以商品名“SR 399”銷售的，該公司的地址502 Thomas Jones Way，Exton，美國(guó)賓夕法尼亞州19341；該材料被制造商稱為五丙烯酸二季戊四醇酯。
許多聚合物在可見區(qū)具有負(fù)的色散；即，其在700nm的折射指數(shù)小于其在400nm的折射指數(shù)。計(jì)算表明，這種負(fù)的色散不利于涂層的防反射性能，因此需要盡可能多地減少這種負(fù)的色散。先前提及的KYNAR聚合物具有較低的折射指數(shù)和較小的負(fù)色散，非常適宜作為可固化組合物。
需要在外部聚合物層中使用折射指數(shù)較低的氟代烯烴聚合物以及在該層中使用丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯交聯(lián)劑來提供硬度，這表明了制備外部聚合物層時(shí)要協(xié)調(diào)這兩種性能。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如果仔細(xì)地選擇可固化組合物的配方，則在固化中會(huì)自發(fā)地產(chǎn)生材料的偏析，導(dǎo)致外部聚合物層的外殼中丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物的含量較高，這樣就增強(qiáng)了硬度，而其內(nèi)部氟代烯烴聚合物的含量較高，這樣就減小了折射指數(shù)。在固化中丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物材料產(chǎn)生這種偏析的另一個(gè)好處是可在含氧氣氛，如空氣中產(chǎn)生交聯(lián)，這樣避免了例如在薄膜紫外固化時(shí)慣常地需要氮?dú)鈱?，就降低了防反射?fù)合材料的生產(chǎn)成本。與此不同，可固化組合物也可在惰性環(huán)境，如氮?dú)鈱又泄袒?br> 可固化組合物可用任何常規(guī)方法固化，但是優(yōu)選通過自由基固化來進(jìn)行，自由基固化可以用熱引發(fā)或紫外輻射引發(fā)，而后者通常更好一些。那些熟悉聚合物技術(shù)的人員是熟悉合適的引發(fā)劑、除氧劑以及用于這種自由基固化的其它組分的。但是，應(yīng)該注意，因?yàn)榉婪瓷鋸?fù)合材料中所需的外部聚合物層相對(duì)較薄，所需引發(fā)劑的種類和比例會(huì)與一般用來制造較厚聚合物層的配方不同。
防反射復(fù)合材料先是制備基片將先前提及的TERRAPIN丙烯酸聚合物涂料溶劑施涂在一張101μm PET膜的一個(gè)表面上，使溶劑蒸發(fā)，然后將膜放在紫外燈下固化該聚合物涂層。
然后通過直接濺射(也可使用化學(xué)氣相沉積)將2.8nm的Ni層涂布在PET硬涂層表面上。
外部聚合物層用的是具有以下組成(干重百分?jǐn)?shù))的液態(tài)可固化組合物重量％±偏差聚1，1-二氟乙烯(KYNAR) 46.8±2.3甲基丙烯酸甲酯(ACRYLOID A21) 6.9±0.7五丙烯酸二季戊四醇酯(Sartomer SR 399)30.7±1.5多官能丙烯酸酯單體(Sartomer CD9051) 3.0±0.3涂布添加劑(COATOSIL 35031) 4.0±0.4附著促進(jìn)劑(SILANE A17412) 0.5-3.0±0.3固化引發(fā)劑(DARACURE 11733) 2.0±0.2固化引發(fā)劑(QUANTACURE BMS4) 4.0±0.4除氧劑(DIDMA5) 1.6±0.2將上述各種組分以20重量％分別制備成甲基乙基酮(MEK)中的儲(chǔ)液，但ACRYLOID A21和QUANTACURE BMS的儲(chǔ)液各為10重量％，DARACURE和DIDMA的儲(chǔ)液各為5重量％。然后以所需量將各種儲(chǔ)液，并添加的足夠的MEK一起混合，得到2000g含2.75固體重量％的涂料液。
1Osi Specialties公司銷售，該公司位于39 Old Ridgebury Road，Danbury，Connecticut 06810-5121。
2Osi Specialties公司銷售，該公司位于39 Old Ridgebury Road，Danbury，Connecticut 06810-5121。
3Ciba-Geigy公司銷售，該公司位于540 White Plains Road，P.O.Box 2005，Tarrytown，紐約州10591-9005。
4Great Lakes Chemical公司制造，Biddle Sawyer公司銷售，該公司位于2Penn Plaza，紐約市，紐約州10121。
5Aldrich Chemical公司銷售，該公司位于1001 West St.Paul，Milwaukee，Wisconsin 53233。
然后使用狹縫式涂布機(jī)將該涂料液涂布在已有Ni無機(jī)物層的PET膜上，蒸發(fā)去溶劑，然后將膜放在紫外燈下，制得涂層厚度近似為110nm的外部聚合物層。
參照?qǐng)D2，所得防反射制品(包括基片和防反射復(fù)合材料)具有曲線200所示的較低表面反射和曲線205所示的約為80％的透光率。從圖2可以看出，該防反射制品顯示了非常好的防反射特征，在約450nm-700nm的范圍內(nèi)只有約0.4％的反射。曲線200的適光反射率的值(根據(jù)CIE 1931測(cè)得，它得出的是在以約550nm為中心的約450nm-650nm的光譜區(qū)域的加權(quán)平均值，并且在該中心波長(zhǎng)的計(jì)權(quán)最高)約為0.345％，與圖1中曲線100(Ni)的預(yù)測(cè)值0.227相似。
本發(fā)明描述了一些實(shí)施方式。然而，應(yīng)該明白，可以在本發(fā)明的主旨和范圍內(nèi)進(jìn)行各種修改。例如，如果所公開的技術(shù)的步驟按不同的次序進(jìn)行和/或如果在所公開的體系中的組分以不同的方式組合和/或由其它組分替代或補(bǔ)充，仍能得到較好的結(jié)果。因此，其它實(shí)施方式也包含在以下的權(quán)利要求書中。
權(quán)利要求
1.一種包括防反射復(fù)合材料的制品，所述制品包括基片；沉積在基片上、厚度約為1nm-10nm的無機(jī)物層；與無機(jī)物層接觸、形成防反射復(fù)合材料外表面的聚合物層，所述聚合物層的厚度約為70nm-120nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層由金屬形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制品，其特征在于所述金屬是鎳。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制品，其特征在于所述鎳的厚度約為2nm-3.5nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制品，其特征在于所述金屬為鉻。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述聚合物層的厚度約為100nm-110nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于在波長(zhǎng)約為400nm-700nm的范圍，所述聚合物層的折射指數(shù)小于或等于約1.53。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于它還包括基片與無機(jī)物層之間的硬涂層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層吸收入射光的百分比依賴于防反射復(fù)合材料需要的總透光率。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層的厚度依賴于無機(jī)物層的色散。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述防反射復(fù)合材料的總厚度約為可見光譜中值的光波長(zhǎng)的四分之一。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其特征在于所述防反射復(fù)合材料的總厚度等于無機(jī)物層的厚度與聚合物層的厚度之和。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述制品在波長(zhǎng)約為400nm-700nm的范圍的適光反射率小于約0.5％。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其特征在于所述聚合物層通過在無機(jī)物層上原位固化可固化組合物而形成。
15.一種包括防反射復(fù)合材料的制品，所述制品主要包括基片；沉積在基片上的無機(jī)物層；與無機(jī)物層接觸、形成防反射復(fù)合材料外表面的聚合物層，所述聚合物層的厚度約為70nm-120nm。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述聚合物層通過在無機(jī)物層上原位固化可固化組合物而形成。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層由金屬形成。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制品，其特征在于所述金屬為鎳。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的制品，其特征在于所述鎳的厚度約為2nm-3.5nm。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制品，其特征在于所述金屬為鉻。
21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述聚合物層的厚度約為100nm-110nm。
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于在波長(zhǎng)約為400nm-700nm的范圍，所述聚合物層的折射指數(shù)小于或等于約1.53。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述基片上涂布了硬涂層。
24.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層吸收波長(zhǎng)約為550nm的入射光的百分比依賴于防反射復(fù)合材料需要的總透光率。
25.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述無機(jī)物層的厚度依賴于無機(jī)物層的色散。
26.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述防反射復(fù)合材料的總厚度約為可見光譜中值的光波長(zhǎng)的四分之一。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的制品，其特征在于所述防反射復(fù)合材料的總厚度等于無機(jī)物層的厚度與聚合物層的厚度之和。
28.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于所述制品在波長(zhǎng)約為400nm-700nm的范圍的適光反射率小于約0.5％。
29.一種用于在基片上形成防反射復(fù)合材料的方法，所述方法包括在基片上沉積無機(jī)防反射復(fù)合材料，生成厚度約為1nm-10nm的無機(jī)物層；在無機(jī)物層上沉積可固化組合物的層；使沉積的可固化組合物固化，形成厚度約為70nm-120nm的聚合物層。
30.一種用于在基片上形成防反射復(fù)合材料的方法，所述方法主要包括在基片上沉積無機(jī)防反射復(fù)合材料，形成無機(jī)物層；在無機(jī)物層上沉積可固化組合物的層；使沉積的可固化組合物固化，形成厚度約為70nm-120nm的聚合物層。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于所述無機(jī)物層由金屬形成。
32.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其特征在于所述金屬為鎳。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其特征在于所述鎳的厚度約為1nm-10nm。
34.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其特征在于所述金屬的厚度約為2nm-3.5nm。
35.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于在波長(zhǎng)約為400nm-700nm的范圍，所述聚合物層的折射指數(shù)小于或等于約1.53。
36.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于所述無機(jī)物層吸收在約400nm-700nm范圍中值的波長(zhǎng)的入射光，其吸收百分比依賴于防反射復(fù)合材料需要的總透光率。
37.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于所述防反射復(fù)合材料的總厚度約為可見光譜中值的光波長(zhǎng)的四分之一。
38.一種可沉積在基片上的防反射復(fù)合材料，它主要包括無機(jī)物層；通過在無機(jī)物層上原位固化可固化組合物而形成的聚合物層，所述聚合物層的厚度約為70nm-120nm。
全文摘要
一種包括防反射復(fù)合材料、基片和沉積在基片上的無機(jī)物層的制品。該無機(jī)物層的厚度約為1nm－10nm。該制品包括與所述無機(jī)物層接觸形成防反射復(fù)合材料外表面的聚合物層。該聚合物層的厚度約為70nm－120nm。
文檔編號(hào)G06F3/033GK1429346SQ01809344
公開日2003年7月9日 申請(qǐng)日期2001年5月1日 優(yōu)先權(quán)日2000年5月15日
發(fā)明者崔瀅鐵, E·P·林德霍爾姆, W·K·史密斯, P·納加卡 申請(qǐng)人:3M創(chuàng)新有限公司