專利名稱：光掩模微塵清除器及光掩模微塵清除程序的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻制作工藝(lithography process)所應(yīng)用的設(shè)備，特別是涉及一種光掩模微塵清除器及應(yīng)用其的光掩模微塵清除程序。
背景技術(shù)：
在光刻制作工藝中，影響圖案優(yōu)劣的關(guān)鍵因素之一即是曝光用光掩模(reticle)的品質(zhì)，其所需注意的事項包括改善光掩模的制作過程、防止光掩模圖案被破壞，以及防止微塵附著在光掩模上等等。
為保護光掩模上的圖案，一般會在光掩模形成圖案的一面上多加一層保護膜(pellicle)。另外，為避免微塵對曝光造成干擾，在光掩模進入曝光機的光掩模承載臺時，大多會使用光掩模微塵檢測器(pellicle particle detector，PPD)檢測光掩模上是否有微塵。如檢測到微塵，操作員即會退下光掩模，并以手持式噴氣槍吹除光掩模上的微塵，然后再將光掩模送入PPD檢查是否有微塵殘留。此種方式不但浪費時間，又增加操作員的負擔，而光掩模也可能因人為操作疏忽而受損。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明目的之一為提出一種光掩模微塵清除器，其可節(jié)省清除微塵的時間，減輕操作員的負擔，并防止光掩模因人為操作疏忽而受損。
本發(fā)明的另一目的在于提出一種光掩模微塵清除程序，其應(yīng)用本發(fā)明的光掩模微塵清除器來達成。
本發(fā)明的光掩模微塵清除器是置于一光掩模微塵檢測器(PPD)的前方，其至少包括一噴氣構(gòu)件及一支撐構(gòu)件。此噴氣構(gòu)件可朝光掩模的表面噴氣以清除微塵，且支撐構(gòu)件是用以將噴氣構(gòu)件支撐在光掩模微塵檢測器的前方。此光掩模微塵清除器更可通過支撐構(gòu)件而固定在PDD上。
本發(fā)明的光掩模微塵清除程序是使用PPD及置于其前方的上述光掩模微塵清除器來進行，步驟如下(a).令光掩模經(jīng)過微塵清除器的噴氣構(gòu)件而送入PPD中，以檢測光掩模上是否有微塵；(b).檢測后將光掩模退出微塵檢測器；(c).如光掩模上有微塵，即啟動光掩模微塵清除器，并回到上述步驟(a)以重復進行微塵清除程序；如光掩模上無微塵，即表示此光掩模微塵清除程序已完成，而可繼續(xù)進行后續(xù)制作工藝。
如上所述，由于本發(fā)明的光掩模微塵清除程序是利用置于PPD前的光掩模微塵清除器，所以將光掩模送入PPD時即可順便清除光掩模上的微塵。因此，如利用本發(fā)明的光掩模微塵清除器及光掩模微塵清除程序，操作員即不必退下光掩模并以人工清除光掩模上的微塵，而可以節(jié)省清除微塵的時間，減輕操作員的負擔，并防止光掩模因人為操作疏忽而受損。


圖1a、圖1b及圖1c分別為本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除器的前視圖、側(cè)視圖及上視圖，此光掩模微塵清除器安裝在一光掩模微塵檢測器(PPD)上；圖1d為圖1a中噴氣構(gòu)件的局部放大圖，且圖1e繪示該部分的噴氣構(gòu)件的上視圖；圖2a、圖2b分別為噴氣構(gòu)件上的多向噴氣頭的一實例的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖與上視圖；圖3為以本發(fā)明的光掩模微塵清除器的兩個噴氣構(gòu)件清除光掩模上微塵的示意圖；圖4為本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除程序中光掩模的移動方向；圖5為本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除程序的流程。
具體實施例方式
請參照圖1，其中圖1a、圖2b及圖3c分別繪出本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除器的前視圖、側(cè)視圖及上視圖。如圖1a～圖1c所示，光掩模微塵清除器100安裝于光掩模微塵檢測器(PPD)10的前方，包括兩個噴氣構(gòu)件110及支撐構(gòu)件120。兩個噴氣構(gòu)件110之間的空間可容一光掩模通過，且正對PPD 10的光掩模入口12，而光掩模的進入方向如箭號14所示。每一個噴氣構(gòu)件110的兩側(cè)分別固定在兩個板狀的支撐構(gòu)件120上，且光掩模微塵清除器100可藉由支撐構(gòu)件120固定在PPD 10上，其固定方式例如是使用螺釘140。另外，下方的噴氣構(gòu)件110再以小塊的支撐構(gòu)件120支撐在PPD10上。
請參照圖1d～圖1e，其分別為上述噴氣構(gòu)件110的局部放大圖及該部分的上視圖。如圖1d～圖1e所示，噴氣構(gòu)件110上有許多多向噴氣頭145，其中每一個多向噴氣頭145例如具有四個噴氣方向各不相同的噴氣孔150，以加強吹除微塵的效果，且頂端可呈突出圓弧狀。噴氣構(gòu)件110上并有供氣入口130，其與各噴氣孔150連通。
請參照圖2a～圖2b，其分別繪出噴氣構(gòu)件100上的多向噴氣頭145的一實例的細部結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖及上視圖。如圖2a～圖2b所示，例示的多向噴氣頭145是由噴氣構(gòu)件的主體112與插塞152所構(gòu)成。噴氣構(gòu)件主體112上有供氣入口130及與其連通的許多孔穴114，其中任一孔穴114是對應(yīng)一多向噴氣頭145，且其上半部具有傾斜的側(cè)壁。同時，任一插塞152位于一孔穴114中，且由倒圓錐狀的頭部154與其下的柱狀部分156所構(gòu)成，而與孔穴114的形狀相吻合。插塞152的周圍有數(shù)條縱向凹槽158，例如是四條縱向凹槽158，以在其本身與噴氣構(gòu)件主體112之間，形成與供氣入口130連通的多條供氣管道以及噴氣方向各不相同的噴氣孔150。另外，供氣入口130與氣體源(未繪示)之間的氣體管路上也可加裝微塵過濾器170，以濾除清潔用氣體之中的微塵。
通過上述的設(shè)計，即可容易地制作出特定噴氣孔數(shù)與特定噴氣方向的多向噴氣頭。再者，某些情形下為避免多向的噴氣在光掩模表面產(chǎn)生亂流，而影響微塵清除的效果，多向噴氣頭的各供氣管道上也可加裝微控制閥，使各多向噴氣頭可以僅朝單一方向噴出氣體。
請參照圖3，其繪示以光掩模微塵清除器的兩個噴氣構(gòu)件清除光掩模上的微塵的情形。如圖3所示，在以光掩模微塵清除器清除光掩模300上的微塵時，使光掩模300上的保護膜310朝向下方，此即表示光掩模300是以保護膜310朝下的狀態(tài)送入光掩模微塵檢測器10中，請對比圖1a。由于光掩模微塵清除器具有上下兩個噴氣構(gòu)件110，所以可以同時清潔光掩模300的玻璃部分與光掩模300上的保護膜310的表面。
請參照圖4，其繪示本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除程序中光掩模的移動方向；請同時參照圖5，其顯示該光掩模微塵清除程序的流程。如圖4所示，光掩模300固持在機械臂20上，此機械臂20會沿箭號40所示的方向前后移動光掩模300，以將其送入或退出光掩模微塵檢測器10。
如圖5所示，本發(fā)明較佳實施例的光掩模微塵清除程序是在前置作業(yè)500后進行步驟510，將光掩模通過光掩模微塵清除器的二噴氣構(gòu)件之間送入PPD中，以檢測光掩模上是否有微塵。接著進行步驟520，在檢測后將光掩模退出微塵檢測器，此時光掩模將暫停在機械臂20上，以等待下一步動作。然后進行判斷步驟530，如由光掩模微塵檢測器得知光掩模上有微塵，即進行步驟540，啟動光掩模微塵清除器，并由步驟510重新開始，此時光掩模微塵清除器的兩個噴氣構(gòu)件即可清除通過其間的光掩模上的微塵。如由光掩模微塵檢測器得知光掩模上無微塵，即表示該光掩模微塵清除程序已完成，而可將光掩模送入曝光機中(步驟550)。
如上所述，由于本發(fā)明的光掩模微塵清除程序利用置于PPD前的光掩模微塵清除器，所以將光掩模送入PPD時即可順便清除光掩模上的微塵。因此，本發(fā)明的光掩模微塵清除器及光掩模微塵清除程序可節(jié)省清除微塵的時間，減輕操作員的負擔，并防止光掩模因人為操作疏忽而受損。
另外，雖然上述實施例的光掩模微塵清除器具有兩個噴氣構(gòu)件，但本發(fā)明的光掩模微塵清除器的結(jié)構(gòu)并不限于此，而可僅具有一個噴氣構(gòu)件，或是具有兩個以上的噴氣構(gòu)件，以因應(yīng)實際上的需求。舉例來說，當本發(fā)明的光掩模微塵清除器采用單一噴氣構(gòu)件的設(shè)計時，該噴氣構(gòu)件可制作成兩端開口的扁平管狀，其中可容一光掩模通過，且其朝向光掩模的上下表面的兩內(nèi)面上設(shè)有多個噴氣孔，用以朝光掩模噴氣而清除其上的微塵。
雖然結(jié)合以上較佳實施例揭露了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以權(quán)利要求所界定的為準。
權(quán)利要求
1.一種光掩模微塵清除器，置于一光掩模微塵檢測器的前方，至少包括至少一噴氣構(gòu)件，其可朝一光掩模的表面噴氣以清除微塵；以及一支撐構(gòu)件，用以將該噴氣構(gòu)件支撐在該光掩模微塵檢測器的前方。
2.如權(quán)利要求1所述的光掩模微塵清除器，其中該噴氣構(gòu)件包括多個多向噴氣頭，且每一該各多向噴氣頭具有噴氣方向各不相同的多個噴氣孔。
3.如權(quán)利要求2所述的光掩模微塵清除器，其中該噴氣構(gòu)件包括一主體，具有一供氣入口及與其連通的多個孔穴，其中該各孔穴與該各多向噴氣頭相對應(yīng)，且具有傾斜的側(cè)壁；多個插塞，其嵌于該各孔穴中，且周圍有多個縱向凹槽，以在該各插塞與該主體之間，形成與該供氣入口連通的多個供氣管道及對應(yīng)的該各噴氣孔。
4.如權(quán)利要求3所述的光掩模微塵清除器，其中該各插塞的頂端呈突出圓弧狀。
5.如權(quán)利要求2所述的光掩模微塵清除器，其中每一該各多向噴氣頭具有噴氣方向各不相同的四個噴氣孔。
6.如權(quán)利要求1所述的光掩模微塵清除器，其通過該支撐構(gòu)件固定在該光掩模微塵檢測器上。
7.如權(quán)利要求1所述的光掩模微塵清除器，其中該噴氣構(gòu)件與一微塵過濾器相連。
8.一種光掩模微塵清除器，其置于一光掩模微塵檢測器的前方，且至少包括二噴氣構(gòu)件，其間可容一光掩模通過，并可分別朝該光掩模的上下兩面噴氣以清除微塵；以及一支撐構(gòu)件，用以將該二噴氣構(gòu)件支撐在該光掩模微塵檢測器的前方。
9.如權(quán)利要求8所述的光掩模微塵清除器，其中每一該各噴氣構(gòu)件包括多個多向噴氣頭，且每一該各多向噴氣頭具有噴氣方向各不相同的多個噴氣孔。
10.如權(quán)利要求9所述的光掩模微塵清除器，其中每一該各噴氣構(gòu)件包括一主體，具有一供氣入口及與其連通的多個孔穴，其中該各孔穴與該各多向噴氣頭相對應(yīng)，且具有傾斜的側(cè)壁；多個插塞，其嵌于該各孔穴中，且周圍有多個縱向凹槽，以在該各插塞與該主體之間，形成與該供氣入口連通的多個供氣管道及對應(yīng)的該各噴氣孔。
11.如權(quán)利要求10所述的光掩模微塵清除器，其中該各插塞的頂端呈突出圓弧狀。
12.如權(quán)利要求9所述的光掩模微塵清除器，其中每一該各多向噴氣頭具有噴氣方向不同的四個噴氣孔。
13.如權(quán)利要求8所述的光掩模微塵清除器，其中該二噴氣構(gòu)件與一微塵過濾器相連。
14.如權(quán)利要求8所述的光掩模微塵清除器，其中該光掩模微塵清除器是通過該支撐構(gòu)件固定在該光掩模微塵檢測器上。
15.一種光掩模微塵清除程序，使用一光掩模微塵檢測器及置于其前方的一光掩模微塵清除器來進行，其中該光掩模微塵清除器包括至少一噴氣構(gòu)件，該噴氣構(gòu)件可朝一光掩模表面噴氣以清除微塵，該程序包括(a).令該光掩模經(jīng)過該噴氣構(gòu)件而送入該光掩模微塵檢測器中，以檢測該光掩模上是否有微塵；(b).檢測后將該光掩模退出該微塵檢測器；(c).如該光掩模上有微塵，即啟動該光掩模微塵清除器，并由上述步驟(a)重新開始程序；如該光掩模上無微塵，即結(jié)束該光掩模微塵清除程序。
16.如權(quán)利要求15所述的光掩模微塵清除程序，其中該光掩模微塵清除器包括二噴氣構(gòu)件，且該二噴氣構(gòu)件之間可容該光掩模通過，而在步驟(a)中，該光掩模經(jīng)由該二噴氣構(gòu)件之間而送入該光掩模微塵檢測器中。
17.如權(quán)利要求15所述的光掩模微塵清除程序，其中在將該光掩模送入該光掩模微塵檢測器中時，該光掩模上的一保護膜朝向下方。
18.如權(quán)利要求15所述的光掩模微塵清除程序，其中使用一機械臂移動該光掩模。
全文摘要
一種光掩模微塵清除器及應(yīng)用其的光掩模微塵清除程序。此光掩模微塵清除器置于一光掩模微塵檢測器前方，且至少包括一噴氣構(gòu)件與一支撐構(gòu)件，其中噴氣構(gòu)件可朝光掩模的表面噴氣以清除微塵，且支撐構(gòu)件用以支撐此噴氣構(gòu)件。另光掩模微塵清除程序在光掩模上檢測到微塵后，啟動置于光掩模微塵檢測器前的光掩模微塵清除器，再令光掩模經(jīng)過微塵清除器的噴氣構(gòu)件而送入光掩模微塵檢測器中，以在檢測前清除微塵。
文檔編號G06F17/00GK1673869SQ200410031738
公開日2005年9月28日 申請日期2004年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月24日
發(fā)明者林柏青, 楊育正 申請人:力晶半導體股份有限公司