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      微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法

      文檔序號:6581836閱讀:434來源:國知局
      專利名稱:微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種專利分析系統(tǒng)和方法,尤其涉及一種對專利按申請區(qū)域進(jìn)行技術(shù) 空白點(diǎn)分析的系統(tǒng)和方法。
      背景技術(shù)
      伴隨科技的迅猛發(fā)展,專利已經(jīng)成為技術(shù)推廣和知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)的重要手段之一。 技術(shù)日新月異,專利也是以驚人的速度增長,企業(yè)如果不能及時(shí)掌握專利中所反應(yīng)出來的 技術(shù)信息,就可能無法獲知最先進(jìn)的技術(shù),從而落后于時(shí)代,或者把已有成果作為企業(yè)的研 發(fā)目標(biāo)從而導(dǎo)致人力、物力、財(cái)力的浪費(fèi),在競爭中處于不利之地,因此對數(shù)目龐大的專利 進(jìn)行分析就成為企業(yè)必須面對的一個(gè)課題。地域性是專利的特性之一,即專利如要在某區(qū)域得到保護(hù),必須取得該區(qū)域的專 利權(quán),所以地域就成為了對專利進(jìn)行分析時(shí)非常重要的一個(gè)參數(shù)。公開號為CN101276350 的中國專利公開了一種按照所設(shè)模式對專利文件進(jìn)行分類分析,并以圖表的形式反映分析 結(jié)果的系統(tǒng)和方法,利用該發(fā)明可以得到某一模式下的專利數(shù),但是在表現(xiàn)專利的技術(shù)特 征和功能效果方面卻有不足。而技術(shù)手段和功能效果是反應(yīng)專利內(nèi)容的兩個(gè)非常重要的類 別。對特定區(qū)域的專利按照技術(shù)手段和功能效果進(jìn)行逐一分析勢必效率低、工作量大,無法 滿足實(shí)際需要,所以高效地對專利按申請區(qū)域進(jìn)行技術(shù)手段和功能效果的分析,找出技術(shù) 空白點(diǎn)就成為相關(guān)領(lǐng)域急待解決的問題之一。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是提供一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法,以 矩形表格的形式直觀地顯示在特定申請區(qū)域內(nèi),專利按技術(shù)手段和功能效果的分布情況, 便于使用者對專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)進(jìn)行分析。為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案首先,本發(fā)明提供一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),該系統(tǒng)包括一 數(shù)據(jù)庫,用于存儲(chǔ)所建專利專題,一應(yīng)用模塊,該應(yīng)用模塊又包括專利數(shù)據(jù)采集模塊,根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲(chǔ)在專利數(shù)據(jù)庫中的相關(guān)專 題;專利數(shù)據(jù)加工模塊,對導(dǎo)入的數(shù)據(jù)進(jìn)行加工,刪除不相關(guān)專利;專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊,將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果進(jìn)行標(biāo)引;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊,計(jì)算特定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù) 手段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊,輸出一矩形表格,該矩形表格一軸為 專利達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手 段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利的數(shù)量成比例。數(shù)據(jù)庫與應(yīng)用模塊可以安裝于同一服務(wù)器,也可以安裝在不同的服務(wù)器,通過網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行通訊。優(yōu)選地,所述專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利 權(quán)利要求。優(yōu)選地,應(yīng)用模塊提供用戶可操作的工作界面。優(yōu)選地,所述專利數(shù)據(jù)加工模塊通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù) 進(jìn)行加工。優(yōu)選地,所述專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊是將加工后的專利數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩 個(gè)方面進(jìn)行人工或自動(dòng)標(biāo)引。優(yōu)選地,所述微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊包含微觀區(qū)域申請人技術(shù) 空白點(diǎn)相關(guān)專利信息的數(shù)據(jù)導(dǎo)出單元,用于導(dǎo)出矩形表格中的交叉點(diǎn)所對應(yīng)的專利。進(jìn)一步,本發(fā)明還提供了一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法,該方法 包括以下步驟1)建立專利數(shù)據(jù)庫,用于存貯所建立的專利專題;2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題;3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工,刪除不相關(guān)的專利;4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo) 引;5)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算選定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及特定的技 術(shù)手段與功能效果的專利的數(shù)量;6)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊輸出一矩形表格,該矩形表格一軸為 專利達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手 段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例,圖形面積為 零的點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。本發(fā)明的有益效果在于本發(fā)明以矩形表格的形式直觀地顯示出特定申請區(qū)域 內(nèi),同時(shí)涉及對應(yīng)技術(shù)手段和功能效果的專利的數(shù)量,使用者對技術(shù)熱點(diǎn)和空白點(diǎn)一目了 然,便于使用者高效快遞地對專利數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,掌握專利信息。


      圖1為本發(fā)明所涉及的系統(tǒng)的框架圖。圖2為本發(fā)明所涉及的方法的流程圖。圖3為本發(fā)明所涉及的專利數(shù)據(jù)采集模塊的構(gòu)成示意圖。
      具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。實(shí)施例一圖1是本發(fā)明所涉及的系統(tǒng)的框架圖。本發(fā)明所提供的專利微觀區(qū)域申請人技 術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)包括一數(shù)據(jù)庫,用于存儲(chǔ)所建專利專題,專題的建立方法可以是在各國 知識產(chǎn)權(quán)部門提供的數(shù)據(jù)庫中進(jìn)行檢索形成專題,也可以是先把相關(guān)專利下載至本地?cái)?shù)據(jù) 庫,然后進(jìn)一步檢索建立專題。專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求。該系統(tǒng)還包括一應(yīng)用模塊,該應(yīng)用模塊又包括專利數(shù)據(jù)采集模塊,用于根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲(chǔ)在專利數(shù)據(jù)庫中的相 關(guān)專題,采集的數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求;專利數(shù)據(jù)加工模塊,用于通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行深 加工,刪除不相關(guān)專利;專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊,用于將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果進(jìn)行人工或自動(dòng) 標(biāo)引,在此,使用者可以根據(jù)分析需要設(shè)定標(biāo)引的層次,比如技術(shù)手段分為技術(shù)手段A、技術(shù) 手段B、……技術(shù)手段G……,對技術(shù)手段A可以根據(jù)需要進(jìn)一步分為技術(shù)手段1、技術(shù)手段 2……技術(shù)手段6……,依此類推,標(biāo)引對本領(lǐng)域的技術(shù)人員是一項(xiàng)很熟悉的工作;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊,用于統(tǒng)計(jì)特定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及相應(yīng) 技術(shù)手段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,在該模塊,用戶通過微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn) 計(jì)算模塊操作界面選擇待分析的申請區(qū)域,然后選擇計(jì)算所考慮的技術(shù)手段分類項(xiàng)目及功 能效果分類項(xiàng)目并設(shè)置計(jì)算命令,申請人技術(shù)空白列表計(jì)算模塊執(zhí)行單元執(zhí)行所設(shè)置的計(jì) 算命令。在此,用戶可以選擇技術(shù)手段和功能效果下所有分類項(xiàng)目,也可以只選擇一個(gè)分 類項(xiàng)目;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊,用于輸出一矩形表格,該矩形表格一 軸為專利達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技 術(shù)手段和相應(yīng)功能效果的專利數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利的數(shù)量成比例。數(shù)據(jù)庫與應(yīng)用模塊可以安裝于同一服務(wù)器,也可以安裝在不同的服務(wù)器,通過網(wǎng) 絡(luò)進(jìn)行通訊。進(jìn)一步,本發(fā)明還提供了一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法,如圖2 所示,該方法包括以下步驟(1)建立專利數(shù)據(jù)庫,用于存貯所建立的專利專題;(2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題;(3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工,刪除不相關(guān)的專利;(4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo) 引;(5)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算選定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及特定的 技術(shù)手段與功能效果的專利的數(shù)量;(6)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊輸出一矩形表格,該矩形表格一軸 為專利達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù) 手段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例,圖形面積 為零的點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。實(shí)施例二本實(shí)施例是對實(shí)施例一的進(jìn)一步補(bǔ)充。如圖3所示是本發(fā)明中所述的申請人技術(shù) 空白列表計(jì)算模塊的構(gòu)成示意圖。該模塊主要包括申請人技術(shù)空白列表計(jì)算模塊執(zhí)行單元 和申請人技術(shù)空白列表計(jì)算模塊操作界面。用戶通過申請人技術(shù)空白列表計(jì)算模塊操作界 面設(shè)置計(jì)算命令,申請人技術(shù)空白列表計(jì)算模塊執(zhí)行單元執(zhí)行所設(shè)置的命令。
      應(yīng)用模塊其它模塊,比如專利數(shù)據(jù)采集模塊、專利數(shù)據(jù)加工模塊、專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模 塊、微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊,有類似的結(jié)構(gòu)。通過本發(fā)明,可以以矩形表格的形式直觀地顯示出特定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及對 應(yīng)技術(shù)手段和功能效果的專利的數(shù)量,使用者對技術(shù)熱點(diǎn)和空白點(diǎn)一目了然,便于使用者 高效快速地對專利數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,掌握專利信息。這里本發(fā)明的描述和應(yīng)用是說明性的,并非想將本發(fā)明的范圍限制在上述實(shí)施例 中。這里所披露的實(shí)施例的變形和改變是可能的,對于那些本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說實(shí) 施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該清楚的是,在不脫離本發(fā)明 的精神或本質(zhì)特征的情況下,本發(fā)明可以以其它形式、結(jié)構(gòu)、布置、比例,以及用其它組件、 部件來實(shí)現(xiàn)。在不脫離本發(fā)明范圍和精神的情況下,可以對這里所披露的實(shí)施例進(jìn)行其它 變形和改變。
      權(quán)利要求
      1.一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),該系統(tǒng)包括用于存儲(chǔ)所建專利專題 的數(shù)據(jù)庫和應(yīng)用模塊,其特征在于應(yīng)用模塊包括專利數(shù)據(jù)采集模塊,根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲(chǔ)在專利數(shù)據(jù)庫中的相關(guān)專題;專利數(shù)據(jù)加工模塊,對導(dǎo)入的數(shù)據(jù)進(jìn)行深加工,刪除不相關(guān)專利;專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊,將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果進(jìn)行標(biāo)引;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊,計(jì)算特定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段 和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量;微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊,輸出一矩形表格,該矩形表格一軸為專利 達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和 相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),其特征在于所 述專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),其特征在于應(yīng) 用模塊提供用戶可操作的工作界面。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),其特征在于所 述專利數(shù)據(jù)加工模塊通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工,刪除不相 關(guān)專利。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),其特征在于所 述專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊是將加工后的專利數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)方面進(jìn)行人工或 自動(dòng)標(biāo)引。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng),其特征在于所 述微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊包含微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)相關(guān)專利信 息的數(shù)據(jù)導(dǎo)出單元,導(dǎo)出矩形表格中的交叉點(diǎn)所對應(yīng)的專利。
      7.一種專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法,其特征在于包含以下步驟1)建立專利數(shù)據(jù)庫,用于存貯所建立的專利專題;2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題;3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工,刪除不相關(guān)的專利;4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo)引;5)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算選定申請區(qū)域內(nèi),同時(shí)涉及特定的技術(shù)手 段與功能效果的專利的數(shù)量;6)微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)圖像輸出模塊輸出一矩形表格,該矩形表格一軸為專利 達(dá)到的功能效果,另一軸為專利所采用的技術(shù)手段,交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和 相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量,所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例,圖形面積為零的 點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。
      全文摘要
      本發(fā)明揭示了一種微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法。本發(fā)明以矩形表格的形式直觀地顯示在特定微觀區(qū)域申請的專利按技術(shù)手段和功能效果的分布情況,矩形表格的一軸表示功能效果,另一軸表示技術(shù)手段,表格內(nèi)交叉點(diǎn)上表示同時(shí)涉及對應(yīng)技術(shù)手段和功能效果的專利的數(shù)量,交叉點(diǎn)圖形的面積與對應(yīng)專利的數(shù)目成正比,面積為零的點(diǎn)即代表本微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)。本發(fā)明便于使用者對專利微觀區(qū)域申請人技術(shù)空白點(diǎn)進(jìn)行分析,有效地提高了專利分析的速度和效率,便于企業(yè)快速掌握特定區(qū)域內(nèi)專利按技術(shù)手段和功能效果的分布情況,制定本企業(yè)的專利發(fā)展規(guī)劃。
      文檔編號G06F17/30GK101996224SQ20091019468
      公開日2011年3月30日 申請日期2009年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月27日
      發(fā)明者唐向東, 魏國柱 申請人:上海漢光知識產(chǎn)權(quán)數(shù)據(jù)科技有限公司
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