專(zhuān)利名稱(chēng):觸控面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種觸控面板,具有良好的外觀(guān)及光學(xué)性能。
背景技術(shù):
近年來(lái),隨著觸控技術(shù)的不斷發(fā)展,觸控面板已廣泛應(yīng)用于諸如手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、游戲機(jī)輸入接口、電腦觸控屏等各種電子產(chǎn)品中。在實(shí)際應(yīng)用中,觸控面板通常與液晶顯示器相結(jié)合形成觸控屏,安裝于各式電子產(chǎn)品上,使用者通過(guò)觸控屏輸入數(shù)據(jù)和指令,取代了諸如鍵盤(pán)、鼠標(biāo)等傳統(tǒng)輸入裝置,給使用者帶來(lái)極大方便。一般而言,觸控面板的透明導(dǎo)電玻璃主要由透明基板和透明導(dǎo)電層所構(gòu)成,在原本不導(dǎo)電的透明基板上,鍍上一層可導(dǎo)電的透明導(dǎo)電材料,通常采用透明金屬氧化物,如氧化銦錫(Indium Tin Oxide,簡(jiǎn)稱(chēng)IT0)等,并經(jīng)蝕刻形成具有一定的電極圖案的透明導(dǎo)電層,如形成以單向電極間隔分布或雙向電極交錯(cuò)分布等形式的電極圖案。其中,電極圖案包括ITO區(qū)域(即電極區(qū)域)和蝕刻區(qū)域,蝕刻區(qū)域上無(wú)導(dǎo)電薄膜 ΙΤ0,光線(xiàn)可直接射至透明基板上。由于兩個(gè)區(qū)域?qū)饩€(xiàn)的折射率互不相同,使用者能觀(guān)察到ITO區(qū)域和蝕刻區(qū)域交接的蝕刻線(xiàn),顯示畫(huà)面經(jīng)常有斷層、影像模糊化、顯示顆?;蛘叻直媛式档偷惹樾伟l(fā)生,使畫(huà)面質(zhì)量不佳。在使用時(shí),觸控面板的透明導(dǎo)電玻璃還需與面板玻璃相貼合,便于使用者觸摸,通常采用光學(xué)膠(OCA)來(lái)貼合。盡管通過(guò)貼合光學(xué)膠(OCA) 可以使得畫(huà)面不佳得到一定程度的改善,但還是不能很好地改善蝕刻線(xiàn)可見(jiàn)的問(wèn)題。公開(kāi)號(hào)為“CN101078820A”的發(fā)明專(zhuān)利,名稱(chēng)為“一種令透明基板上透明電極不可見(jiàn)的處理方法”,其公開(kāi)了一種遮蓋電容式觸控面板上蝕刻線(xiàn)的方法,如圖1所示,是通過(guò)選用折射率與透明導(dǎo)電材料(ITO)相近的透明氧化物,如氧化銻(Sb203)、氧化鈦(TiO2)等, 采用噴涂或?yàn)R射等涂布方式在所述導(dǎo)電層上涂布一折射率匹配層31。然而,由于采用高折射率材料覆設(shè)折射率匹配層31,其厚度不能太大,否則穿透率會(huì)相應(yīng)地變低,透明導(dǎo)電層的霧度值(Haze)會(huì)變大。因而,折射率匹配層31上需要再覆設(shè)一保護(hù)層,通常以二氧化硅 (SiO2)或有機(jī)聚合物制成。且該折射率匹配層經(jīng)高溫烘烤后,存在附著力差、硬度低的特點(diǎn)。另外,該方法還需要采用OCA等光學(xué)膠與面板玻璃貼合后才可以體現(xiàn)蝕刻線(xiàn)不可見(jiàn)的效果,增加了制程,使得觸控面板的制造變得更加復(fù)雜,同時(shí)增加了成本。
實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此,本實(shí)用新型的目的在于提供一種觸控面板,其上透明電極的蝕刻線(xiàn)不可見(jiàn),具有良好的光學(xué)特性,避免出現(xiàn)斷層和影像模糊,同時(shí)減低生產(chǎn)成本。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是一種觸控面板,包括電極層和保護(hù)層,所述保護(hù)層覆蓋于所述電極層上,所述電極層上包括多個(gè)間隔設(shè)置的透明電極,所述保護(hù)層中包括有折射率大于1. 8的透明金屬氧化物,使該保護(hù)層的折射率與所述透明電極的折射率相匹配以達(dá)到面板均勻可視。[0009]其中,所述透明金屬氧化物是二氧化鈦或者二氧化鋯。所述保護(hù)層的折射率是1. 6-2. 0,其厚度為0. 5-3 μ m。本實(shí)用新型所提供的觸控面板,是直接利用高折射率的保護(hù)層材料覆設(shè)于透明電極上,縮小蝕刻區(qū)域與透明電極區(qū)域?qū)饩€(xiàn)折射率的差異,從而有效避免因折射率不同而導(dǎo)致的畫(huà)面質(zhì)量不佳等問(wèn)題,使得觸控面板具有良好的外觀(guān)品質(zhì)。
圖1是現(xiàn)有觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本發(fā)明觸控面板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是本發(fā)明在覆設(shè)保護(hù)層前后測(cè)得的觸控面板表面的反射率曲線(xiàn)圖;圖4是本發(fā)明觸控面板制造方法的過(guò)程流程圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。如圖2所示,一種觸控面板10包括透明基板1、透明電極層2和保護(hù)層4,所述透明電極層2采用如氧化銦錫(ITO)等透明導(dǎo)電材料制成,該透明電極層2包括多個(gè)透明電極21間隔地布設(shè)于透明基板1上形成電極圖案,該電極圖案可分為蝕刻區(qū)域22和透明電極21所在的ITO區(qū)域,所述蝕刻區(qū)域22上無(wú)透明導(dǎo)電材料ΙΤ0。保護(hù)層4覆蓋透明電極層 2,保護(hù)層4的材料填充于蝕刻區(qū)域22內(nèi)。所述保護(hù)層4即可通過(guò)OCA等光學(xué)膠5與一面板玻璃6相貼合,形成觸控面板10結(jié)構(gòu)。該保護(hù)層4的材料中添加有折射率大于1. 8的透明金屬氧化物,用以提高保護(hù)層4 的折射率,使得該保護(hù)層與所述透明電極21所在的ITO區(qū)域的折射率相匹配。其中,所述保護(hù)層是聚硅氧烷層,所述保護(hù)層4的材料主要為聚硅氧烷,在該材料中添加高折射率的二氧化鈦,使得該保護(hù)層4的折射率為1. 6-2. 0。所述二氧化鈦占保護(hù)層材料的百分比(覆設(shè)前,按其重量百分比)為_(kāi)20%,并在保護(hù)層材料中添加1-10% (按其重量百分比) 的二氧化硅,使得所述二氧化鈦均勻分散于所述保護(hù)層材料中。從原理上說(shuō),透明電極的蝕刻線(xiàn)可見(jiàn)的問(wèn)題是由于透明電極21 (ΙΤ0區(qū)域)的折射率與周邊區(qū)域(蝕刻區(qū)域22)的折射率相差較大而引起。所述透明基板1可以采用玻璃、 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)或聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET) 等透明材料制成,其折射率介于1. 4-1. 5間,而ITO區(qū)域上ITO的折射率則介于1. 8-2. 2之間,因折射率的差異而表現(xiàn)出對(duì)光線(xiàn)反射的不同,導(dǎo)致ITO區(qū)域與蝕刻區(qū)域22的反射率曲線(xiàn)差異明顯,人眼容易辨識(shí)。本發(fā)明則是在蝕刻區(qū)域22填充保護(hù)層材料,該保護(hù)層材料中包括有高折射率的氧化物材料,使得蝕刻區(qū)域22與ITO區(qū)域的光學(xué)反射率趨近相同,減少 ITO區(qū)域與蝕刻區(qū)域22的反射率曲線(xiàn)差異,從而使得透明電極圖案不可見(jiàn)。在保護(hù)層4的材料中添加高折射率的二氧化鈦(折射率為2. 3-2.75)之間可提高所述保護(hù)層的折射率, 進(jìn)而減小與透明電極之間對(duì)光線(xiàn)折射率和反射率的差異,使人眼不能察覺(jué)。圖3為本發(fā)明在覆設(shè)保護(hù)層前后,測(cè)得的觸控面板表面的反射率曲線(xiàn)圖。其中,曲線(xiàn)1是透明基板1的反射率曲線(xiàn),曲線(xiàn)2是將ITO覆設(shè)于透明基板1后的反射率曲線(xiàn),曲線(xiàn)3是將有高折射率氧化物的保護(hù)層材料覆設(shè)于圖案化的透明導(dǎo)電層2后的反射率曲線(xiàn),曲線(xiàn)4是將有高折射率氧CN 202110510 U
說(shuō)明書(shū)
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化物的保護(hù)層材料直接敷設(shè)于透明基板1后的反射率曲線(xiàn)。與曲線(xiàn)2與曲線(xiàn)1之間的差異相比,曲線(xiàn)3與曲線(xiàn)4之間的差異明顯縮小了,由此可以看出,在增加具有折射率匹配效果的保護(hù)層后,其表面反射率的差距可以明顯縮小,使人眼不能察覺(jué),從而改善觸控面板的外觀(guān)品質(zhì)。另外,所述保護(hù)層4的厚度為0. 5-3 μ m,優(yōu)選為1. 1-3 μ m。其中,透明導(dǎo)電層2中的ITO厚度通常為20-30nm。圖4中所示的曲線(xiàn)3為保護(hù)層4厚度為1. 5-2 μ m左右時(shí)的反射率曲線(xiàn)圖。該保護(hù)層4具有鈍化作用,用以阻隔所述透明電極層與外界接觸,防止其被氧化或刮傷等引起不良。圖4所示為一種觸控面板制造方法,包括以下步驟S10,先在一透明基板1上布設(shè)多個(gè)透明電極21 ;S20,再將保護(hù)層材料覆設(shè)于所述透明基板1和透明電極21上,所述的保護(hù)層材料中添加有折射率大于1.8的透明金屬氧化物,使得保護(hù)層4對(duì)光線(xiàn)的折射率趨近于透明電極21的折射率,進(jìn)而達(dá)到相匹配的效果;S30,進(jìn)行高溫?zé)崽幚?,采?00°C以上高溫烘烤30-60分鐘后,于透明電極21上形成具有高折射率材料的保護(hù)層4。依上述觸控面板制造方法可制成透明電極蝕刻線(xiàn)不可見(jiàn)的觸控面板。在覆設(shè)保護(hù)層材料之前,先將折射率大于1. 8的透明金屬氧化物粒子添加至保護(hù)層材料中,所述保護(hù)層材料主要以聚硅氧烷制成,包括以下步驟S201,將二氧化鈦(透明金屬氧化物粒子)添加至保護(hù)層材料中;S202,再添加二氧化硅(助溶劑)使透明金屬氧化物粒子均勻地分散在保護(hù)層材料中;S203,形成具有高折射率材料的保護(hù)層材料,其折射率為1.6-2.0。其中,保護(hù)層材料中添加的二氧化硅以及一些分散劑等溶劑,可有助于二氧化鈦的溶解和分散,使二氧化鈦均勻分散于保護(hù)層材料中。試驗(yàn)證明,保護(hù)層4折射率的大小與二氧化鈦的添加量成正比,添加的二氧化鈦越多,保護(hù)層4的折射率越大。表1是試驗(yàn)中添加的二氧化鈦的含量與其對(duì)應(yīng)的保護(hù)層4 折射率的關(guān)系表,通過(guò)改變二氧化鈦的添加量,可調(diào)整所述保護(hù)層4的折射率。表 1
保護(hù)層4折射率TiO2含量SiO2含量1. 61-10%1-5%1. 72-15%2-7%
1. 753-18%2-8%1. 88-20%3-10%2. 010-20%3-10%所述二氧化鈦還可以采用二氧化鋯來(lái)替代,二氧化鋯的折射率為1. 9-2. 3之間, 根據(jù)不同配比可以得到保護(hù)層的折射率范圍1.6-2.0,用以達(dá)到與透明電極的折射率匹配。 其原理與前述二氧化鈦的類(lèi)似,故不在此贅述。以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種觸控面板,包括電極層和保護(hù)層,其特征在于所述保護(hù)層覆蓋于所述電極層上,所述電極層上包括多個(gè)間隔設(shè)置的透明電極,所述保護(hù)層中包括有折射率大于1. 8的透明金屬氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板,其特征在于所述透明金屬氧化物是二氧化鈦或者二氧化鋯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板,其特征在于所述保護(hù)層是聚硅氧烷層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板,其特征在于所述保護(hù)層的折射率是1.6-2. 0。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板,其特征在于所述保護(hù)層的厚度為0.5-3 μ m。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板,其特征在于還包括一基板,所述電極層的透明電極設(shè)置于該基板上。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型觸控技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種觸控面板。本實(shí)用新型公開(kāi)的觸控面板包括電極層和保護(hù)層,所述保護(hù)層覆蓋于所述電極層上,所述電極層上包括多個(gè)間隔設(shè)置的透明電極,所述保護(hù)層中包括有折射率大于1.8的透明金屬氧化物,使該保護(hù)層的折射率與所述透明電極的折射率相匹配以達(dá)到面板均勻可視,以達(dá)到透明電極圖案不可見(jiàn)的效果,從而使觸控面板具有良好的光學(xué)性能。
文檔編號(hào)G06F3/041GK202110510SQ20112010607
公開(kāi)日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2011年4月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月4日
發(fā)明者方芳, 李裕文, 楊立春, 林清山 申請(qǐng)人:宸鴻科技(廈門(mén))有限公司