專(zhuān)利名稱(chēng)：雙面電極走線電容屏功能片及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電容屏功能片的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及雙面走線電容屏功能片及其加工方法。
背景技術(shù)：
如圖I所示，為現(xiàn)有技術(shù)中的雙面走線電容屏功能片I"的加工方法的流程圖，其具體操作如下
在玻璃基板10〃的兩相對(duì)側(cè)面上真空濺鍍ITO(納米銦錫金屬氧化物)導(dǎo)電層11〃，接著，雙面光刻ITO導(dǎo)電層11〃，形成ITO電極圖案12〃 ；在兩ITO電極圖案12〃上真空濺鍍鑰鋁鑰導(dǎo)電層13"，再雙面光刻鑰鋁鑰導(dǎo)電層13"，形成鑰鋁鑰電極圖案14"，最后形成電容屏功能片I"。上述的加工方法存在著以下缺陷I)、需要在玻璃基板10〃上進(jìn)行兩次真空濺鍍エ藝，増加加工成本，且加工周期長(zhǎng)，加工效率低；2)、鑰鋁鑰的活性較大，易和其它物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，這樣，其難以兼容在生產(chǎn)線中，從而極大的降低生產(chǎn)的投入規(guī)模，直接降低生產(chǎn)效率；3)、分別兩次濺鍍，再分別兩次光刻，這樣，使得エ藝鏈較長(zhǎng)，降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供雙面電極走線電容屏功能片的加工方法，g在解決現(xiàn)有技術(shù)中的加工方法需要進(jìn)行兩次真空濺鍍以及鑰鋁鑰活性問(wèn)題以致加工成本低、周期長(zhǎng)、效率低的問(wèn)題。本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的，雙面電極走線電容屏功能片的加工方法，加工步驟如下I)、提供玻璃基板，于所述玻璃基板兩相對(duì)側(cè)面上分別濺鍍ITO導(dǎo)電層；2)、于所述兩層ITO導(dǎo)電層上分別電鍍Cu導(dǎo)電層；3)、分別光刻兩層所述Cu導(dǎo)電層，形成Cu電極圖案；4)、分別光刻兩層所述ITO導(dǎo)電層,形成ITO電極圖案。根據(jù)上述的加工方法，本發(fā)明還提供了雙面電極走線電容屏功能片，其包括玻璃基板，所述玻璃基板兩相對(duì)側(cè)面上分別設(shè)有ITO電極圖案，兩所述ITO電極圖案上分別設(shè)有Cu電極圖案。與現(xiàn)有技術(shù)相比，利用上述的加工方法加工雙面電極走線電容屏功能片，不需要在玻璃基板上進(jìn)行兩次濺鍍エ藝，大大降低了加工成本，且不需要設(shè)置鑰鋁鑰導(dǎo)電層，可避免鑰鋁鑰導(dǎo)電層活性問(wèn)題以致難以擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的問(wèn)題，在該加工方法中，可采用連續(xù)多層光刻エ藝分別形成ITO電極圖案以及Cu電極圖案，極大縮短生產(chǎn)エ藝鏈，縮短加工周期，提聞生廣效率。


圖I是現(xiàn)有技術(shù)中的雙面電極走線電容屏功能片的加工流程圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的雙面電極走線電容屏功能片的加工流程圖。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)ー步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。以下結(jié)合具體附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)進(jìn)行詳細(xì)的描述。如圖2所示，為本發(fā)明提供的一較佳實(shí)施例。本實(shí)施例提供了雙面電極走線電容屏功能片I的加工方法，其具體加工步驟如下I)、提供一玻璃基板10，在玻璃基板10的兩相對(duì)側(cè)面上真空濺鍍ITO導(dǎo)電層11;2)在兩層ITO導(dǎo)電層11上電鍍上Cu導(dǎo)電層13 ；3)、在兩Cu導(dǎo)電層13上進(jìn)行光刻，使得兩Cu導(dǎo)電層13上分別形成Cu電極圖案14 ；4)、光刻兩底層ITO導(dǎo)電層11，使得兩ITO導(dǎo)電層11形成ITO電極圖案12，從而形成了電容屏功能片I。利用上述的加工方法加工雙面電極走線電容屏功能片1，其具有以下優(yōu)點(diǎn)I)、不需要在玻璃基板10上進(jìn)行兩次濺鍍エ藝，只需要進(jìn)行一次ITO導(dǎo)電層11濺鍍則可，大大的降低加工成本；2)、在ITO導(dǎo)電層11上電鍍Cu導(dǎo)電層13，避免濺鍍鑰鋁鑰導(dǎo)電層，從而可避免鑰鋁鑰導(dǎo)電層活性強(qiáng)以致難以兼容至生產(chǎn)線的問(wèn)題，從而可擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模，提高生產(chǎn)效率；3)、該加工方法中，依序先在玻璃基板10上濺鍍ITO導(dǎo)電層11和電鍍Cu導(dǎo)電層13，再采用連續(xù)多層光刻エ藝分別形成ITO電極圖案12和Cu電極圖案14，極大的縮短生產(chǎn)エ藝鏈，縮短加工周期，提高生產(chǎn)效率。根據(jù)上述的加工方法，本實(shí)施例還提供了雙面電極走線電容屏功能片I。該功能片I包括玻璃基板10、分別設(shè)在玻璃基板10兩相對(duì)側(cè)面上的ITO電極圖案12以及分別設(shè)置在兩ITO電極圖案12上的Cu電極圖案14。該功能片I沒(méi)有使用鑰鋁鑰電極圖案，從而，在加工過(guò)程中，可避免進(jìn)行兩次濺鍍，降低加工成本，縮短加工時(shí)間，且可避免鑰鋁鑰活性較強(qiáng)的問(wèn)題，在加工過(guò)程中，可以解決生產(chǎn)線兼容的問(wèn)題，擴(kuò)大生產(chǎn)線，提高加工效率。上述的Cu電極圖案14是電鍍電鍍?cè)贗TO電極圖案12上的，這樣，可避免玻璃基板10上進(jìn)行兩次濺鍍エ藝。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.雙面電極走線電容屏功能片的加工方法，其特征在于，加工步驟如下 1)、提供玻璃基板，于所述玻璃基板兩相對(duì)側(cè)面上分別濺鍍ITO導(dǎo)電層； 2)、于所述兩層ITO導(dǎo)電層上分別電鍍Cu導(dǎo)電層； 3)、分別光刻兩層所述Cu導(dǎo)電層，形成Cu電極圖案； 4)、分別光刻兩層所述ITO導(dǎo)電層，形成ITO電極圖案。
2.雙面電極走線電容屏功能片，包括玻璃基板，所述玻璃基板兩相對(duì)側(cè)面上分別設(shè)有ITO電極圖案，兩所述ITO電極圖案上分別設(shè)有Cu電極圖案。
3.如權(quán)利要求2所述的雙面電極走線電容屏功能片，其特征在于，所述Cu電極圖案電鍍于所述ITO電極圖案上。
全文摘要
本發(fā)明涉及電容屏功能片的技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了雙面電極走線電容屏功能片的加工方法，其具體步驟如下1)提供玻璃基板，于所述玻璃基板兩相對(duì)側(cè)面上分別濺鍍ITO導(dǎo)電層；2)于所述兩層ITO導(dǎo)電層上分別電鍍Cu導(dǎo)電層；3)分別光刻兩層所述Cu導(dǎo)電層，形成Cu電極圖案；4)分別光刻兩層所述ITO導(dǎo)電層，形成ITO電極圖案。上述的加工方法加工功能片，不需要在玻璃基板上進(jìn)行兩次濺鍍工藝，大大降低了加工成本，且不需要設(shè)置鉬鋁鉬導(dǎo)電層，可避免鉬鋁鉬導(dǎo)電層活性問(wèn)題以致難以擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的問(wèn)題，該方法中，可采用連續(xù)多層光刻工藝分別形成ITO電極圖案以及Cu電極圖案，極大縮短生產(chǎn)工藝鏈，縮短加工周期，提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102799326SQ201210227470
公開(kāi)日2012年11月28日 申請(qǐng)日期2012年7月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月3日
發(fā)明者代永平, 范偉, 付子林 申請(qǐng)人:深圳市長(zhǎng)江力偉股份有限公司