專利名稱：透明導(dǎo)電性薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在電容方式觸摸面板等中使用的透明導(dǎo)電性薄膜。
背景技術(shù)：
已知有在兩片薄膜貼合而成的層疊體上形成有透明電極圖案的透明導(dǎo)電性薄膜(專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-76432)。兩片薄膜隔著厚度20 μ m左右的厚的壓敏粘接劑(粘合劑)層貼合。這種透明導(dǎo)·電性薄膜在用于電阻膜方式的觸摸面板中時(shí)，由于壓敏粘接劑層具有緩沖性，因此筆輸入耐久性、面壓耐久性良好。透明電極圖案通常通過蝕刻形成。以往的透明導(dǎo)電性薄膜在蝕刻工程中加熱時(shí)，存在透明電極圖案的部分和不存在透明電極圖案的部分上薄膜的收縮率不同。因此，透明導(dǎo)電性薄膜上容易生成波紋(waviness)。期望波紋越少越好?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)_4] 專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-76432號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
_6] 發(fā)明要解決的問題本發(fā)明的目的是實(shí)現(xiàn)與現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜相比波紋少的透明導(dǎo)電性薄膜。用于解決問題的方案(I)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜具有:透明的第一薄膜、透明電極圖案、透明粘接劑層和透明的第二薄膜。透明電極圖案在第一薄膜的一個(gè)面上形成。透明粘接劑層層疊在第一薄膜的另一個(gè)面(沒有透明電極圖案的面)上。第二薄膜層疊在透明粘接劑層的與第一薄膜相反一側(cè)的面上。透明粘接劑層為固化粘接劑層。第二薄膜的厚度為第一薄膜的厚度的
1.5倍 6倍。(2)在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜中，第一薄膜的厚度為15μπΓ55μπι。(3)在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜中，透明粘接劑層的厚度為0.01 μ m以上且小于
10μ m0(4)形成本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的固化粘接劑層的固化粘接劑為紫外線固化型粘接劑或電子束固化型粘接劑。(5)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的第一薄膜在IMHz下的介電常數(shù)及第二薄膜在IMHz下的介電常數(shù)分別為2.(Γ3.5。(6)形成本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的第一薄膜的材料及形成第二薄膜的材料為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)烯烴或聚碳酸酯中的任一種。(7)形成本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的透明電極圖案的材料為銦錫氧化物(ΙΤ0:1ndium Tin Oxide)、銦鋅氧化物或氧化銦-氧化鋅復(fù)合氧化物中的任一種。發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明可以得到與現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜相比波紋少的透明導(dǎo)電性薄膜。進(jìn)而，使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的電容方式觸摸面板與使用現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜的電容方式觸摸面板相比，觸摸靈敏度優(yōu)異。


圖1為本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜的俯視圖及剖視示意圖
具體實(shí)施例方式透明導(dǎo)電性薄膜本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10如圖1所示，其具備:透明的第一薄膜11、透明電極圖案12、透明粘接劑層13和透明的第二薄膜14。第一薄膜11的厚度tl為15μπΓ55μπι。透明電極圖案12在第一薄膜11的一個(gè)面(圖1中為上表面)上形成。透明粘接劑層13在第一薄膜11的另一個(gè)面(圖1中為下表面)上層疊。第二薄膜14在透明粘接劑層13的與第一薄膜11相反一側(cè)的面(圖1中為下表面)上層疊。第二薄膜14的厚度t3為第一薄膜11的厚度tl的1.5倍飛倍。透明粘接劑層13為固化粘接劑層，其厚度t2為0.0lμm以上且小于10 μ m。在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10中，第一薄膜11與第二薄膜14隔著透明粘接劑層13層疊。透明粘接劑層13由厚度在0.01 μ m以上且小于10 μ m的薄的固化粘接劑層形成。即、本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10用厚的第二薄膜14隔著硬且薄的透明粘接劑層13背面支撐薄的第一薄膜11。厚的第二薄膜14的耐收縮性高而難以產(chǎn)生波紋。通過這樣的結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10可以抑制波紋的產(chǎn)生。在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10中使用的透明粘接劑層13由厚度在0.01 μ m以上且小于10 μ m的薄的固化粘接劑層形成。因此，透明粘接劑層13不具有現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜的、如厚度20 μ m左右的壓敏粘接劑層那樣的緩沖性。但是，與電阻膜方式觸摸面板不同，電容方式觸摸面板在輸入時(shí)沒有使透明導(dǎo)電性薄膜變形的必要。因此，對(duì)透明粘接劑層13而言，緩沖效果不是必須的。因此，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10適于電容方式觸摸面板?，F(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜使用介電常數(shù)高、厚度為20 μ m左右的壓敏粘接劑層。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10使用由介電常數(shù)低、厚度為0.01 μ m以上且低于10 μ m的固化粘接劑層形成的透明粘接劑層13來(lái)代替介電常數(shù)高的壓敏粘接劑層。由此在整個(gè)透明導(dǎo)電性薄膜10中，第一薄膜11與第二薄膜14所占的體積比例增高。由于第一薄膜11與第二薄膜14比壓敏粘接劑層及固化粘接劑層的介電常數(shù)低，所以本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10與現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜相比介電常數(shù)變低。因此，在電容方式觸摸面板中使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10時(shí)，與使用現(xiàn)有的透明導(dǎo)電性薄膜的情況相比觸摸靈敏度變高。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的厚度t是第一薄膜11的厚度tl、透明粘接劑層13的厚度t2及第二薄膜14的厚度t3之和(t = tl + t2 + t3)。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的厚度t優(yōu)選為60 μ πm-250 μ m,更優(yōu)選為90 μ m-200 μ m。第一薄膜本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的第一薄膜11支撐透明電極圖案12。第一薄膜11的厚度優(yōu)選為15 μ m-55 μ m,更優(yōu)選為20 μ m-40 μ m。第一薄膜11的厚度低于15 μ m時(shí),有強(qiáng)度不足、使用變得困難的擔(dān)心。第一薄膜11的厚度超過55 μ m時(shí)，有濺射等時(shí)被加熱時(shí)產(chǎn)生大量的揮發(fā)成分、透明電極圖案12的表面電阻值變高的擔(dān)心。本發(fā)明中使用第一薄膜11薄，因此揮發(fā)成分量少。由此可以穩(wěn)定地得到表面電阻值小的透明電極圖案12。在形成第一薄膜11的材料中，可優(yōu)選使用透明性與耐熱性優(yōu)異的材料。作為形成第一薄膜11的材料，例如可列舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)烯烴或聚碳酸酯。第一薄膜11可以在其表面(單面或雙面)具備未圖示的易粘接層及用于調(diào)整反射率的未圖示的折射率調(diào)整層(index matching layer)。或者還可以具備用于賦予耐擦傷性的未圖示的硬涂層。易粘接層由例如硅烷系偶聯(lián)劑、鈦酸酯系偶聯(lián)劑或鋁酸酯系偶聯(lián)劑形成。折射率調(diào)整層由例如氧化鈦、氧化錯(cuò)、二氧化娃(silicon oxide)或氟化鎂形成的。硬涂層由例如三聚氰胺系樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸系樹脂、丙烯酸系樹脂或有機(jī)硅系樹脂形成。透明電極圖案在電容方式觸摸面板中使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10時(shí)，透明電極圖案12作為用于檢測(cè)觸摸位置的傳感器來(lái)使用。透明電極圖案12通常與在第一薄膜11的周邊部分上形成的電路(未圖示)電連接，電路連接與控制器IC (未圖示)連接。透明電極圖案12的圖案形狀可以是如圖1那樣的條紋狀、未圖示的菱形形狀等任意形狀。透明電極圖案12的厚度優(yōu)選為IOnnTlOOnm,進(jìn)一步優(yōu)選為10ηπΓ50ηηι。關(guān)于透明電極圖案12，代表性的是由透明導(dǎo)電體形成的。透明導(dǎo)電體是指可見光區(qū)域(380nnT780nm)下的透過率高(80%以上)、并且每單位面積的表面電阻值(單位:Ω / □:ohms per square)為500 Ω / □以下的材料。透明導(dǎo)電體是由例如銦錫氧化物(ITO JndiumTin Oxide)、銦鋅氧化物、或氧化銦-氧化鋅復(fù)合氧化物形成的。關(guān)于透明電極圖案12，可以在第一薄膜11上通過例如濺射法或真空蒸鍍法形成透明導(dǎo)電體層，然后在透明導(dǎo)電體層的表面上形成所期望的圖 案的光致抗蝕劑，在鹽酸中浸潰除去透明導(dǎo)電體層所不需要的部分，從而獲得。透明粘接劑層本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的透明粘接劑層13在第一薄膜11的、沒有透明電極圖案12側(cè)的面上層疊。即、透明粘接劑層13配置在第一薄膜11與第二薄膜14之間。透明粘接劑層13是厚度在0.01 μ m以上且小于10 μ m的固化粘接劑層。關(guān)于固化粘接劑層，如果從可以在不對(duì)透明導(dǎo)電性薄膜10帶來(lái)不良影響的溫度下固化的觀點(diǎn)考慮，則優(yōu)選紫外線固化型粘接劑層或電子束固化型粘接劑層。關(guān)于這些固化型粘接劑，代表性的是含有基礎(chǔ)樹脂、反應(yīng)性稀釋劑及光聚合引發(fā)劑的固化型粘接劑?；A(chǔ)樹脂是在聚合物主鏈的兩末端加成有丙烯?；颦h(huán)氧基的樹脂。反應(yīng)性稀釋劑使粘接劑的粘度降低并與基礎(chǔ)樹脂進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)。光聚合引發(fā)劑促進(jìn)交聯(lián)反應(yīng)。在透明粘接劑層13上使用壓敏粘接劑(粘合劑)層是不理想的。由于一般的壓敏粘接劑層厚且柔軟，因此很難將第一薄膜11與第二薄膜14完全固定。因此，第一薄膜11與第二薄膜14之間容易發(fā)生偏移，難以通過第二薄膜14的背面支撐來(lái)防止第一薄膜11產(chǎn)生波紋。由固化粘接劑層形成的透明粘接劑層13的厚度為0.01 μ m以上且小于lOym，優(yōu)選為0.0 μπΓ8μπι。透明粘接劑層13的厚度小于0.01 μ m時(shí)，有粘接力不足的擔(dān)心。透明粘接劑層13的厚度超過IOym時(shí)、有固化時(shí)間變得過長(zhǎng)的擔(dān)心?；蛴型该髡辰觿?3的變形變得不能忽視、透明導(dǎo)電性薄膜10的波紋變大的擔(dān)心。
第二薄臘本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的第二薄膜14層疊在透明粘接劑層13的、與第一薄膜11相反的一側(cè)上。第二薄膜14的厚度t3是第一薄膜11的厚度tl的1.5倍飛倍，優(yōu)選為2倍 6倍，更優(yōu)選為3倍 5倍。第二薄膜14的厚度t3比第一薄膜11的厚度tl的1.5倍薄時(shí)，有透明導(dǎo)電性薄膜10的耐收縮性不足、變得難以抑制波紋的產(chǎn)生的擔(dān)心。第二薄膜14的厚度t3超過第一薄膜11的厚度tl的6倍時(shí)，有透明導(dǎo)電性薄膜10的厚度t變得過厚、透明度降低的擔(dān)心?；蛴泻穸茸兊眠^大、對(duì)觸摸面板等進(jìn)行安裝變得困難的擔(dān)心。如果考慮第一薄膜11的厚度tl及上述倍率，則第二薄膜14的厚度t3優(yōu)選為30 μ πΓ200 μ m,更優(yōu)選為45μπΓ 50μπι。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10可以通過將第二薄膜14的厚度t3設(shè)定為這樣的范圍來(lái)提高耐收縮性、減少波紋。進(jìn)而，在將本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10用作電容方式觸摸面板的上部電極、將未圖不的下部電極層疊在透明導(dǎo)電性薄膜10的下表面的情況下，可以恰當(dāng)?shù)財(cái)U(kuò)大電極的間隔使觸摸靈敏度變得良好。在形成第二薄膜14的材料中，可優(yōu)選使用透明性與耐熱性優(yōu)異的材料。作為形成第二薄膜14的材料，例如可列舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)烯烴或聚碳酸酯。第二薄膜14可以在其表面(單面或雙面)上具備未圖示的易粘接層、或用于賦予耐擦傷性的未圖示的硬涂層等。第二薄膜14的易粘接層的材料及硬涂層的材料與第一薄膜11的易粘接層的材料及硬涂層的材料相同。制造方法對(duì)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說明。首先，通過濺射法在厚度15μπΓ55μπι的第一薄膜11的單面成膜透明導(dǎo)電體層。接著，在第一薄膜11的、與透明導(dǎo)電體層相反一側(cè)的面上以0.0lym以上且小于10 μ m的厚度涂布紫外線固化型粘接劑，使第二薄膜14貼合。第二薄膜14的厚度為第一薄膜11的厚度的1.5倍飛倍。接著，從第二薄膜14 一側(cè)照射紫外線， 使紫外線固化型粘接劑固化。接著，在透明導(dǎo)電體層的表面上形成所期望的圖案的光致抗蝕劑。接著，將透明導(dǎo)電體層浸潰在鹽酸中、除去不需要的透明導(dǎo)電體層，得到所期望的透明電極圖案12。

根據(jù)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性薄膜10的制造方法，在成膜透明導(dǎo)電體層時(shí)，底層只有薄的第一薄膜11，因此來(lái)自底層的揮發(fā)成分量少。因此透明導(dǎo)電體層的表面電阻值變小。另外，形成透明電極圖案12時(shí)，層疊著厚的第二薄膜14，因此耐收縮性得到提高、可以抑制透明導(dǎo)電性薄膜10的波紋的產(chǎn)生。實(shí)施例實(shí)施例1使用具有氧化銦97重量％、氧化錫3重量％的銦錫氧化物的燒結(jié)體靶的濺射裝置，在聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(第一薄膜)的單面上形成銦錫氧化物(ΙΤ0:1ndium TinOxide)層。聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的厚度為25 μ m,銦錫氧化物層的厚度為22nm。接著，將紫外線固化型粘接劑涂布在聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜的、與銦錫氧化物層相反一側(cè)的面上，使聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(第二薄膜)貼合。紫外線固化型粘接劑為Nagase ChemteX Corporation制造的DA-141,厚度為5 μ m。聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜(第二薄膜)的厚度為100 μ m。接著，從第二薄膜側(cè)照射高壓汞燈的紫外線(波長(zhǎng)365nm)，使紫外線固化型粘接劑固化。接著，在透明導(dǎo)電體層的表面上形成所期望的圖案的光致抗蝕劑。接著，將透明導(dǎo)電體層浸潰在鹽酸中，除去不需要的透明導(dǎo)電體層。接著，使其在140°C下干燥30分鐘，得到條紋狀的透明電極圖案。得到的透明導(dǎo)電性薄膜的、存在透明電極圖案的部分與不存在透明電極圖案的部分的波紋如表I所示為0.1 μ m。實(shí)施例2將第二薄膜的厚度設(shè)定為75 μ m，除此之外，通過與實(shí)施例1相同的方法制作透明導(dǎo)電性薄膜。得到的透明導(dǎo)電性薄膜的、存在透明電極圖案的部分與不存在透明電極圖案的部分的波紋如表I所示為0.6 μ m。比較例I將第二薄膜的厚度設(shè)定為25 μ m，除此之外，通過與實(shí)施例1相同的方法制作透明導(dǎo)電性薄膜。得到的透明導(dǎo)電性薄膜的、存在透明電極圖案的部分與不存在透明電極圖案的部分的波紋如表I所示為1.5 μ m。表權(quán)利要求
1.一種透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，其具備: 透明的第一薄膜， 在所述第一薄膜的一個(gè)面上形成的透明電極圖案， 在所述第一薄膜的另一個(gè)面上層疊的透明粘接劑層，以及 在所述透明粘接劑層的、與所述第一薄膜相反一側(cè)的面上層疊的透明的第二薄膜， 所述透明粘接劑層為固化粘接劑層， 所述第二薄膜的厚度為所述第一薄膜的厚度的1.5倍飛倍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，所述第一薄膜的厚度為15 μ m 55 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，所述透明粘接劑層的厚度為 0.0l μ m以上且小于10 μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，形成所述固化粘接劑層的固化粘接劑為紫外線固化型粘接劑或電子束固化型粘接劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，所述第一薄膜在IMHz下的介電常數(shù)及所述第二薄膜在IMHz下的介電常數(shù)分別為2.(Γ3.5。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，形成所述第一薄膜的材料及形成所述第二薄膜的材料為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚環(huán)烯烴或聚碳酸酯中的任一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其特征在于，形成所述透明電極圖案的材料為銦錫氧化物、銦鋅氧化物或氧化銦-氧化鋅復(fù)合氧化物中的任一種。
全文摘要
本發(fā)明提供透明導(dǎo)電性薄膜(10)，其具有透明的第一薄膜(11)、透明電極圖案(12)、透明粘接劑層(13)和透明的第二薄膜(14)，第一薄膜(11)與第二薄膜(14)隔著透明粘接劑層(13)層疊，第一薄膜(11)的厚度為15μm~55μm。第二薄膜(14)的厚度為第一薄膜(11)的厚度的1.5倍~6倍。透明粘接劑層(13)是厚度為0.01μm以上且小于10μm的固化粘接劑層。
文檔編號(hào)G06F3/044GK103093863SQ201210418908
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者山崎潤(rùn)枝, 梨木智剛, 石橋邦昭 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社