專利名稱：實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種手寫筆跡美化的方案，特別是涉及一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著計(jì)算機(jī)設(shè)備的普及，利用計(jì)算機(jī)設(shè)備進(jìn)行文字輸入已成為人們?nèi)粘Ｉ畹囊徊糠帧Ｔ诩磿r(shí)通信、電子簽名等多種應(yīng)用場(chǎng)景中，人們需要將自己的筆跡輸入至所述計(jì)算機(jī)設(shè)備中。目前，常用的做法是獲取原始的輸入筆跡，并不對(duì)輸入的筆跡進(jìn)行美化處理。例如，即時(shí)通信軟件中手寫輸入模式。然而，對(duì)于這些手寫軌跡的處理往往風(fēng)格單調(diào)，缺乏個(gè)性，不夠生動(dòng)。目前，現(xiàn)有的手寫筆跡的美化技術(shù)通常利用筆畫模擬、筆畫匹配、模板融合等技術(shù)將手寫輸入的文字轉(zhuǎn)換成預(yù)設(shè)的幾種或幾十種筆體中的一種。然而這種方式不能很好地反映每個(gè)用戶的書寫個(gè)性，使得在電子簽名等領(lǐng)域中無(wú)法有效推廣。為了解決手寫筆跡無(wú)法體現(xiàn)個(gè)性化的問(wèn)題，市場(chǎng)上還出現(xiàn)一種電子寫字板，其具有壓力傳感器等傳感裝置，寫字板可以所檢測(cè)到的手寫輸入時(shí)的壓力值、速度值等來(lái)繪制能體現(xiàn)原始筆跡、且具有毛筆或鋼筆美化效果的手寫筆跡。但該電子寫字板需要用戶單獨(dú)購(gòu)買，成本過(guò)高。因此，需要對(duì)現(xiàn)有的手寫筆跡的美化方案進(jìn)行改進(jìn)，使得用戶利用鼠標(biāo)、觸摸筆等常用軌跡輸入裝置來(lái)得到具有美化效果的手寫筆跡。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及系統(tǒng)，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中手寫筆跡無(wú)法簡(jiǎn)便的體現(xiàn)個(gè)性化特點(diǎn)的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，應(yīng)用于具有軌跡輸入裝置的電子設(shè)備中，其至少包括1)當(dāng)檢測(cè)到所述軌跡輸入裝置進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間；2)從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，基于所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的至少一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，取得用于表征第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的特征信息；并將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定所述筆跡尺寸的至少一個(gè)分量；以及將各所述分量進(jìn)行合并，以取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的所述筆跡尺寸；其中，η為大于I的整數(shù)；3)將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)按所述筆跡尺寸進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。優(yōu)選地，所述特征信息包括手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的加速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的方向角、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的偏轉(zhuǎn)角中的一種或多種。優(yōu)選地，所述步驟2)中取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角的方式包括將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)構(gòu)成一個(gè)向量，并取得所述向量的方向角，將所述向量的方向角作為第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。優(yōu)選地，所述步驟2)中取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角的方式還包括從此前所捕獲的各軌跡點(diǎn)中搜索兩個(gè)相鄰的軌跡點(diǎn)，其中一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移大于預(yù)設(shè)的閾值，另一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移小于所述閾值，則選取使位移大于所述閾值所對(duì)應(yīng)的軌跡點(diǎn)，并利用第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與所選取的所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的向量，來(lái)取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。優(yōu)選地，所述步驟2)中將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量的方式包括基于預(yù)設(shè)的方向角的范圍與方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來(lái)確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子；以及利用公式
權(quán)利要求
1.一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，應(yīng)用于具有軌跡輸入裝置的電子設(shè)備中，其特征在于，至少包括 1)當(dāng)檢測(cè)到所述軌跡輸入裝置開始進(jìn)行軌跡輸入時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間； 2)從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，基于所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的至少一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，取得用于表征第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的特征信息；并將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定所述筆跡尺寸的至少一個(gè)分量；以及將各所述分量進(jìn)行合并，以取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的所述筆跡尺寸；其中，η為大于I的整數(shù)。
3)將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)按所述筆跡尺寸進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡；重復(fù)步驟I)至3)直至檢測(cè)到所述軌跡輸入結(jié)束。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述特征信息包括手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的加速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的方向角、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的偏轉(zhuǎn)角中的一種或多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)中取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角的方式包括將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)構(gòu)成一個(gè)向量，并取得所述向量的方向角，將所述向量的方向角作為第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)中取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角的方式還包括從此前所捕獲的各軌跡點(diǎn)中搜索兩個(gè)相鄰的軌跡點(diǎn)，其中一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移大于預(yù)設(shè)的閾值，另一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移小于所述閾值，則選取使位移大于所述閾值所對(duì)應(yīng)的軌跡點(diǎn)，并利用第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與所選取的所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的向量，來(lái)取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)中將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量的方式包括 基于預(yù)設(shè)的方向角的范圍與方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來(lái)確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子； 利用公式
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)中將所取得的特征信I轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量的方式包括利用公式
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)中將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量的方式包括利用公式
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，在所述步驟2)中，利用所述分量來(lái)確定所述筆跡尺寸的方式包括將所轉(zhuǎn)換的用于確定筆跡尺寸的各分量進(jìn)行加權(quán)取和、或取和加權(quán)運(yùn)算，得到所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的筆跡尺寸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟2)還包括取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸與預(yù)設(shè)時(shí)間段內(nèi)的第a個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的變化量，并將所述變化量與允許突變的變化量進(jìn)行比較，若大于允許突變的變化量，則確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸為允許突變的變化量與第a個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸之和，反之若小于允許突變的變化量，則將所取得的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸確定為第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸；其中，I ^ a ^ n, a為整數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述允許突變的變化量由公式
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟3)還包括基于相鄰的所述軌跡點(diǎn)各自的筆跡尺寸的平均值，利用插值算法將相鄰的所述軌跡點(diǎn)之間的點(diǎn)按所述平均值進(jìn)行填充，以得到連續(xù)的手寫筆跡。
12.根據(jù)權(quán)利要求12所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟3)還包括將所述手寫筆跡按預(yù)先選取的筆跡模式進(jìn)行美化處理。
13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，所述步驟3)還包括基于筆跡濃度與所述軌跡點(diǎn)的速度成反比的關(guān)系，將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)按所述筆跡尺寸及所述筆跡濃度進(jìn)行美化處理。
14.根據(jù)權(quán)利要求I所述的實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法，其特征在于，在執(zhí)行所述步驟2)之前，所述方法還包括將所捕獲的各所述軌跡點(diǎn)進(jìn)行平滑處理，并得到平滑處理后的軌跡點(diǎn)的步驟；以便將所取得新的軌跡點(diǎn)按照步驟2)依次進(jìn)行軌跡點(diǎn)的筆跡處理。
15.—種電子設(shè)備,其特征在于,至少包括 軌跡輸入裝置； 捕獲模塊，用于檢測(cè)到所述軌跡輸入裝置輸入軌跡時(shí)，實(shí)時(shí)捕獲所述軌跡上的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間； 筆跡處理模塊，用于從所捕獲的第二個(gè)軌跡點(diǎn)開始，基于所述捕獲模塊所捕獲的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的至少一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，取得用于表征第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的特征信息；并將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量；以及將各所述分量進(jìn)行合并，以取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的所述筆跡尺寸；其中，η為大于I的整數(shù)； 美化處理模塊，用于將所述筆跡處理模塊所處理的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)，按所述筆跡尺寸進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡； 其中，所述捕獲模塊重復(fù)執(zhí)行，直至檢測(cè)到所述軌跡輸入裝置結(jié)束輸入軌跡。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述特征信息包括手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的加速度、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的方向角、手寫輸入至所述軌跡點(diǎn)時(shí)的偏轉(zhuǎn)角中的一種或多種。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊包括方向角處理子模塊，用于將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與此前所捕獲的一個(gè)所述軌跡點(diǎn)構(gòu)成一個(gè)向量，并取得所述向量的方向角，將所述向量的方向角作為第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述方向角處理子模塊還包括從此前所捕獲的各軌跡點(diǎn)中搜索兩個(gè)相鄰的軌跡點(diǎn)，其中一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移大于預(yù)設(shè)的閾值，另一個(gè)軌跡點(diǎn)與第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的位移小于所述閾值，則選取使位移大于所述閾值所對(duì)應(yīng)的軌跡點(diǎn)，并利用第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)與所選取的所述軌跡點(diǎn)所構(gòu)成的向量，來(lái)取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊還包括速度分量處理子模塊，用于基于預(yù)設(shè)的方向角的范圍與方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來(lái)確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的方向角對(duì)速度的靈敏度的影響因子；以及利用公式
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊包括加速度分量處理子模塊，用于利用公式
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊包括偏轉(zhuǎn)角分量處理子模塊，用于利用公式
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊還包括第一筆跡處理子模塊，用于將所轉(zhuǎn)換的用于確定筆跡尺寸的各分量進(jìn)行加權(quán)取和、或取和加權(quán)運(yùn)算，得到所述軌跡點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的筆跡尺寸。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述筆跡處理模塊還包括第二筆跡處理子模塊，用于取得第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸與預(yù)設(shè)時(shí)間段內(nèi)的第a個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的變化量，并將所述變化量與允許突變的變化量進(jìn)行比較，若大于允許突變的變化量，則確定第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸為允許突變的變化量與第a個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸之和，反之若小于允許突變的變化量，則將所取得的第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸確定為第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸；其中，I ^ a ^ n，a為整數(shù)。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述允許突變的變化量由公式
25.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述美化處理模塊還用于基于相鄰的所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的平均值，利用插值算法將相鄰的所述軌跡點(diǎn)之間的點(diǎn)按所述平均值進(jìn)行填充，以得到連續(xù)的手寫筆跡。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述美化處理模塊還用于將所述筆跡尺寸按預(yù)先選取的筆跡模式進(jìn)行顯示。
27.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述美化處理模塊還用于基于筆跡濃度與所述軌跡點(diǎn)的速度成反比的關(guān)系，將第η個(gè)所述軌跡點(diǎn)按所述筆跡尺寸及所述筆跡濃度進(jìn)行美化處理。
28.根據(jù)權(quán)利要求16所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備還包括與所述捕獲模塊和所述筆跡處理模塊連接的平滑處理模塊，用于將所捕獲的各所述軌跡點(diǎn)進(jìn)行平滑處理，并得到平滑處理后的軌跡點(diǎn)；以便所述筆跡處理模塊將所取得新的軌跡點(diǎn)依次進(jìn)行軌跡點(diǎn)的筆跡處理。
全文摘要
本發(fā)明提供一種實(shí)時(shí)手寫筆跡的美化方法及電子設(shè)備。能夠從手寫輸入時(shí)開始，實(shí)時(shí)捕獲手寫輸入的軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間；在捕獲的同時(shí)，基于所捕獲的第n個(gè)所述軌跡點(diǎn)、及此前所捕獲的至少一個(gè)所述軌跡點(diǎn)的坐標(biāo)和時(shí)間，取得用于表征第n個(gè)所述軌跡點(diǎn)的筆跡尺寸的特征信息；并將所取得的特征信息轉(zhuǎn)換成用于確定筆跡尺寸的至少一個(gè)分量；并利用所述分量來(lái)確定所述筆跡尺寸；并將第n個(gè)所述軌跡點(diǎn)按所述筆跡尺寸進(jìn)行美化處理，以得到美化后的手寫筆跡。由此，能夠隨著手寫輸入的軌跡提供筆跡尺寸多樣化的手寫筆跡，并通過(guò)對(duì)筆跡尺寸進(jìn)行美化處理，來(lái)提供具有個(gè)性化筆鋒的文字。
文檔編號(hào)G06F3/0354GK102937850SQ20121051379
公開日2013年2月20日 申請(qǐng)日期2012年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月4日
發(fā)明者金連文, 黃樹東 申請(qǐng)人:上海合合信息科技發(fā)展有限公司