觸控面板及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種觸控面板，包括：一蓋板、一光學(xué)補(bǔ)償層與一感測(cè)電極層，其中感測(cè)電極層是位于蓋板與該光學(xué)補(bǔ)償層之間，在感測(cè)電極層上界定有一蝕刻區(qū)域與一非蝕刻區(qū)域，光學(xué)補(bǔ)償層是用來與感測(cè)電極層形成光學(xué)匹配，其中該光學(xué)補(bǔ)償層接收一穿透該蓋板及該感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和該蝕刻區(qū)域與該非蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。本發(fā)明亦提供一種觸控面板之制造方法。藉此，本發(fā)明可有效的改善觸控面板的色差光學(xué)問題。
【專利說明】觸控面板及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明系有關(guān)于觸控技術(shù)，且特別是有關(guān)于一種觸控面板及其制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 觸控面板已被廣泛用于家庭用品、通訊裝置及電子信息裝置等電子產(chǎn)品，逐漸取 代實(shí)體鍵盤、鼠標(biāo)等來作為各類電子產(chǎn)品之輸入界面，提供有效率的操作界面。
[0003] 目前的觸控面板已發(fā)展出直接將感測(cè)電極制作形成于保護(hù)蓋板的單片基板結(jié)構(gòu)。 此種單片基板結(jié)構(gòu)之觸控面板雖輕薄但感測(cè)電極若為一蝕刻圖案，則在蝕刻區(qū)域與非蝕刻 區(qū)域間會(huì)因?qū)獾姆磻?yīng)不同而造成從觸控面板的外觀看會(huì)產(chǎn)生色差的光學(xué)問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明之實(shí)施例進(jìn)一步設(shè)計(jì)光學(xué)補(bǔ)償層來匹配感測(cè)電極層，可以有效地改善觸控 面板的色差光學(xué)問題。
[0005] 本發(fā)明提供一種觸控面板，包括：一蓋板、一光學(xué)補(bǔ)償層與一感測(cè)電極層，其中感 測(cè)電極層是位于蓋板與光學(xué)補(bǔ)償層之間，在感測(cè)電極層上界定有一蝕刻區(qū)域與一非蝕刻區(qū) 域，光學(xué)補(bǔ)償層是用來與感測(cè)電極層形成光學(xué)匹配，該光學(xué)補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透該蓋板及 該感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和該蝕刻區(qū)域與該非蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。
[0006] 本發(fā)明提供一種觸控面板的制造方法，包括：在一蓋板的一側(cè)分別形成一感測(cè)電 極層與一光學(xué)補(bǔ)償層，其中該感測(cè)電極層位于該蓋板與該光學(xué)補(bǔ)償層之間，該感測(cè)電極層 上界定有一蝕刻區(qū)域與一非蝕刻區(qū)域，而該光學(xué)補(bǔ)償層是用來與該感測(cè)電極層形成光學(xué)匹 配，該光學(xué)補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透該蓋板及該感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和該蝕刻區(qū)域與該非 蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007] 圖1A顯示依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例中觸控面板之剖面示意圖。
[0008] 圖1B顯示依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例中觸控面板之上視示意圖。
[0009] 圖2顯示依據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例中觸控面板之剖面示意圖。
[0010] 圖3顯示依據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施例中觸控面板之剖面示意圖。
[0011] 圖4顯示依據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施例中觸控面板之剖面示意圖。
[0012] 圖5?圖8分別顯示圖1A?圖4的觸控面板的制造方法的流程圖。

【具體實(shí)施方式】
[0013] 下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0014] 接下來將會(huì)提供許多不同的實(shí)施例以實(shí)施本發(fā)明。這些實(shí)施例并非用于限定本發(fā) 明。此外，一第一組件形成于一第二組件"上方"、"之上"、"下方"或"之下"可包含實(shí)施例 中的該第一組件與第二組件直接接觸，或也可包含該第一組件與第二組件之間更有其他額 外組件使該第一組件與第二組件無直接接觸。另外，本說明書中所稱的方位"上"及"下"， 僅是用來表示相對(duì)的位置關(guān)系，對(duì)于本說明書的圖式而言，觸控面板的上方較接近觀看者， 而下方則較遠(yuǎn)離觀看者。再者，為使圖示清晰簡(jiǎn)潔，各種組件可能以任意不同比例顯示。
[0015] 請(qǐng)先合并參考圖1A至圖4,繪示出多種觸控面板（200、300、400、500)的結(jié)構(gòu)，大 體來說，觸控面板（200、300、400、500)皆包括一蓋板（202、302、402、502)、一光學(xué)補(bǔ)償層 (208、308、408、508)以及一感測(cè)電極層（206、306、406、506)，其中，感測(cè)電極層位于蓋板與 光學(xué)補(bǔ)償層之間，感測(cè)電極層上界定有一蝕刻區(qū)域（指由感測(cè)組件所組成的區(qū)域）與一非 蝕刻區(qū)域（指夾在感測(cè)組件間的非觸控區(qū)域）；其中光學(xué)補(bǔ)償層是用來與感測(cè)電極層形成 光學(xué)匹配，光學(xué)補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透蓋板及感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和蝕刻區(qū)域與非蝕刻 區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。
[0016] 以下將會(huì)針對(duì)各圖詳細(xì)說明各觸控面板的結(jié)構(gòu)。
[0017] 圖1A及圖1B分別繪示出本發(fā)明實(shí)施例中，觸控面板之剖面示意圖與上視示意圖。 如圖1A中所示，本實(shí)施例之觸控面板200包括一蓋板202、一感測(cè)電極層206及一光學(xué)補(bǔ)償 層208。其中，蓋板202可為一強(qiáng)化蓋板，除了用來承載感測(cè)電極層206之外，更可以提供堅(jiān) 硬的保護(hù)作用。在一實(shí)施例中，強(qiáng)化蓋板可以使用化學(xué)離子交換或相似的制程形成。在一 實(shí)施例中，蓋板202系由透明板材所形成，例如，玻璃或高分子材料之塑料材質(zhì)。在另一些 實(shí)施例中，蓋板202更可由如壓克力的熱塑性塑料材料所形成。此外，蓋板202厚度可約為 0. 2 ?2. 0mm。
[0018] 感測(cè)電極層206位于蓋板202的其中一側(cè)且位于蓋板202與光學(xué)補(bǔ)償層208之 間，在本實(shí)施例中，感測(cè)電極層206是形成于蓋板202的下表面。如第1B圖所示，感測(cè)電極 層206經(jīng)圖案化制程后形成感測(cè)組件，感測(cè)組件具體包括多條沿一第一軸向（如X軸）排 列的第一電極220X及多條沿一第二軸向（如y軸）排列的第二電極220Y。每一第一電極 220X包括多個(gè)第一導(dǎo)電單元220XA及多個(gè)第一連接線220XB，其中第一軸向上之相鄰兩個(gè) 第一導(dǎo)電單元220XA系透過第一連接線220XB相連并電性連接；每一第二電極220Y包括多 個(gè)第二導(dǎo)電單元220YA及多個(gè)第二連接線220YB，其中第二軸向上之相鄰兩個(gè)第二導(dǎo)電單 元220YA系透過第二連接線220YB相連并電性連接。此外，第一連接線220XB及第二連接 線220YB形成交錯(cuò)。本發(fā)明實(shí)施例中，感測(cè)組件更包括一絕緣層222,其設(shè)置在交錯(cuò)的第一 連接線220XB與第二連接線220YB之間，以提供第一電極220X及第二電極220Y之間的電 性隔絕。
[0019] 感測(cè)電極層206的制程可例如包含經(jīng)由涂布、濺渡或相似的制程將透明導(dǎo)電材料 (如氧化銦錫（Indium tin oxide，ΙΤ0))沉積，再透過微影制程、蝕刻制程或相似之制程來 圖案化出所需的感測(cè)電極層206。此外，感測(cè)電極層206亦可如網(wǎng)版印刷制程來直接進(jìn)行圖 案化印刷而成。前述的蝕刻區(qū)域即是由第一電極220X、第二電極220Y與絕緣層222所組成 的區(qū)域，而非蝕刻區(qū)域則是在夾在第一電極220X、第二電極220Y與絕緣層222之間的非觸 控區(qū)域。但本發(fā)明的感測(cè)電極層不限于第1B圖所示的圖案結(jié)構(gòu)。
[0020] 觸控面板200可進(jìn)一步包括光學(xué)補(bǔ)償層208,其形成于感測(cè)電極層206之下表面 上，用來與感測(cè)電極層206形成光學(xué)匹配，以接受一穿透蓋板202及感測(cè)電極層206的入射 光來反射出一反射光，該反射光可調(diào)和蝕刻區(qū)域與非蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。 如此一來，光學(xué)補(bǔ)償層206得以補(bǔ)償感測(cè)電極層206中因圖案化制程而導(dǎo)致蝕刻區(qū)域與非 蝕刻區(qū)域之間的反射率差異，讓蝕刻區(qū)域與非蝕刻區(qū)域在高低波段波長的光線下的反射率 差值較小，藉以有效地調(diào)整觸控面板200面對(duì)一外部光源100所反射出的反射光色調(diào)接近 自然光，而不會(huì)偏藍(lán)或偏黃。
[0021] 值得一提的是，在一實(shí)施例中，光學(xué)補(bǔ)償層208可為一單層或由多個(gè)層所組成的 復(fù)合層，光學(xué)補(bǔ)償層208可由包括玻璃、^^(^。…^〖^、^(^、或上述之組合等材質(zhì)所組成。 一些實(shí)施例中，光學(xué)補(bǔ)償層208為多個(gè)層所組成的復(fù)合層，其中上述復(fù)合層系由多個(gè)低折 射率層、高折射率層交替堆棧所形成。另一些實(shí)施例中，光學(xué)補(bǔ)償層208系由第一補(bǔ)償層與 第二補(bǔ)償層所堆棧之雙層復(fù)合層，其中第一補(bǔ)償層為Si0 2層而第二補(bǔ)償層為Nb205層，第一 補(bǔ)償層之厚度為5?60nm且折射率為1. 20?1. 70,而第二補(bǔ)償層之厚度為1?15nm且折 射率為1. 6?2. 5。此外，光學(xué)補(bǔ)償層208在實(shí)際設(shè)計(jì)上可配合感測(cè)電極層206之光學(xué)特 性（如折射率）及所需的反射光色調(diào)而設(shè)定其制程參數(shù)，并且光學(xué)補(bǔ)償層208之形成方法 可包括射頻濺鍍、蒸鍍、噴霧涂布、旋轉(zhuǎn)涂布、或刷涂。
[0022] 在本實(shí)施例中，觸控面板200更可進(jìn)一步包括一遮蔽組件203,遮蔽組件203的形 成區(qū)域用來定義出觸控面板200的非可視區(qū)NV，讓觸控面板200中對(duì)應(yīng)位于非可視區(qū)NV中 的外圍導(dǎo)電線路等非透明組件（圖未示）得以受到遮蔽組件203的遮蔽，而觸控面板200 的其余區(qū)域則為一可視區(qū)V。在觸控面板200的架構(gòu)中，非可視區(qū)NV通常是設(shè)計(jì)位于可視 區(qū)V的至少一外圍區(qū)域。在本實(shí)施例中，遮蔽組件203在可位于非可視區(qū)NV中的感測(cè)電極 層206與光學(xué)補(bǔ)償層208之間，特別系可形成于在非可視區(qū)NV中的感測(cè)電極層206之下表 面上，如此一來，本實(shí)施例的光學(xué)補(bǔ)償層208的具體形成位置在可視區(qū)V是形成于感測(cè)電極 層206的下表面，在非可視區(qū)NV則是形成于遮蔽組件203的下表面。
[0023] 上述遮蔽組件203可由光密度值不大于7之遮光材料形成，并且遮蔽組件203的 材料可為絕緣油墨、碳漿、石墨片或上述組合，并可以印刷或涂布等方式形成。遮蔽組件203 可視觸控面板200之外觀需求而選擇黑色、棕色、或任一種顏色的絕緣油墨，使觸控面板 200之外觀的非可視區(qū)NV呈現(xiàn)黑色、棕色、或其他顏色。
[0024] 本實(shí)施例之觸控面板200還包括一保護(hù)層（Passivation Layer) 210,其形成于光 學(xué)補(bǔ)償層208之下表面上，用來進(jìn)一步保護(hù)感測(cè)電極層206避免受到外部化學(xué)反應(yīng)或物理 變化而影響觸控感測(cè)的效果。保護(hù)層210可由透明塑料材料所組成，例如，聚對(duì)苯二甲酸乙 二酯（Polyethylene terephthalate, PET)。本發(fā)明實(shí)施例中，保護(hù)層210之形成方法包括 射頻濺鍍、蒸鍍、噴霧涂布、旋轉(zhuǎn)涂布、或刷涂。
[0025] 藉此，根據(jù)上述的說明，本實(shí)施例之觸控面板透過光學(xué)補(bǔ)償層208的設(shè)計(jì)，可以有 效地改善觸控面板200的色差光學(xué)問題，進(jìn)而在上述問題獲得改善之后而可提高觸控面板 200的可視區(qū)V的穿透率。
[0026] 請(qǐng)參考圖2，其繪示出本發(fā)明另一實(shí)施例中觸控面板的剖面示意圖。本實(shí)施例之觸 控面板300大致與圖1A之實(shí)施例的架構(gòu)相同，差異點(diǎn)在于，本實(shí)施例的遮蔽組件303可位 于非可視區(qū)NV中的蓋板302與感測(cè)電極層306之間，特別是可形成于非可視區(qū)NV中的蓋 板302之下表面上。
[0027] 請(qǐng)參考圖3,其繪示出本發(fā)明又一實(shí)施例中觸控面板的剖面示意圖。本實(shí)施例在 感測(cè)電極層406、遮蔽組件403、光學(xué)補(bǔ)償層408及保護(hù)層410所構(gòu)成的迭層架構(gòu)大致與第 1A圖之實(shí)施例相同，差異點(diǎn)在于,本實(shí)施例之觸控面板400進(jìn)一步包括一指數(shù)匹配（Index Matching)層404,其與上述迭層架構(gòu)之各層位于蓋板402的同一側(cè)，指數(shù)匹配層404與光 學(xué)補(bǔ)償層408在架構(gòu)上是分別對(duì)稱地位于感測(cè)電極層406的兩側(cè)，特別是指數(shù)匹配層404 是位于蓋板302與感測(cè)電極層306之間。在形成順序上，在感測(cè)電極層406形成之前，指數(shù) 匹配層404先形成于蓋板402之下表面上，換句話說，本實(shí)施例之感測(cè)電極層406是形成在 指數(shù)匹配層404的下表面上。本實(shí)施例的光學(xué)補(bǔ)償層408在設(shè)計(jì)上可以進(jìn)一步根據(jù)指數(shù)匹 配層404及感測(cè)電極層406的光學(xué)特性來進(jìn)行光學(xué)匹配。
[0028] 補(bǔ)充說明的是，感測(cè)電極層406的厚度往往會(huì)依據(jù)實(shí)際設(shè)計(jì)需求來決定，例如在 大尺寸觸控面板上，感測(cè)電極層406的厚度相對(duì)就需設(shè)計(jì)較厚以符合較低線阻的需求。如 此一來，這將使得圖案化感測(cè)電極層406所造成的蝕刻線更為明顯可視，因此本實(shí)施例在 感測(cè)電極層406及其后續(xù)迭層架構(gòu)形成之前，透過增加指數(shù)匹配層404來進(jìn)一步使蝕刻線 不易可見。其中，指數(shù)匹配層404是屬于抗反射層，用來避免感測(cè)電極層406的蝕刻線明顯 可視，并非用來提供光學(xué)補(bǔ)償層408所提供的調(diào)整觸控面板400面對(duì)外部光源100所反射 出的反射光顏色的效果。此外，指數(shù)匹配層404可由Nb205、Si02所形成，而指數(shù)匹配層404 之形成方法可包括射頻濺鍍、蒸鍍、噴霧涂布、旋轉(zhuǎn)涂布、或刷涂。
[0029] 請(qǐng)參照?qǐng)D4,其繪示出本發(fā)明再一實(shí)施例中觸控面板的剖面示意圖。本實(shí)施例之觸 控面板500大致與第3圖之實(shí)施例相同，同樣是讓指數(shù)匹配層504與光學(xué)補(bǔ)償層508分別 對(duì)稱地位于感測(cè)電極層506的兩側(cè)，而差異點(diǎn)在于，遮蔽組件503可位于非可視區(qū)NV中的 蓋板502與指數(shù)匹配層504之間，而指數(shù)匹配層504在非可視區(qū)NV中可位于遮蔽組件503 與感測(cè)電極層506之間，在可視區(qū)V中可位于蓋板502與感測(cè)電極層506之間。亦即本實(shí) 施例的遮蔽組件503可在指數(shù)匹配層504形成之前，先形成于蓋板500之下表面上，換句話 說，本實(shí)施例的指數(shù)匹配層504在可視區(qū)V是形成于蓋板502之下表面上，而在非可視區(qū)NV 則是形成于遮蔽組件503之下表面上。
[0030] 請(qǐng)參閱圖5,繪示出圖1A的觸控面板之制造方法的流程圖，在蓋板202的一側(cè)依序 形成感測(cè)電極層206 (步驟510)、遮蔽組件203 (步驟520)與光學(xué)補(bǔ)償層208 (步驟530)， 更進(jìn)一步可在步驟540形成保護(hù)層210。其整體的結(jié)構(gòu)關(guān)系可參第1A圖的觸控面板，在此 即不再加以贅述。
[0031] 請(qǐng)參閱圖6,繪示出圖2的觸控面板之制造方法的流程圖，在蓋板302的一側(cè)依序 形成遮蔽組件303 (步驟610)、感測(cè)電極層306 (步驟620)與光學(xué)補(bǔ)償層308 (步驟630)， 更進(jìn)一步可在步驟640形成保護(hù)層310。即本實(shí)施例是先形成遮蔽組件303于蓋板302的 下表面上，之后再形成感測(cè)電極層306于蓋板302及遮蔽組件303的下表面上。在形成感 測(cè)電極層306之后，再形成光學(xué)補(bǔ)償層308于感測(cè)電極層306之下表面。其整體的結(jié)構(gòu)關(guān) 系可參圖2的觸控面板，在此即不再加以贅述。
[0032] 請(qǐng)參閱圖7,繪示出圖3的觸控面板之制造方法的流程圖，在蓋板402的一側(cè)依序 形成指數(shù)匹配層404 (步驟710)、感測(cè)電極層406 (步驟720)、遮蔽組件403 (步驟730)與 光學(xué)補(bǔ)償層408 (步驟740)，更進(jìn)一步可在步驟750形成保護(hù)層410。其整體的結(jié)構(gòu)關(guān)系可 參第3圖的觸控面板，在此即不再加以贅述。
[0033] 請(qǐng)參閱圖8,繪示出圖4的觸控面板之制造方法的流程圖，在蓋板502的一側(cè)依序 形成遮蔽組件503 (步驟810)、指數(shù)匹配層504 (步驟820)、感測(cè)電極層506 (步驟830)與 光學(xué)補(bǔ)償層508 (步驟840)，更進(jìn)一步可在步驟850形成保護(hù)層510。其整體的結(jié)構(gòu)關(guān)系可 參第4圖的觸控面板，在此即不再加以贅述。
[0034] 綜合上述各觸控面板之制造方法，其步驟大致包括在一蓋板的一側(cè)分別形成一感 測(cè)電極層與一光學(xué)補(bǔ)償層，其中感測(cè)電極層位于蓋板與光學(xué)補(bǔ)償層之間，感測(cè)電極層上界 定有一蝕刻區(qū)域與一非蝕刻區(qū)域，而光學(xué)補(bǔ)償層是用來與感測(cè)電極層形成光學(xué)匹配，光學(xué) 補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透蓋板及感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和蝕刻區(qū)域與非蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形 成的反射光色調(diào)。
[0035] 上述各實(shí)施例中所揭露的觸控面板可進(jìn)一步透過一光學(xué)黏著層（未繪示）以與一 顯示器模塊（未繪示）貼合，以形成觸控顯示模塊而廣泛地應(yīng)用于各項(xiàng)電子產(chǎn)品中。另外， 在上述實(shí)施例中所揭露的各組件，其特性、材料與制造方式皆大致類似，即不在各實(shí)施例再 個(gè)別描述。
[0036] 綜上所述，本發(fā)明之指數(shù)匹配層的設(shè)計(jì)及應(yīng)用，能避免蝕刻線可視，使觸控面板用 于顯示器模塊時(shí)，觸控顯示器上不會(huì)有明顯的紋路。此外，光學(xué)補(bǔ)償層系配合感測(cè)電極層之 光學(xué)特性而設(shè)計(jì)制作，能使來自觸控面板外部光源的入射光在穿透感測(cè)電極層及光學(xué)補(bǔ)償 層后，反射出接近自然光色調(diào)的反射光，進(jìn)而使觀看者在觀看觸控面板時(shí)不會(huì)有偏藍(lán)或偏 黃等顏色異常的問題。再者，由于蝕刻線可視及反射光顏色的問題獲得解決，進(jìn)而本發(fā)明能 達(dá)到提高觸控面板的可視區(qū)的穿透率的效果。
[〇〇37] 雖然本發(fā)明已以數(shù)個(gè)較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬 【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作任意之更動(dòng)與潤飾， 因此本發(fā)明之保護(hù)范圍當(dāng)視后附之申請(qǐng)專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種觸控面板，其特征在于，包括： 一蓋板； 一光學(xué)補(bǔ)償層；以及 一感測(cè)電極層，位于該蓋板與該光學(xué)補(bǔ)償層之間，該感測(cè)電極層上界定有一蝕刻區(qū)域 與一非蝕刻區(qū)域； 其中該光學(xué)補(bǔ)償層是用來與該感測(cè)電極層形成光學(xué)匹配，該光學(xué)補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透 該蓋板及該感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和該蝕刻區(qū)域與該非蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光 色調(diào)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，更包括一遮蔽組件，該遮蔽組件的形 成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，該遮蔽組件在該非可視區(qū)中是位于該感測(cè) 電極層與該光學(xué)補(bǔ)償層之間。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，更包括一遮蔽組件，該遮蔽組件的形 成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，該遮蔽組件在該非可視區(qū)是位于該蓋板與 該感測(cè)電極層之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，更包括一指數(shù)匹配層，其中該指數(shù)匹 配層與該光學(xué)補(bǔ)償層分別對(duì)稱地位于該感測(cè)電極層的兩側(cè)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于，其中該指數(shù)匹配層是位于該蓋板與 該感測(cè)電極層之間。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控面板，其特征在于，更包括一遮蔽組件，該遮蔽組件的形 成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，該遮蔽組件在該非可視區(qū)是位于該感測(cè)電 極層與該光學(xué)補(bǔ)償層之間。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于，更包括一遮蔽組件，該遮蔽組件的形 成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，該觸控面板的其余區(qū)域則為一可視區(qū)，該 遮蔽組件在該非可視區(qū)是位于該蓋板與該指數(shù)匹配層之間。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控面板，其特征在于，其中該指數(shù)匹配層在該非可視區(qū)是 位于該遮蔽組件與該感測(cè)電極層之間，在該可視區(qū)是位于該蓋板與該感測(cè)電極層之間。
9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于，其中該指數(shù)匹配層之材質(zhì)與厚度相 同于該光學(xué)補(bǔ)償層。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，其中該光學(xué)補(bǔ)償層為一單層或由多 個(gè)層所組成的復(fù)合層。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，其中該光學(xué)補(bǔ)償層為多個(gè)低折射率 層、高折射率層交替堆棧形成之復(fù)合層。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，其中該光學(xué)補(bǔ)償層包括玻璃、Nb205、 Si02、ITO、Ti02或上述之組合。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，其中該光學(xué)補(bǔ)償層為包括由一第一 補(bǔ)償層與一第二補(bǔ)償層所堆棧之復(fù)合層，其中該第一補(bǔ)償層為Si0 2層而該第二補(bǔ)償層為 Nb205 層。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸控面板，其特征在于，其中該第一補(bǔ)償層的厚度為5? 60nm且折射率為1. 20?1. 70,而該第二補(bǔ)償層的厚度1?15nm且折射率為1. 6?2. 5。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于，更包括一保護(hù)層，形成于該光學(xué)補(bǔ) 償層上。
16. -種觸控面板的制造方法，其特征在于，包括：在一蓋板的一側(cè)分別形成一感測(cè)電 極層與一光學(xué)補(bǔ)償層，其中該感測(cè)電極層位于該蓋板與該光學(xué)補(bǔ)償層之間，該感測(cè)電極層 上界定有一蝕刻區(qū)域與一非蝕刻區(qū)域，而該光學(xué)補(bǔ)償層是用來與該感測(cè)電極層形成光學(xué)匹 配，該光學(xué)補(bǔ)償層會(huì)接收一穿透該蓋板及該感測(cè)電極層的入射光以調(diào)和該蝕刻區(qū)域與該非 蝕刻區(qū)域所對(duì)應(yīng)形成的反射光色調(diào)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，更包括形成一遮蔽組 件，該遮蔽組件的形成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，其中在該蓋板的一側(cè) 是依序形成該感測(cè)電極層、該遮蔽組件與該光學(xué)補(bǔ)償層。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，更包括形成一遮蔽組 件，該遮蔽組件的形成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，其中在該蓋板的一側(cè) 是依序形成該遮蔽組件、該感測(cè)電極層與該光學(xué)補(bǔ)償層。
20. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，更包括形成： 一指數(shù)匹配層，其中該指數(shù)匹配層與該光學(xué)補(bǔ)償層分別對(duì)稱地位于該感測(cè)電極層的兩 側(cè)；以及 一遮蔽組件，該遮蔽組件的形成區(qū)域是用來定義出該觸控面板的一非可視區(qū)，該觸控 面板的其余區(qū)域則為一可視區(qū)。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，其中在該蓋板的一側(cè) 是依序形成該指數(shù)匹配層、該感測(cè)電極層、該遮蔽組件與該光學(xué)補(bǔ)償層。
22. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的觸控面板的制造方法，其特征在于，其中在該蓋板的一側(cè) 是依序形成該遮蔽組件、該指數(shù)匹配層、該感測(cè)電極層與該光學(xué)補(bǔ)償層。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK104111746SQ201310139527
【公開日】2014年10月22日 申請(qǐng)日期:2013年4月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月20日
【發(fā)明者】許毅中, 張春勇, 楊立春, 徐國書, 施淵仁 申請(qǐng)人:宸鴻科技(廈門)有限公司