光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明揭示一種光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板，光學(xué)觸控校正方法用于光學(xué)觸控面板其包含投射光源以及線性光感測器，光學(xué)觸控校正方法包含下列步驟：以投射光源產(chǎn)生投射光線，投射光線經(jīng)反射至線性光感測器；利用線性光感測器量測反射后的投射光線，以得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線；計算反射強度曲線與基準(zhǔn)強度曲線的強度差異；以及，若強度差異高于一閾值，調(diào)整投射光源的發(fā)射功率以進行校正。
【專利說明】光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控面板，特別是涉及一種光學(xué)觸控面板及其控制方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在光學(xué)觸控系統(tǒng)下，光學(xué)感測器固定于觸控區(qū)的左右上角位置，因為外力會改變觸控的平面，造成觸控面板的形變，可能影響光學(xué)感測器(optical sensor)固定在左右上角平面的位置，使光學(xué)感測器的收光角度因此改變，導(dǎo)致接收的光訊號強度不足，進而產(chǎn)生雜訊或觸控失準(zhǔn)(如觸控感測時發(fā)生觸控訊號跳點等現(xiàn)象)。
[0003]目前市面上所有的光學(xué)觸控模塊大多采用使用平面型光學(xué)感測器(areaopticalsensor)來克服上述面板形變問題。由于，平面型光學(xué)感測器的可視角度為多角度，當(dāng)觸控平面發(fā)生形變時，平面型光學(xué)感測器可重新選擇其他最佳的可視角度。然而，平面型光學(xué)感測器在制造工藝上較為復(fù)雜、成本較高、占用體積也較大且消耗功率較高。再者，由于平面型光學(xué)感測器需要選擇最佳可視角度(例如挑選對應(yīng)不同角度的訊號線)的額外步驟，在運算上也需要較多時間取像。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明提供一種光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板，其光學(xué)觸控面板中設(shè)置線性光感測器(line optical sensor),藉由線性光感測器得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線，當(dāng)光學(xué)觸控面板上發(fā)生形變時，計算反射強度曲線與基準(zhǔn)強度曲線的強度差異，調(diào)整光源的強度來校正光學(xué)觸控面板的形變誤差，以解決上述問題。
[0005]依據(jù)本發(fā)明的一實施態(tài)樣，其揭示一種光學(xué)觸控校正方法，用于光學(xué)觸控面板其包含投射光源以及線性光感測器，光學(xué)觸控校正方法包含:以投射光源產(chǎn)生投射光線，投射光線經(jīng)反射至線性光感測器；利用線性光感測器量測反射后的投射光線，以得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線；計算量測到的反射強度曲線與基準(zhǔn)強度曲線的強度差異；以及，若強度差異高于第一閾值，調(diào)整投射光源的發(fā)射功率以進行校正。
[0006]依據(jù)本發(fā)明的另一實施態(tài)樣，其揭不一種光學(xué)觸控面板，包含邊框、投射光源、反射單元、線性光感測器以及控制單元。投射光源設(shè)置于邊框上，并用以產(chǎn)生投射光線。反射單元設(shè)置于邊框上，并用以反射投射光線。線性光感測器設(shè)置于邊框的第一側(cè)邊上，用以接收經(jīng)反射的投射光線，并量測反射后的投射光線，以得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線?？刂茊卧c投射光源以及線性光感測器耦接，用以計算量測到的反射強度曲線與基準(zhǔn)強度曲線的強度差異，若強度差異高于第一閾值，調(diào)整投射光源的發(fā)射功率以進行校正。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]為使本發(fā)明能更明顯易懂，本發(fā)明【專利附圖】

【附圖說明】如下:
[0008]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明中一種光學(xué)觸控校正方法的方法流程圖；
[0009]圖2A示出了根據(jù)本發(fā)明中一種光學(xué)觸控面板的上視示意圖；
[0010]圖2B示出了圖2A中光學(xué)觸控面板的功能方塊圖；
[0011]圖3A示出了當(dāng)光學(xué)觸控面板的面板區(qū)域未發(fā)生板彎形變時的側(cè)視示意圖；
[0012]圖3B示出了當(dāng)光學(xué)觸控面板的面板區(qū)域發(fā)生板彎形變時的側(cè)視示意圖；
[0013]圖4A至圖4D示出了各種不同情況下線性光感測器感測的反射強度曲線的示意圖；以及
[0014]圖4E示出了圖4C中的反射強度曲線經(jīng)校正后的反射強度曲線的示意圖。
[0015]附圖符號說明
[0016]為讓本
【發(fā)明內(nèi)容】
能更明顯易懂，附圖符號的說明如下:
[0017]100:光學(xué)觸控校正方法
[0018]S100 ?S112:步驟
[0019]200:光學(xué)觸控面板
[0020]201:面板區(qū)域
[0021]210:邊框
[0022]211、212、213:側(cè)邊
[0023]220:投射光源
[0024]230:反射單元
[0025]240:線性光感測器
[0026]250:控制單元
[0027]260:觸控單元
[0028]DIF:強度差異
[0029]RF1:第一閾值
[0030]RF2:第二閾值

【具體實施方式】
[0031]以下將以附圖及詳細敘述清楚說明本
【發(fā)明內(nèi)容】
的精神，本領(lǐng)域技術(shù)人員在了解本
【發(fā)明內(nèi)容】
的較佳實施例后，可由本
【發(fā)明內(nèi)容】
所教示的技術(shù)，加以改變及修飾，其并不脫離本
【發(fā)明內(nèi)容】
的精神與范圍。
[0032]請參閱圖1，其示出了根據(jù)本發(fā)明中一種光學(xué)觸控校正方法100的方法流程圖。于本實施例中，光學(xué)觸控校正方法100適用于光學(xué)觸控面板上，其至少包含投射光源以及線性光感測器。請一并參閱圖2A與圖2B，圖2A示出了根據(jù)本發(fā)明中一種光學(xué)觸控面板200的上視示意圖，圖2B示出了圖2A中光學(xué)觸控面板200的功能方塊圖。于此實施例中，光學(xué)觸控校正方法100可配合光學(xué)觸控面板200使用。
[0033]如圖2A所示，光學(xué)觸控面板200包含邊框210、投射光源220、反射單元230以及線性光感測器(line optical sensor)240o投射光源220設(shè)置于邊框210上。與圖2A的實施例來說，投射光源220可設(shè)置在邊框210的左上角，用以產(chǎn)生投射光線EL投射向光學(xué)觸控面板200的面板區(qū)域201，但本發(fā)明的投射光源220并不限于設(shè)置于左上角，亦可設(shè)置于邊框210的其他位置上。
[0034]如圖1所示，光學(xué)觸控校正方法100，首先執(zhí)行步驟S100，以投射光源220產(chǎn)生投射光線EL，投射光線EL經(jīng)反射至線性光感測器240。
[0035]反射單元230設(shè)置于邊框210上，用以將投射光線EL反射至線性光感測器240。線性光感測器240其本身感測光線的感應(yīng)部位為長條形直線區(qū)塊，于此實施例中，線性光感測器240設(shè)置于邊框210其中一側(cè)的側(cè)邊上，于圖2A的實施例中，線性光感測器240設(shè)置于邊框210的左側(cè)側(cè)邊211上，用以接收經(jīng)反射的投射光線EL。
[0036]此外，如圖2B所示，光學(xué)觸控面板200還包含控制單元250以及觸控單元260?？刂茊卧?50耦接至投射光源220、線性光感測器240及觸控單元260。觸控單元260耦接至控制單元250及線性光感測器240。
[0037]光學(xué)觸控校正方法100接著執(zhí)行步驟S102，利用線性光感測器240量測反射后的投射光線EL，以得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線。于此實施例中，線性座標(biāo)對應(yīng)左側(cè)側(cè)邊211的縱向座標(biāo)，也就是說，線性光感測器240可得到相對左側(cè)側(cè)邊211的縱向座標(biāo)的反射強度曲線。
[0038]為將投射光線EL反射至線性光感測器240，反射單元230至少設(shè)置于位置相對線性光感測器240的右側(cè)側(cè)邊212上。于實際應(yīng)用中，為了達到較完整的反射效果，反射單元230設(shè)置于邊框210的右側(cè)側(cè)邊212以及底部側(cè)邊213上，且位置相對線性光感測器240與投射光源220。
[0039]請一并參閱圖3A、圖3B、圖4A至圖4D。圖3A示出了當(dāng)光學(xué)觸控面板200的面板區(qū)域201未發(fā)生板彎形變時的側(cè)視示意圖。圖3B示出了當(dāng)光學(xué)觸控面板200的面板區(qū)域201發(fā)生板彎形變時的側(cè)視示意圖。圖4A至圖4D示出了各種不同情況(是否發(fā)生形變與是否有觸控事件)下線性光感測器240感測的反射強度曲線的示意圖。
[0040]如圖3A及圖3B所示，投射光源220產(chǎn)生的投射光線EL具有一定的投射范圍(自投射光線ELU起往下至投射光線ED及特定的投射中軸，在投射中軸上的投射光線ELh通常具有最高的投射強度，相對地，投射中軸兩側(cè)的投射光線ELU與EU2具有較低的投射強度。
[0041]如圖3A所示，當(dāng)光學(xué)觸控面板200的面板區(qū)域201未發(fā)生板彎形變時，通常投射光源220設(shè)定為將投射中軸上的投射光線ELh正對反射單元230。如此一來，線性光感測器240可量測訊號較佳(如反射強度較高、訊號較完整)的反射強度曲線，如圖4A所示的反射強度曲線RCref即是當(dāng)面板區(qū)域201未發(fā)生板彎形變且無觸控事件時量測到的反射強度曲線RC1，控制單元250可將此時的反射強度曲線RC1儲存并作為基準(zhǔn)強度曲線RCref。
[0042]另一方面，如圖3B所示，當(dāng)光學(xué)觸控面板200的面板區(qū)域201發(fā)生一定程度內(nèi)的板彎形變時，導(dǎo)致投射光源220產(chǎn)生的投射光線EL的投射中軸偏離原軸向，因此，投射中軸上的投射光線ELh并未正對反射單元230，而是較低投射強度的投射光線ELU正對反射單元230，并反射至線性光感測器240。如此一來，將影響到線性光感測器240所量測的的反射強度曲線。
[0043]如圖4C所示的反射強度曲線RC3即是當(dāng)面板區(qū)域201發(fā)生板彎形變且無觸控事件時量測到的反射強度曲線RC3，控制單元250可將此時的反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref，判斷目前的板彎形變情況的嚴(yán)重程度，作法細節(jié)詳述于下列段落。
[0044]如圖1所示，光學(xué)觸控校正方法100接著執(zhí)行步驟S104，計算量測到的反射強度曲線(例如圖4A至圖4D中的反射強度曲線RC1?RC4)與基準(zhǔn)強度曲線RCref的強度差異DIF。
[0045]以圖4A所例，當(dāng)未發(fā)生板彎形變且無觸控事件時，反射強度曲線RC1與基準(zhǔn)強度曲線RCref并無強度差異。也就是說，此時反射強度曲線RC1的強度差異趨近于0。
[0046]以圖4B所例，當(dāng)未發(fā)生板彎形變且有觸控事件時，反射強度曲線RC2與基準(zhǔn)強度曲線RCref的差異僅發(fā)生在觸控事件區(qū)間PTE，除此之外，反射強度曲線RC2與基準(zhǔn)強度曲線RCref并無強度差異。當(dāng)存在觸控點時，有物體阻隔在反射光線與線性光感測器240之間，將導(dǎo)致在線性座標(biāo)上的座標(biāo)范圍(即觸控事件區(qū)間PTE)內(nèi)，反射強度曲線RC2上呈現(xiàn)劇烈梯度變化。于此情況下，控制單元250則可將座標(biāo)范圍內(nèi)的反射強度曲線RC2排除在計算范圍之外，藉此排除真實的觸控事件影響用以抗形變的計算結(jié)果。也就是說，若排除觸控事件區(qū)間PTE，此時反射強度曲線RC2的強度差異DIF趨近于0。
[0047]以圖4C所例，當(dāng)發(fā)生板彎形變且無觸控事件時，反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref隨著線性座標(biāo)有不同程度的差異。
[0048]其中一種實施例中，計算反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref之間強度差異DIF的作法為，控制單元250取出兩者的平均差距相對比例，首先，基于反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref之間的差距在線性座標(biāo)上均勻地取樣得到多個差異值，接著，由將上述多個差異值平均以得到強度差異，舉例來說，圖4C平均得出的強度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準(zhǔn)強度曲線RCref下降了 16.25%。
[0049]計算的方式并不以平均為限，另一種實施例中，控制單元250首先將將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間(如圖4C所示的四個區(qū)間P1?P4);由四個區(qū)間中選擇至少一指定區(qū)間，例如可選擇影響較大的區(qū)間P2與P3、排除兩側(cè)的區(qū)間P1與P4 ;接著，計算指定區(qū)間(區(qū)間P2與P3)內(nèi)反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref在線性座標(biāo)上的多個差異值；并由差異值平均得到強度差異DIF。舉例來說，此種計算方法得到的強度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準(zhǔn)強度曲線RCref下降了 27%。
[0050]再一種實施例中，控制單元250將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間(如圖4C所示的四個區(qū)間P1?P4);針對每一個區(qū)間，計算每一個區(qū)間內(nèi)反射強度曲線RC3與基準(zhǔn)強度曲線RCref在線性座標(biāo)上的多個差異值，以得到每一個區(qū)間的區(qū)間差異；將區(qū)間差異加權(quán)平均得到強度差異DIF。每個區(qū)間可具有不同的權(quán)重。
[0051]以圖4D所例，當(dāng)發(fā)生板彎形變且有觸控事件時，反射強度曲線RC4與基準(zhǔn)強度曲線RCref隨著線性座標(biāo)有不同程度的差異?？刂茊卧?50可由反射強度曲線RC4與基準(zhǔn)強度曲線RCref計算其間的強度差異DIF (可參考上述圖4C實施例所介紹的各種方法)。同理，當(dāng)在線性座標(biāo)上的座標(biāo)范圍(即觸控事件區(qū)間PTE)內(nèi)，反射強度曲線RC4上呈現(xiàn)劇烈梯度變化。于此情況下，控制單元250則可將座標(biāo)范圍內(nèi)的反射強度曲線RC4排除在計算范圍之外，藉此排除真實的觸控事件影響用以抗形變的計算結(jié)果(可參考上述圖4B實施例)。
[0052]如圖1所示，光學(xué)觸控校正方法100執(zhí)行步驟S106，判斷上述強度差異DIF的大小。
[0053]若強度差異DIF小于第一閾值RF1 (例如5%或其他可容許的差異值),則表不目前面板區(qū)域201未發(fā)生板彎形變(可參考圖3A)或是形變情況并不嚴(yán)重，此時，光學(xué)觸控校正方法100執(zhí)行步驟S108，控制單元250將線性光感測器240感測到的反射強度曲線(可參考圖4B中的反射強度曲線RC2)傳送至觸控單元260，觸控單元260可執(zhí)行觸控點判斷功能，藉此完成光學(xué)觸控的功能。
[0054]若強度差異DIF大于第一閾值RF1 (例如5%或其他可容許的差異值)且小于第二閾值RF2 (例如70%或其他難以校正的過大差異值)，則表示目前面板區(qū)域201已發(fā)生板彎形變(可參考圖3B)，此時，光學(xué)觸控校正方法100執(zhí)行步驟S110，控制單元250調(diào)整投射光源220的發(fā)射功率以進行校正。
[0055]舉例來說，假設(shè)發(fā)生板彎形變，且線性光感測器量測到如圖4C所示的反射強度曲線RC3，此狀況下，強度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準(zhǔn)強度曲線RCref下降了16.25%，于步驟S110中，控制單元250調(diào)整投射光源220的發(fā)射功率提高相對應(yīng)的比例，盡可能使得校正后的反射強度曲線貼近基準(zhǔn)強度曲線RCref。請一并參閱圖4E，其示出了圖4C中的反射強度曲線RC3經(jīng)校正后的反射強度曲線RC3c的示意圖。如圖4E所示，控制單元250調(diào)整投射光源220與原先感測到的強度差異DIF成比例，使校正后的反射強度曲線RC3c其強度上升一定程度并貼近基準(zhǔn)強度曲線RCref。校正后的強度曲線RC3c其強度差異DIF將大幅降低至第一閾值RF1之下，便可恢復(fù)進行一般的光學(xué)觸控感測。
[0056]若強度差異DIF大于第二閾值RF2 (例如70%或其他難以校正的過大差異值)，則表示目前面板區(qū)域201已發(fā)生板彎形變(可參考圖3B)且板彎形變已過于嚴(yán)重，使得反射單元230已脫離投射光源220產(chǎn)生的投射光線EL的投射范圍。如此一來，投射光線EL已難以經(jīng)由反射單元230反射至線性光感測器240，即使調(diào)整投射光源220的發(fā)射功率亦難以進行校正。此時，光學(xué)觸控校正方法100執(zhí)行步驟S112，停止觸控點判斷功能并維持先前的觸控狀態(tài)，并且控制單元250產(chǎn)生錯誤訊息通知使用者。
[0057]綜上所述，本發(fā)明提供一種光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板，其光學(xué)觸控面板中設(shè)置線性光感測器(line optical sensor),藉由線性光感測器得到相對于線性座標(biāo)的反射強度曲線，當(dāng)光學(xué)觸控面板上發(fā)生形變時，計算反射強度曲線與基準(zhǔn)強度曲線的強度差異，調(diào)整光源的強度來校正光學(xué)觸控面板的形變誤差。
[0058]此外，本發(fā)明使用線性光感測器并提供一個抗變形的方法。線性光感測器的成本較低、體積較小、運算速度較快。若是有外力改變了光源的發(fā)射角度或光感測器的收光角度，本發(fā)明的光學(xué)觸控校正方法及光學(xué)觸控面板可判斷此種情況為觸控平面的變形，并對變形情況進行處理，避免錯誤的雜訊、跳點產(chǎn)生，使觸控功能可正常操作。
[0059]雖然本發(fā)明已以實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可作各種的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍是以本發(fā)明的權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)觸控校正方法，用于一光學(xué)觸控面板包含一投射光源以及一線性光感測器，該光學(xué)觸控校正方法包含: 以該投射光源產(chǎn)生一投射光線，該投射光線經(jīng)反射至該線性光感測器； 利用該線性光感測器量測反射后的該投射光線，以得到相對于線性座標(biāo)的一反射強度曲線； 計算量測到的該反射強度曲線與一基準(zhǔn)強度曲線的一強度差異；以及 若該強度差異高于一第一閾值，調(diào)整該投射光源的發(fā)射功率以進行校正。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，還包含: 若該強度差異低于該第一閾值，利用該線性光感測器感測到的該反射強度曲線，執(zhí)行觸控點判斷功能。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)觸控校正方法，還包含: 若該強度差異高于一第二閾值，停止觸控點判斷功能并維持先前的觸控狀態(tài)，其中該第二閾值大于該第一閾值。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中計算該強度差異的步驟包含: 由該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線之間的差距，在線性座標(biāo)上取樣得到多個差異值；以及 由這些差異值平均得到該強度差異。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中計算該強度差異的步驟包含: 將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間； 由這些區(qū)間中選擇至少一指定區(qū)間； 計算在該至少一指定區(qū)間內(nèi)該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線在線性座標(biāo)上的多個差異值；以及 由這些差異值平均得到該強度差異。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中計算該強度差異的步驟包含: 將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間； 針對每一個區(qū)間，計算每一個區(qū)間內(nèi)該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線在線性座標(biāo)上的多個差異值，以得到每一個區(qū)間的一區(qū)間差異；以及將這些區(qū)間差異加權(quán)平均得到該強度差異。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中計算該強度差異的步驟包含: 若在線性座標(biāo)上的一座標(biāo)范圍內(nèi)，該反射強度曲線上呈現(xiàn)一劇烈梯度變化，則將該座標(biāo)范圍內(nèi)的該反射強度曲線排除計算。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中當(dāng)該光學(xué)觸控面板無形變時，利用該線性光感測器量測反射后的該投射光線以得到相對于線性座標(biāo)的一強度曲線作為該基準(zhǔn)強度曲線。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控校正方法，其中該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線的該強度差異，對應(yīng)該光學(xué)觸控面板上的一形變彎曲程度。
10.一種光學(xué)觸控面板，包含: 一邊框； 一投射光源，設(shè)置于該邊框上，用以產(chǎn)生一投射光線； 一反射單元，設(shè)置于該邊框上，用以反射該投射光線； 一線性光感測器，設(shè)置于該邊框的一第一側(cè)邊上，用以接收經(jīng)反射的該投射光線，并量測反射后的該投射光線，以得到相對于線性座標(biāo)的一反射強度曲線； 一控制單元，與該投射光源以及該線性光感測器耦接，用以計算量測到的該反射強度曲線與一基準(zhǔn)強度曲線的一強度差異，若該強度差異高于一第一閾值，調(diào)整該投射光源的發(fā)射功率以進行校正。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中該反射單元至少設(shè)置于該邊框的一第二側(cè)邊上，且位置相對該線性光感測器。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)觸控面板，其中該反射單元設(shè)置于該邊框的該第二側(cè)邊以及一第三側(cè)邊上，且位置相對該線性光感測器與該投射光源。
13.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，還包含: 一觸控單元，與該線性光感測器以及該控制單元耦接，若該強度差異低于該第一閾值，該觸控單元利用該線性光感測器感測到的該反射強度曲線，執(zhí)行觸控點判斷功能。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸控面板,其中若該強度差異高于一第二閾值,該觸控單元停止觸控點判斷功能并維持先前的觸控狀態(tài)，該第二閾值大于該第一閾值。
15.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中該控制單元藉由該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線之間的差距，在線性座標(biāo)上取樣得到多個差異值，并由這些差異值平均得到該強度差異。
16.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中該控制單元將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間，由這些區(qū)間中選擇至少一指定區(qū)間，計算在該至少一指定區(qū)間內(nèi)該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線在線性座標(biāo)上的多個差異值，該控制單元由這些差異值平均得到該強度差巳
17.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中該控制單元將線性座標(biāo)區(qū)分為多個區(qū)間，針對每一個區(qū)間，計算每一個區(qū)間內(nèi)該反射強度曲線與該基準(zhǔn)強度曲線在線性座標(biāo)上的多個差異值，以得到每一個區(qū)間的一區(qū)間差異，該控制單元將這些區(qū)間差異加權(quán)平均得到該強度差異。
18.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板,其中若在線性座標(biāo)上的一座標(biāo)范圍內(nèi)，該反射強度曲線上呈現(xiàn)一劇烈梯度變化，該控制單元將該座標(biāo)范圍內(nèi)的該反射強度曲線排除計笪
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19.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中當(dāng)該光學(xué)觸控面板無形變時，該控制單元利用該線性光感測器量測反射后的該投射光線以得到相對于線性座標(biāo)的一強度曲線作為該基準(zhǔn)強度曲線。
20.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控面板，其中該控制單元計算得到的該強度差異，對應(yīng)該光學(xué)觸控面板上的一形變彎曲程度。
【文檔編號】G06F3/042GK104423725SQ201310424336
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2013年9月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月30日
【發(fā)明者】呂幗閑, 陳裕彥 申請人:緯創(chuàng)資通股份有限公司