觸控用電極結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，包括一可撓性基板以及多個(gè)電極線，其中電極線包括一第一接著層、一第二接著層、一導(dǎo)電層、一第一抗蝕層以及一第二抗蝕層。借此上述配置，本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)可利用第一接著層與可撓性基板產(chǎn)生強(qiáng)力附著，加上第二接著層強(qiáng)化第一接著層與導(dǎo)電層的粘著性，進(jìn)而使導(dǎo)電層可穩(wěn)固附著于可撓性基板上，即使基板形狀改變也不易脫落。本實(shí)用新型也提供可將反射的金屬光澤散射至不同角度使人眼不易于觀察到及降低背光干涉的電極結(jié)構(gòu)。
【專利說明】觸控用電極結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是關(guān)于一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，特別是指一種用于可撓性觸控面板的電極結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有觸控面板為了讓電極不易被視認(rèn)，所以普遍使用氧化銦錫(ITO)來形成電極。但隨著觸控面板逐漸往大尺寸發(fā)展，使用氧化銦錫的電極具有一些不利的因素，例如電阻大、觸控回應(yīng)速度慢等。因此，已有從業(yè)人員嘗試以金屬細(xì)線來構(gòu)成電極。
[0003]一般以金屬導(dǎo)體形成電極的觸控面板，由于金屬導(dǎo)體與一般常用基板之間附著力不佳，因此常常發(fā)生電極脫落的現(xiàn)象，進(jìn)而影響觸控面板表現(xiàn)，若是應(yīng)用于可撓式觸控面板上，更會因?yàn)榛宓男螤钤诃h(huán)境條件變化下常常改變而加劇電極脫落現(xiàn)象的發(fā)生。
[0004]此外，金屬導(dǎo)體極易產(chǎn)生金屬光澤反光，使人眼易觀察到金屬導(dǎo)體的存在。因此，發(fā)展一種于可撓式觸控面板上形成電極時(shí)可避免脫落的電極結(jié)構(gòu)，同時(shí)具有不易被看見的特性，實(shí)乃為本領(lǐng)域亟需努力的目標(biāo)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的在提供一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，能提供一種可穩(wěn)固附著于可撓性基板，同時(shí)降低金屬反光的觸控用電極結(jié)構(gòu)。
[0006]本實(shí)用新型提供一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，包括一可撓性基板以及多個(gè)電極線，而電極線乃設(shè)置于可撓性基板上，其中電極線包括一第一接著層，設(shè)置于該可撓性基板上；一第二接著層，設(shè)置于該第一接著層上；一導(dǎo)電層，設(shè)置于該第二接著層上；以及一第一抗蝕層，設(shè)置于該導(dǎo)電層上。
[0007]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第一接著層、該第二接著層、該導(dǎo)電層及該第一抗蝕層在該可撓性基板上形成一階梯狀表面。
[0008]本實(shí)用新型的一較佳實(shí)施例，其中電極線可還包含一第二抗蝕層，第二抗蝕層至少覆蓋導(dǎo)電層的側(cè)邊，也可完整地覆蓋第一抗蝕層、導(dǎo)電層、第二接著層以及第一接著層于可撓性基板上。第二抗蝕層可將光線反射至不同角度，使人眼無法接觸到反射光，借此達(dá)到抗反射的效果。
[0009]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第二抗蝕層為具有階梯狀表面的薄層。
[0010]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第二抗蝕層具有顆粒狀表面，且所形成的顆粒直徑范圍介于300至800nm之間。
[0011]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第二抗蝕層為具有曲面的薄層。
[0012]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第一接著層、該第二接著層、該導(dǎo)電層及該第一抗蝕層具有不平整表面。
[0013]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該可撓性基板的材料包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亞胺、聚亞苯基砜、聚酰亞胺及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。[0014]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該第一接著層的材料包括高分子材料、氧化物材料、金屬材料及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
[0015]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該高分子材料包含壓克力、聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亞胺、聚亞苯基砜、聚酰亞胺及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
[0016]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該氧化物材料包含氧化鈦、氧化鉭、氧化硅、氧化鋁及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
[0017]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該金屬材料包含銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
[0018]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該第二接著層的材料包括銅、銀、鑰、鎳、鉻、鈦、錫、鋅、鋁、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
[0019]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該導(dǎo)電層的材料包括銅、金、銀、鋁、鎢、鐵、鎳、鉻、鈦、鑰、錫、鋅及其合金所組成的群組其中之一。
[0020]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該第一抗蝕層的材料包括銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
[0021]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中形成該第二抗蝕層的材料包括氧化物材料、高分子材料、碳及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
[0022]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該氧化物材料包括氧化硅、氧化鈦、氧化鋁及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
[0023]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該高分子材料包括壓克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚對苯二甲酸乙二酯及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
[0024]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第一接著層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間，及該第二接著層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間,及該導(dǎo)電層的厚度為0.001 μ m至5 μ m之間，及該第一抗蝕層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間，及該第二抗蝕層的厚度為0.001 μ m至
Iμ m之間。
[0025]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該第一接著層的反射率系介于1%至50%之間，及該第二接著層的反射率介于1%至50%之間，及該第一抗蝕層的反射率介于1%至50%之間，及該第二抗蝕層的反射率介于1%至50%之間，及該第一接著層與該第二接著層的總反射率在30%以下，及該第一抗蝕層與該第二抗蝕層的總反射率在30%以下。
[0026]上述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該導(dǎo)電層為一種純金屬材料，且該第二接著層的材料成分中具有50%以上的該純金屬材料，且該第一接著層的材料成分中具有50%以下的該純金屬材料。
[0027]在本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)的電極線中，第一接著層用于提高對可撓性基板的附著性，第二接著層用于提高導(dǎo)電層與第一接著層的粘著性。
[0028]借助于上述配置，本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)可利用第一接著層與可撓性基板產(chǎn)生強(qiáng)力附著，加上第二接著層強(qiáng)化第一接著層與導(dǎo)電層的粘著性，進(jìn)而使導(dǎo)電層可穩(wěn)固附著于可撓性基板上，即使基板形狀改變也不易脫落。再者，借助于控制各層蝕刻率以產(chǎn)生階梯狀表面的電極結(jié)構(gòu)，可進(jìn)一步將光線散射，降低被看見的可能性。
[0029]為了能更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型所采取的技術(shù)、方法及功效，請參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明、附圖，相信本實(shí)用新型的目的、特征與特點(diǎn)，當(dāng)可由此得以深入且具體的了解，然而附圖與說明僅提供參考與說明用，并非用來對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍加以限制。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]圖1是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例1的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖；
[0031]圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例2的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖；
[0032]圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例3的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖；
[0033]圖4是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例4的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖；
[0034]圖5是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例5的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖；
[0035]圖6是應(yīng)用本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)的觸控裝置示意圖。
[0036]【主要元件附圖標(biāo)記說明】
[0037]11可撓性基板
[0038]12第一接著層
[0039]13第二接著層
[0040]14 導(dǎo)電層
[0041]15第一抗蝕層
[0042]19 電極線
[0043]26第二抗蝕層
[0044]36第二抗蝕層
[0045]46第二抗蝕層
[0046]52第一接著層
[0047]53第二接著層
[0048]54導(dǎo)電層
[0049]55第一抗蝕層
[0050]56第二抗蝕層
【具體實(shí)施方式】
[0051]以下將通過實(shí)施例來解釋本實(shí)用新型的一種觸控用電極結(jié)構(gòu)。需要說明的是，本實(shí)用新型的實(shí)施例并非用以限制本實(shí)用新型需在如下所述的任何特定的環(huán)境、應(yīng)用或特殊方式才能實(shí)施。因此，關(guān)于實(shí)施例的說明僅為闡釋本實(shí)用新型的目的，而非用以限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0052]請參考圖1，為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例1的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。在此實(shí)施例中，本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)包含一可撓性基板11以及多條電極線19(圖1僅示出一條)，于實(shí)際應(yīng)用中電極線19可并列設(shè)置于可撓性基板11上。其中電極線19包括一第一接著層12，設(shè)置于可撓性基板11上；一第二接著層13，設(shè)置于第一接著層12上；一導(dǎo)電層
14,設(shè)置于第二接著層13上；以及一第一抗蝕層15,設(shè)置于導(dǎo)電層14上。
[0053]詳細(xì)而言，第一接著層12被覆于可撓性基板11上，用于提高對可撓性基板11的附著性，并具有抗反射、抗干涉、抗彩虹紋、耐磨、抗刮痕以及提高人眼觀察舒適度等效用；第二接著層13被覆于第一接著層12上，用于提高導(dǎo)電層14與第一接著層12之間的粘著性，并維持電極線19整體的導(dǎo)電率；導(dǎo)電層14被覆于第二接著層13上，主要用于導(dǎo)電；第一抗蝕層15被覆于導(dǎo)電層14上，其抗蝕性較導(dǎo)電層14為佳，可避免導(dǎo)電層14于制作時(shí)(蝕亥IJ)被嚴(yán)重側(cè)蝕，以使電極線19可保有正常線寬。
[0054]整體而言，第一接著層12能夠與可撓性基板11形成強(qiáng)附著力，加上第二接著層13可促進(jìn)第一接著層12與導(dǎo)電層14之間的附著力，此雙層接著結(jié)構(gòu)可讓導(dǎo)電層14穩(wěn)固附著于可撓性基板11上，不易脫落，并具有抗反射、抗干涉、抗彩虹紋、耐磨、抗刮痕以及提高人眼觀察舒適度等效用；而第一抗蝕層15可以延緩金屬電極的氧化或腐蝕。
[0055]為了達(dá)到上述功效，形成可撓性基板11的材料可包括聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯亞胺(PEI)、聚亞苯基砜(PPSU)、聚酰亞胺(PI)等及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
[0056]再者，形成第一接著層12的材料包括高分子材料、氧化物材料、金屬材料及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一，詳細(xì)而論，高分子材料用以提高第一接著層12與可撓性基板11的附著性，氧化物材料用以抗反射、抗干涉、抗彩虹紋、耐磨以及抗刮痕，金屬材料則用以提高第一接著層12與第二接著層13的附著性。高分子材料可包含壓克力、聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亞胺、聚亞苯基砜、聚酰亞胺及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一；氧化物材料可為非晶型或多晶型的氧化物薄膜或粉末，可包含氧化鈦、氧化鉭、氧化硅、氧化鋁及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一；金屬材料則可包含銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一。需要強(qiáng)調(diào)的是，上述高分子材料、氧化物材料及金屬材料三者皆可單獨(dú)使用或是以兩/三種材料而形成混合或多層的復(fù)合材料，例如:高分子與氧化物材料的復(fù)合材料、高分子與金屬的復(fù)合材料、氧化物與金屬的復(fù)合材料、高分子與氧化物與金屬的復(fù)合材料等，若使用復(fù)合材料，其比例范圍為高分子材料10-90%、氧化物材料10-90%、金屬材料10-90%。其中氧化物材料也可為一多層的復(fù)合材料，于一較佳實(shí)施例中，可選用氧化娃厚度900nm、氧化鈦厚度IOOnm的多層氧化物。此外,整體而言,第一接著層12的厚度較佳在0.0Olym至Iym的范圍之間，而且第一接著層12具有一反射率范圍為介于1%至50%之間，較佳反射率則在30%以下。
[0057]在本實(shí)用新型中，形成第二接著層13的材料可包括銅、銀、鑰、鎳、鉻、鈦、錫、鋅、鋁、鐵及其合金所組成的群組其中之一，其厚度較佳在0.001 μ m至I μ m的范圍之間。第二接著層13具有一反射率范圍為介于1%至50%之間，較佳反射率則在30%以下。此外，以整體來看，第一接著層12與第二接著層13的總反射率須在30%以下為佳。
[0058]在本實(shí)用新型中，形成導(dǎo)電層14的材料可包括銅、金、銀、鋁、鎢、鐵、鎳、鉻、鈦、鑰、錫、鋅及其合金所組成的群組其中之一，其厚度較佳在0.001 μ m至5 μ m的范圍之間。
[0059]為達(dá)到接著性與導(dǎo)電性的最佳化，若導(dǎo)電層14為一種純金屬材料，則第二接著層13的材料成分中具有50%以上的該純金屬材料，且第一接著層12的材料成分中具有50%以下的該純金屬材料。于一較佳實(shí)施例中，導(dǎo)電層14可為純銅導(dǎo)線，第一接著層12可為鎳銅鉻鐵合金，其中鎳、銅、鉻、鐵的成分比例約為60:30:10:0或80:10:5:5，第一接著層12也可包含其他微量元素如硅、磷等；另外，第二接著層13則為銅鎳鉻合金，第二接著層13中銅、鎳、鉻的成分比例為60:30:10，然而第二接著層13也可包含其他微量元素如硅、磷等。
[0060]在本實(shí)用新型中，形成第一抗蝕層15的材料可包括銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一，于一較佳實(shí)施例中，其厚度較佳在0.001 μ m至Ιμπι的范圍之間。第一抗蝕層15具有一反射率范圍為介于1%至50%之間，較佳反射率則在30%以下。
[0061]于制造本實(shí)用新型電極結(jié)構(gòu)的過程中，借此控制各層蝕刻率可將第一接著層12、第二接著層13、導(dǎo)電層14、第一抗蝕層15于可撓性基板11上形成一階梯狀表面(如圖1所示)，由于此階梯狀表面為一不規(guī)則形狀，所以當(dāng)光線自電極表面反射，反射光線會散射至不同角度，使人眼不易觀察到電極結(jié)構(gòu)的存在。
[0062]圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例2的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。于本實(shí)用新型中，電極線19可還包含一第二抗蝕層26，設(shè)置于第一抗蝕層15上，第二抗蝕層26至少需包覆到導(dǎo)電層14的側(cè)邊，也可視情況需要，完整包覆第一抗蝕層15、導(dǎo)電層14、第二接著層13以及第一接著層12于可撓性基板11上。第二抗蝕層26包覆于第一抗蝕層15上，目的在于提高導(dǎo)電層14的抗腐蝕性、減少金屬電極受異物摩擦損壞的機(jī)會并降低金屬電極正面和側(cè)面的反光。
[0063]在本實(shí)用新型中，形成第二抗蝕層26的材料可包括氧化物材料、高分子材料及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。氧化物材料可包含氧化硅、氧化鈦、氧化鋁及其復(fù)合物所組成的群組其中之一；而高分子材料可包括壓克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚對苯二甲酸乙二酯、碳及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。若使用復(fù)合材料，其比例范圍為高分子材料10-90%、氧化物材料10-90%。此外，整體而言，第二抗蝕層26的厚度較佳在0.001 μπι至Ιμπι的范圍之間。第二抗蝕層26具有一反射率范圍為介于1%至50%之間，較佳反射率則在30%以下。此外，以整體來看，第一抗蝕層15與第二抗蝕層26的總反射率須在30%以下為佳。
[0064]圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例3的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖4是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例4的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。圖3、圖4與圖2的差異點(diǎn)在于，圖3的第二抗蝕層36為具有階梯狀表面的薄層。圖4的第二抗蝕層46具有顆粒狀表面，其形成的顆粒直徑小于900nm，且較佳直徑范圍介于300至800nm的間。圖2的第二抗蝕層26則為具有曲面的薄層。第二抗蝕層26、36、46除了可防止電極腐蝕外，還具有降低金屬電極反光的效果。圖5是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例5的觸控用電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。比對圖5與圖2，二者電極結(jié)構(gòu)皆有曲面薄層的第二抗蝕層26、56，但是圖5與圖2不同之處在于，第一接著層52、第二接著層53、導(dǎo)電層54、第一抗蝕層55,皆具有不平整表面,如此可進(jìn)一步降低金屬電極反光的效果。
[0065]需說明的是，上述各元件所使用的材料以及較佳厚度僅為詳述各元件欲達(dá)到的功效而舉例說明，并非用以限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，只要可達(dá)到相同功效，材料及厚度皆不以此為限。
[0066]接下來請參考圖6，是應(yīng)用本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)的觸控裝置示意圖。由圖可見本實(shí)用新型觸控用電極結(jié)構(gòu)的可撓式基板11及多個(gè)電極線19于實(shí)際應(yīng)用時(shí)的概況，圖6中可撓式基板11上、下表面的電極線19彼此絕緣重疊，當(dāng)電極線19導(dǎo)電后，可進(jìn)行電容值偵測。需強(qiáng)調(diào)的是，圖6中電極線19突出可撓性基板11僅為方便示意，并非實(shí)際情況。
[0067]綜上所述，本實(shí)用新型可提供一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，利用第一接著層12與可撓性基板11產(chǎn)生強(qiáng)力附著，加上第二接著層13強(qiáng)化第一接著層12與導(dǎo)電層14的粘著性，使電極線19可穩(wěn)固粘著于可撓性基板11上，再配合第一抗蝕層15延緩導(dǎo)電層14的氧化或腐蝕，第二抗蝕層26、36、46、56則至少包覆導(dǎo)電層14的側(cè)邊，此雙重保護(hù)機(jī)制可有效防止電極氧化或接觸水氣而腐蝕，延長壽命。由于本實(shí)用新型的電極結(jié)構(gòu)具有一階梯狀表面，所以可降低金屬電極的反光，若加上利用氧化物材料形成第二接著層13及第二抗蝕層26、36、46,56,更可抗反射、抗干涉、抗彩虹紋，達(dá)到視覺舒適的需求。
[0068]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳可行實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括: 一可撓性基板；以及 多個(gè)電極線，設(shè)置于該可撓性基板上，其中該多個(gè)電極線至少其中之一包括: 一第一接著層，設(shè)置于該可撓性基板上； 一第二接著層，設(shè)置于該第一接著層上； 一導(dǎo)電層，設(shè)置于該第二接著層上；以及 一第一抗蝕層，設(shè)置于該導(dǎo)電層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第一接著層、該第二接著層、該導(dǎo)電層及該第一抗蝕層在該可撓性基板上形成一階梯狀表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該多個(gè)電極線至少其中之一還包含一第二抗蝕層,該第二抗蝕層至少覆蓋該導(dǎo)電層的側(cè)邊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第二抗蝕層為具有階梯狀表面的薄層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第二抗蝕層具有顆粒狀表面，且所形成的顆粒直徑范圍介于300至SOOnm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第二抗蝕層為具有曲`面的薄層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第一接著層、該第二接著層、該導(dǎo)電層及該第一抗蝕層具有不平整表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該可撓性基板的材料包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亞胺、聚亞苯基砜、聚酰亞胺及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該第一接著層的材料包括高分子材料、氧化物材料、金屬材料及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該高分子材料包含壓克力、聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亞胺、聚亞苯基砜、聚酰亞胺及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該氧化物材料包含氧化鈦、氧化鉭、氧化硅、氧化鋁及其復(fù)合材料所組成的群組其中之一。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其中該金屬材料包含銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該第二接著層的材料包括銅、銀、鑰、鎳、鉻、鈦、錫、鋅、鋁、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該導(dǎo)電層的材料包括銅、金、銀、鋁、鎢、鐵、鎳、鉻、鈦、鑰、錫、鋅及其合金所組成的群組其中之一。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該第一抗蝕層的材料包括銅、銀、鋁、鑰、鎳、鉻、鈦、硅、錫、鋅、鐵及其合金所組成的群組其中之一。
16.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中形成該第二抗蝕層的材料包括氧化物材料、高分子材料、碳及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該氧化物材料包括氧化硅、氧化鈦、氧化鋁及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該高分子材料包括壓克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚對苯二甲酸乙二酯及其復(fù)合物所組成的群組其中之一。
19.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第一接著層的厚度為0.0Ol μ m至I μ m之間,及該第二接著層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間,及該導(dǎo)電層的厚度為0.001 μ m至5 μ m之間,及該第一抗蝕層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間,及該第二抗蝕層的厚度為0.001 μ m至I μ m之間。
20.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該第一接著層的反射率介于1%至50%之間，及該第二接著層的反射率介于1%至50%之間，及該第一抗蝕層的反射率介于1%至50%之間，及該第二抗蝕層的反射率介于1%至50%之間，及該第一接著層與該第二接著層的總反射率在30%以下，及該第一抗蝕層與該第二抗蝕層的總反射率在30%以下。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控用電極結(jié)構(gòu)，其特征在于，其中該導(dǎo)電層為一種純金屬材料，且該第二接著層的材料成分中具有50%以上的該純金屬材料，且該第一接著層的材料成分中具有50%以下的該純金屬材 料。
【文檔編號】G06F3/041GK203480455SQ201320460275
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月30日
【發(fā)明者】葉裕洲, 葉宗和, 廖思凱, 崔久震 申請人:介面光電股份有限公司