模擬方法和模擬設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及模擬方法和模擬設(shè)備。對第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個位置模式和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算偏斜(步驟S20)，第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型包括差動線上側(cè)的一個玻璃布，第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型包括差動線下側(cè)的一個玻璃布，并且關(guān)于多個布線板模式對計(jì)算出的偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，其中多個布線板模式是通過對由組合第一模型的多個位置模式獲得的多個組合模式和由組合第二模型的多個位置模式獲得的多個組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的，然后基于總偏斜來獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布(步驟S30)。
【專利說明】模擬方法和模擬設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本文公開的實(shí)施例涉及模擬方法和模擬設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子裝備中信號傳輸速度的增加，差動傳輸通常作為對由傳輸損耗的增加引起的S/N比降低進(jìn)行補(bǔ)償?shù)募夹g(shù)。在差動傳輸中，包括P線和N線的兩條線作為一組并且在其中傳輸具有彼此相反相位的信號。結(jié)果，在接收側(cè)在這兩條線上出現(xiàn)具有基本相同相位的共同噪聲。通過取信號之差來消除該共同噪聲。從而可以提高S/N比。
[0003]例如，在包括玻璃布和差動線的布線板中，玻璃布的介電常數(shù)一般比樹脂的介電常數(shù)高，因此，在玻璃布量小的區(qū)域中傳播延遲小，而在玻璃布量大的區(qū)域中傳播延遲大。因此，產(chǎn)生線間傳播延遲時間差(skew:偏斜)，并且共同噪聲消除率下降。近年來隨著信號傳輸速度增加，該偏斜對傳輸特征的影響不能被忽略。
[0004]因此，為了以高準(zhǔn)確度進(jìn)行傳輸路徑設(shè)計(jì)，需要考慮到偏斜的傳輸模擬。例如，為了預(yù)測包括玻璃布和差動線的布線板中的偏斜，使用三維數(shù)值分析工具進(jìn)行電磁分析來對布線板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行建模。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]另外，由于偏斜依賴于玻璃布和差動線之間的位置關(guān)系，所以認(rèn)為偏斜具有特定的分布。此外，根據(jù)玻璃布相對于差動線的斜度，布線板中差動線和玻璃布之間的位置關(guān)系可能具有幾種模式。因此，為了預(yù)測特定布線板中的偏斜，必須獲取該布線板中的偏斜分布(偏斜統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù))，并且預(yù)測準(zhǔn)確度取決于分析樣本的數(shù)量。
[0006]然而，由于三維數(shù)值分析工具直接將目標(biāo)結(jié)構(gòu)三維網(wǎng)格化，所以如果分析樣本數(shù)量增加，則計(jì)算時間和計(jì)算量急劇增加。
[0007]因此，本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種模擬方法和模擬設(shè)備，其能夠抑制通過三維數(shù)值分析工具進(jìn)行電磁場分析的計(jì)算成本，并且能夠以高準(zhǔn)確度和高速度獲取偏斜分布。
[0008]根據(jù)實(shí)施例的一方面，一種模擬方法和模擬設(shè)備包括:通過對第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第一位置模式的每個第一位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第一位置模式的每個第一位置模式中在一對第一差動線之間產(chǎn)生的第一偏斜，所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括所述一對第一差動線上側(cè)的一個第一玻璃布，所述多個第一位置模式具有所述第一差動線和所述第一玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系，以及通過對第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第二位置模式的每個第二位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第二位置模式的每個第二位置模式中在一對第二差動線之間產(chǎn)生的第二偏斜，所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括在所述一對第二差動線下側(cè)的一個第二玻璃布，所述多個第二位置模式具有所述第二差動線和所述第二玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系；以及針對通過對多個第一組合模式和多個第二組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的多個布線板模式的每個布線板模式，通過對構(gòu)成所述多個第一組合模式的每個第一組合模式的所述多個第一位置模式的每個第一位置模式的第一偏斜求和，以及對構(gòu)成所述多個第二組合模式的每個第二組合模式的所述多個第二位置模式的每個第二位置模式的第二偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，然后基于計(jì)算出的總偏斜來獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布，其中所述多個第一組合模式是分別通過對特定線長度的所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的，所述多個第二組合模式是分別通過對特定線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
[0009]因此，本模擬方法和模擬設(shè)備的優(yōu)勢在于能夠抑制使用三維數(shù)值分析工具的電磁場分析的計(jì)算成本并且能夠以高準(zhǔn)確度和高速度獲取偏斜分布。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能框圖；
[0011]圖2A和圖2B是示出基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的示意圖，基本單元在一對差動線的上側(cè)包括一個玻璃布并且在根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備中被建模，其中圖2A是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖，圖2B是沿著該線延伸的方向截取的截面圖；
[0012]圖3A和圖3B是示出基本單元的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的示意圖，基本單元在一對差動線的下側(cè)包括一個玻璃布并且在根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備中被建模，其中圖3A是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖，圖2B是沿著該線延伸的方向截取的截面圖；
[0013]圖4A和圖4B是示出基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示意圖，基本單元在該對差動線的上側(cè)包括一個玻璃布，其中圖4A是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖，圖4B是沿著該線延伸的方向截取的截面圖；
[0014]圖5A和圖5B是示出基本單元的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示意圖，基本單元在該對差動線的下側(cè)包括一個玻璃布，其中圖5A是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖，圖5B是沿著該線延伸的方向截取的截面圖；
[0015]圖6A至圖6D是例示在該對差動線的上側(cè)包括一個玻璃布的基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)中線位置不同的情況的示意圖，并且是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖；
[0016]圖7A至圖7D是例示在根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備中在該對差動線的上側(cè)包括一個玻璃布的基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)中線位置不同的多個位置模式的示意圖，并且是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖；
[0017]圖8是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備中設(shè)置的偏斜分布獲取單元的功能和處理的不意圖；
[0018]圖9是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備的處理(模擬方法)的流程圖；
[0019]圖1OA至圖1OD是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備所建模的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的視圖以及限定該模型的數(shù)據(jù)；
[0020]圖1IA至圖1ID是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備所建模的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的視圖以及限定該模型的數(shù)據(jù)；
[0021]圖12是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備的電磁場分析結(jié)果的視圖；
[0022]圖13是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備的偏斜計(jì)算結(jié)果的視圖；
[0023]圖14是構(gòu)成布線板的玻璃布的示意性平面圖；
[0024]圖15是使用玻璃布的布線板的示意圖，并且是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖；
[0025]圖16是示出通過對使用玻璃布的布線板進(jìn)行建模而獲得的三維電磁分析模型的示意圖，并且是沿著與該線延伸方向正交的方向截取的截面圖；
[0026]圖17是示出使用相對于差動線不傾斜的玻璃布的布線板的示意性平面圖；
[0027]圖18是示出使用相對于差動線傾斜的玻璃布的布線板的示意性平面圖；以及
[0028]圖19是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備的硬件配置的例子的框圖。

【具體實(shí)施方式】
[0029]下面參照附圖描述根據(jù)本實(shí)施例的模擬方法、模擬設(shè)備以及其中存儲有用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行模擬處理的模擬程序的計(jì)算機(jī)可讀記錄介質(zhì)。
[0030]根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備是模擬在布線板中的信號傳播(尤其是分析在使用玻璃布的、用于高速傳輸?shù)牟季€板的差動線之間出現(xiàn)的傳播延遲時間差(偏斜))的模擬設(shè)備。
[0031]圖14是構(gòu)成該高速傳輸布線板的玻璃布的示意圖。
[0032]如圖14中所示，玻璃布11由以格狀對平行于X軸的方向上并置的玻璃纖維束12和平行于Y軸的方向上并置的玻璃纖維束13進(jìn)行平面編織來構(gòu)成。在此，通過捆扎多根分別具有例如大約幾μ m厚度的玻璃纖維，從而作為整體具有大約幾百μ m寬度，來分別構(gòu)成玻璃纖維束12和13。
[0033]圖15是與使用玻璃布的高速傳輸布線板的線方向垂直的截面圖。
[0034]如圖15中所示，使用玻璃布的高速傳輸布線板(下文稱為玻璃布布線板)21由傳導(dǎo)層和絕緣層構(gòu)成。傳導(dǎo)層由以下構(gòu)成:p線或N線構(gòu)成的差動線22、N線或P線構(gòu)成的另一個差動線23、以及接地面24和25。此外，絕緣層由玻璃布11和用于硬化玻璃布11的樹脂26構(gòu)成。這樣，玻璃布布線板21包括一組兩根差動線(一對差動線)22和23、兩層的接地面24和25、以及夾在該對差動線22和23與接地面24和25之間并且由玻璃布11和樹脂26構(gòu)成的兩個絕緣層。注意，如圖15中所示，玻璃布布線板21可以分成芯層和預(yù)浸(prepreg)層(連接層)。
[0035]在此注意，盡管玻璃布布線板21包括在該對差動線22和23的上側(cè)的一個玻璃布11和在該對差動線22和23的下側(cè)的一個玻璃布11，但是玻璃布布線板21不局限于此。只需要玻璃布布線板21包括在該對差動線22和23的上側(cè)的至少一個玻璃布11和在該對差動線22和23的下側(cè)的至少一個玻璃布11即可。
[0036]如上文參照圖14描述的，通過編織分別由玻璃形成的玻璃纖維束(經(jīng)線)12和玻璃纖維束(緯線)13來構(gòu)成在絕緣層中包括的玻璃布11。該結(jié)構(gòu)包括玻璃纖維束12和13二者都存在的交叉區(qū)域、玻璃纖維束12和13 二者都不存在的區(qū)域、只有玻璃纖維束12存在的區(qū)域以及只有玻璃纖維束13存在的區(qū)域。
[0037]一般來說，在玻璃布布線板21中，玻璃布11的介電常數(shù)高于樹脂26的介電常數(shù)。如圖15中所示，玻璃布布線板21的內(nèi)側(cè)由具有高介電常數(shù)的玻璃布11的密度高的區(qū)域和具有低介電常數(shù)的樹脂26的密度高的區(qū)域構(gòu)成，因此被構(gòu)造為介電常數(shù)不均勻。結(jié)果，在差動線22和23周圍介電常數(shù)不同。因此，在玻璃布11的密度低的區(qū)域傳播延遲小，而在玻璃布11的密度高的區(qū)域傳播延遲大，并且在線之間出現(xiàn)傳播延遲時間差(偏斜；時鐘偏斜)并且共同噪聲的消除率降低。近年來隨著信號傳輸速度的增加，該偏斜對傳輸特征的影響不能被忽略。
[0038]因此，為了以高準(zhǔn)確度進(jìn)行傳輸路徑設(shè)計(jì)，需要進(jìn)行考慮到偏斜的傳輸模擬。
[0039]圖16是示出通過將玻璃布布線板21建模而獲得的三維電磁分析模型的示意性截面圖。圖17是示出在玻璃布布線板21中玻璃布11相對于差動線22和23不傾斜的情況的示意性平面圖。此外，圖18是示出玻璃布11相對于玻璃布布線板21中的差動線22和23傾斜的情況的示意性平面圖。
[0040]為了預(yù)測玻璃布布線板21中的偏斜，如圖16中所示，使用三維數(shù)值分析工具對玻璃布布線板21的內(nèi)部結(jié)構(gòu)建模，以進(jìn)行電磁分析。
[0041]有人認(rèn)為，由于偏斜取決于玻璃布11的紋理與差動線22和23之間的位置關(guān)系，所以偏斜具有特定的分布。此外，如圖17和18中所示，玻璃布布線板21中差動線22和23與玻璃布11之間的位置關(guān)系根據(jù)玻璃布11相對于差動線22和23的傾斜度而表現(xiàn)出幾種模式。因此，為了預(yù)測玻璃布布線板21中的偏斜，需要獲取玻璃布布線板21的偏斜分布(偏斜統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù))，并且該獲取的準(zhǔn)確度取決于分析樣本的數(shù)量。
[0042]然而，由于三維數(shù)值分析工具直接將目標(biāo)結(jié)構(gòu)三維網(wǎng)格化，所以如果分析樣本數(shù)量增加，則計(jì)算時間和計(jì)算量急劇增加。
[0043]因此，以如下所述的方式構(gòu)成根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備，以抑制通過三維數(shù)值分析工具進(jìn)行電磁分析的計(jì)算成本，并且以高準(zhǔn)確度和高速度獲取偏斜分布。
[0044]圖1是本模擬設(shè)備的功能框圖。
[0045]如圖1中所示，該模擬設(shè)備50包括布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51、偏斜計(jì)算單元52、偏斜分布獲取單元(偏斜統(tǒng)計(jì)值獲取單元)53和偏斜分布顯示單元(偏斜統(tǒng)計(jì)值顯示單元)54。
[0046]布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單兀51產(chǎn)生在該對第一差動線(第一差動線)22和23上側(cè)包括一個玻璃布(第一玻璃布)11的基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型以及在該對差動線(第二差動線)22和23下側(cè)包括一個玻璃布(第二玻璃布)11的基本線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型。注意，玻璃布11有時被稱為格結(jié)構(gòu)。
[0047]其中，如圖2B中所示，基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I在該對差動線22和23延伸的方向上具有與構(gòu)成玻璃布11的玻璃纖維束(縱向玻璃纖維束；經(jīng)線；布束)12的一個周期相對應(yīng)的長度。此外，如圖3B中所示，基本線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2在該對差動線22和23延伸的方向上具有與構(gòu)成玻璃布11的玻璃纖維束(縱向玻璃纖維束；經(jīng)線；布束)12的一個周期相對應(yīng)的長度。在此情況下，基本線長度等于與縱向玻璃纖維束12的一個周期相對應(yīng)的長度。此外，如圖2A中所示，第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I在與該對差動線22和23延伸的方向正交的方向上具有與構(gòu)成玻璃布11的玻璃纖維束(橫向玻璃纖維束；緯線；布束)13的一個周期相對應(yīng)的長度。此外，如圖3A中所示，第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2在與該對差動線22和23延伸的方向正交的方向上具有與構(gòu)成玻璃布11的玻璃纖維束(橫向玻璃纖維束；緯線；布束)13的一個周期相對應(yīng)的長度。
[0048]以該方式，通過將縱向和橫向上的長度取為與玻璃布11的玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度，使用三維數(shù)值分析工具對如圖4A和圖4B中所示的在該對差動線22和23的上側(cè)包括一個玻璃布11的玻璃布布線板21的一部分的這種內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行建模(以三維電磁場分析建模)，以產(chǎn)生如圖2A和圖2B中所示的這種第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I。在此情況下，在該對差動線22和23的上側(cè)包括一個玻璃布11并且在縱向和橫向上具有與玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度的矩形區(qū)域被用作用于建模的基本單元。此外，通過將縱向和橫向上的長度取為與玻璃布11的玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度，使用三維數(shù)值分析工具對如圖5A和圖5B中所示的在該對差動線22和23的下側(cè)包括一個玻璃布11的玻璃布布線板21的一部分的這種內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行建模，以產(chǎn)生如圖3A和圖3B中所示的這種第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2。在此情況下，在該對差動線22和23的下側(cè)包括一個玻璃布11并且在縱向和橫向上具有與玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度的矩形區(qū)域被用作用于建模的基本單元。注意，在第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2中包括的玻璃布11有時被稱為格結(jié)構(gòu)。
[0049]其中，第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2是在假定與構(gòu)成玻璃布11的在縱向上延伸的縱向玻璃纖維束12或在橫向上延伸的橫向玻璃纖維束13平行設(shè)置彼此平行的該對差動線22和23的基礎(chǔ)上產(chǎn)生的。具體來說，在此第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2是以下假定的基礎(chǔ)上產(chǎn)生的:多個縱向玻璃纖維束12和多個橫向玻璃纖維束13周期性地并且彼此平行地并置，并且縱向玻璃纖維束12平行于該對差動線22和23延伸，而橫向玻璃纖維束13正交于該對差動線22和23延伸。在此注意，在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中包括的玻璃布11和在第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2中包括的玻璃布11具有相同結(jié)構(gòu)。此夕卜，在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中包括的該對差動線22和23和在第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2中包括的該對差動線22和23具有相同結(jié)構(gòu)。
[0050]在此注意，盡管第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2在縱向和橫向上具有與玻璃布11的玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度，但是模型不局限于此，并且模型可以設(shè)定為至少具有與一個周期相對應(yīng)的長度，并且可以設(shè)定為具有例如與多個周期相對應(yīng)的長度。換句話說，基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I可以設(shè)定為在第一差動線延伸的方向上具有與構(gòu)成第一玻璃布的玻璃纖維束的多個周期相對應(yīng)的長度。此外，基本線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I可以設(shè)定為在第二差動線延伸的方向上具有與構(gòu)成第二玻璃布的玻璃纖維束的多個周期相對應(yīng)的長度。在這些情況下，第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在線傳輸方向上的長度等于與構(gòu)成玻璃布并且在線傳輸方向上延伸的玻璃纖維束的一個周期相對應(yīng)的長度的整數(shù)倍。此外，第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型可以設(shè)定為在與第一差動線延伸的方向正交的方向上具有與構(gòu)成第一玻璃布的玻璃纖維束的多個周期相對應(yīng)的長度。此外，第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型可以設(shè)定為在與第二差動線延伸的方向正交的方向上具有與構(gòu)成第二玻璃布的玻璃纖維束的多個周期相對應(yīng)的長度。在這些情況下，第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在與線傳輸方向正交的方向上的長度等于與構(gòu)成玻璃布并且在與線傳輸方向正交的方向上延伸的玻璃纖維束的一個周期相對應(yīng)的長度的整數(shù)倍。注意，在第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的縱向和橫向上的長度由玻璃布的玻璃纖維束的周期數(shù)表示的情況下，可以根據(jù)在建模的基本單元中是否包括一對差動線來確定周期數(shù)。例如，在第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型設(shè)定為在縱向和橫向上具有與玻璃布的玻璃纖維束的一個周期相對應(yīng)的長度以計(jì)算布線板的偏斜的情況下，當(dāng)該對差動線不適合在建模的基本單元中而是從其伸出時，第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型可以設(shè)定為在縱向和橫向上具有與玻璃布的玻璃纖維束的兩個周期相對應(yīng)的長度。
[0051]偏斜計(jì)算單元52針對由布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同的多個位置模式1X(第一位置模式；參見圖8)進(jìn)行電磁分析，并且計(jì)算所述多個位置模式IX的每一個中在該對差動線22和23之間出現(xiàn)的偏斜(第一偏斜)。例如，可以使用三維數(shù)值分析工具以如下方式計(jì)算偏斜。具體來說，如圖7A至圖7D中所示，例如，產(chǎn)生四個位置模式IA至ID作為所述多個位置模式IX，其中該對差動線22和23的中心線在橫向(或厚度方向)上相對于第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的玻璃布11 (格結(jié)構(gòu))的格模式的中心線偏離，使得在所述多個位置模式IX當(dāng)中第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同。然后，針對這四個位置模式IA至ID的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜。注意，可以產(chǎn)生至少兩個位置模式作為所述多個位置模式IX。下面參照圖6A至圖6D和圖7A至圖7D描述位置關(guān)系的確定方法的例子。
[0052]類似地，偏斜計(jì)算單元52針對由布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同的多個位置模式2X(第二位置模式；參見圖8)進(jìn)行電磁分析，并且計(jì)算所述多個位置模式2X的每一個中在該對差動線22和23之間出現(xiàn)的偏斜(第二偏斜)。例如，可以與第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中的情況(參見圖7A至圖7D)類似地計(jì)算偏斜。具體來說，例如，產(chǎn)生四個位置模式作為所述多個位置模式2X，其中該對差動線22和23的中心線在橫向(或厚度方向)上相對于第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的玻璃布11 (格結(jié)構(gòu))的格模式的中心線偏離，使得在所述多個位置模式2X當(dāng)中第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同。然后，針對這四個位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜。注意，可以產(chǎn)生至少兩個位置模式作為所述多個位置模式。
[0053]注意，盡管在本模擬設(shè)備50中由布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單兀51產(chǎn)生第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2，并且由偏斜計(jì)算單元52關(guān)于第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2的每一個產(chǎn)生多個位置模式，然后針對所述多個位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜，但是該模擬設(shè)備不局限于此。例如，該模擬設(shè)備可以包括偏斜計(jì)算單元，該偏斜計(jì)算單元針對在該對第一差動線的上側(cè)包括一個第一玻璃布的基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的第一差動線和第一玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的所述多個第一位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算所述多個第一位置關(guān)系的每一個中該對第一差動線之間出現(xiàn)的第一偏斜，并且針對在該對第二差動線的下側(cè)包括一個第二玻璃布的基本線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的第二差動線和第二玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的所述多個第二位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算所述多個第二位置關(guān)系的每一個中該對第二差動線之間出現(xiàn)的第二偏斜。注意，盡管在本模擬設(shè)備50中偏斜計(jì)算單元52關(guān)于第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2分別產(chǎn)生所述多個位置模式，但是可以想到產(chǎn)生第一差動線和第一玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型和第二差動線和第二玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型。簡言之，可以以如下方式計(jì)算偏斜。具體來說，布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元產(chǎn)生第一差動線和第一玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型，作為第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第一位置模式。布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元進(jìn)一步產(chǎn)生第二差動線和第二玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型，作為第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第二位置模式。然后，偏斜計(jì)算單元針對多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型和多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜。
[0054]如圖8中所示，針對通過組合多個第一組合圖案和多個第二組合圖案4而構(gòu)成的多個布線板圖案5中的每一個，偏斜分布獲取單元53將構(gòu)成多個第一組合模式3的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜求和，并且還將構(gòu)成多個第二組合模式4的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜求和來計(jì)算總偏斜，然后基于計(jì)算出的總偏斜獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布，其中，所述多個第一組合模式是通過組合多個第一組合模式3分別構(gòu)成的，多個第一組合模式3是通過組合特定線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的第一位置模式IX構(gòu)成的，多個第二組合模式4是通過組合特定線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模型2X構(gòu)成的。
[0055]在此，偏斜分布獲取單元53從第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式IX當(dāng)中任意提取并組合特定線長度的一些第一位置模式IX，以產(chǎn)生多個第一組合模式3，并且將構(gòu)成多個第一組合模式3的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜求和，以計(jì)算多個第一組合模式3的每一個的總偏斜。此外，偏斜分布獲取單元53從第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模式2X當(dāng)中任意提取并組合特定線長度的一些第二位置模式2X，以產(chǎn)生多個第二組合模式4，并且將構(gòu)成多個第二組合模式4的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜求和，以計(jì)算多個第二組合模式4的每一個的總偏斜。此夕卜，偏斜分布獲取單元53提取多個第一組合模式3和多個第二組合模式4的任意個并且逐一彼此組合，以產(chǎn)生多個布線板模式5，并且將構(gòu)成多個布線板模式5的每一個的第一組合模式3的總偏斜和第二組合模式4的總偏斜求和，以計(jì)算多個布線板模式5的每一個的總偏斜。然后，偏斜分布獲取單元53基于以上述方式計(jì)算出的多個布線板模式5的總偏斜來獲取特定線長度的布線板中的偏斜分布。其中，針對每個偏斜值計(jì)數(shù)多個布線板模式5的每一個的總偏斜，并且將偏斜值和計(jì)數(shù)的數(shù)量分別取為橫坐標(biāo)軸和縱坐標(biāo)軸，從而獲取偏斜分布(偏斜統(tǒng)計(jì)值)。
[0056]偏斜分布顯示單元54使偏斜分布獲取單元53獲取的偏斜分布顯示在屏幕上。
[0057]下面參照圖9描述根據(jù)本實(shí)施例的模擬設(shè)備50的處理(模擬方法)。
[0058]圖9是示出根據(jù)本實(shí)施例的模擬方法的處理流程的流程圖。
[0059]首先，在步驟S10，布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生在該對差動線(第一差動線)22和23的上側(cè)包括一個玻璃布(第一玻璃布)11的基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I以及在該對差動線(第二差動線)22和23的下側(cè)包括一個玻璃布(第二玻璃布)11的基本線長度的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2。
[0060]在此，將縱向和橫向上的長度取為與玻璃布11的玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度，使用三維數(shù)值分析工具對如圖4A和4B中所示的在該對差動線22和23的上側(cè)包括一個玻璃布11的玻璃布布線板21的一部分的這種內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行建模(通過三維電磁分析進(jìn)行建模)，以產(chǎn)生如圖2A和2B中所示的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I。此外，將橫向和縱向上的長度取為與玻璃布11的玻璃纖維束12和13的一個周期相對應(yīng)的長度，使用三維數(shù)值分析工具對如圖5A和5B中所示的在該對差動線22和23的下側(cè)包括一個玻璃布11的玻璃布布線板21的一部分的這種內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行建模，以產(chǎn)生如圖3A和3B中所示的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2。注意，由于在布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51的功能描述中描述了這些處理細(xì)節(jié)，所以在此省略對這些處理細(xì)節(jié)的描述。
[0061]圖1OA至圖1OD是示出以上述方式建模的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的視圖和限定模型I的數(shù)據(jù)，即，對構(gòu)成第一玻璃布11的玻璃纖維束12和13與該對差動線22和23之間的位置關(guān)系進(jìn)行限定的數(shù)據(jù)。
[0062]如圖1OA和圖1OC中所示的由布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I由如圖1OB和圖1OD中所示的數(shù)據(jù)限定。例如，在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中，對于差動線22，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為如圖1OB中所示的“實(shí)心矩形”、“寬度130 μ mX高度30 μ m”和(235,163)。此外，對于差動線23，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度130 μ mX高度30μπι”和(665，163)。此外，對于構(gòu)成第一玻璃布11的一個縱向玻璃纖維束12a，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度350 μ mX高度30μπι”和(245,205)。此外，對于構(gòu)成第一玻璃布11的另一個縱向玻璃纖維束12b，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度350 μ mX高度30 μ m”和(735,205)。此外，對于樹脂26，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980μπιΧ高度200μπι”和(490,150)。此夕卜，對于下側(cè)的接地面25，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980 μ mX高度50μπι”和(495,25)。此外，對于上側(cè)的接地面24，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980 μ mX高度30 μ m”和(495,265)。注意，差動線22、差動線23、一個和另一個縱向玻璃纖維束12a和12b、樹脂26和上側(cè)與下側(cè)的接地面24和25的總深度(X方向的尺寸)被限定為ΙΟΟΟμηι。此外,對于構(gòu)成第一玻璃布11的一個橫向玻璃纖維束13a，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為如圖1OD中所示的“六邊形桿”、“寬度500 μ mX高度20 μ m”和(250,205)。此外，對于構(gòu)成第一玻璃布11的另一個橫向玻璃纖維束13b，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度500μπιΧ高度20 μ m”和(750,205)。注意，一個和另一個橫向玻璃纖維束13a和13b的所有的深度(Y方向的尺寸)被限定為980μπι。注意，在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中，縱向玻璃纖維束12a和12b (12)和橫向玻璃纖維束13 (13a和13b)被限定為在同一平面上并置。
[0063]圖1IA至圖1ID是示出以上述方式建模的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的視圖和限定模型I的數(shù)據(jù)，即，對構(gòu)成第二玻璃布11的玻璃纖維束12和13與該對差動線22和23之間的位置關(guān)系進(jìn)行限定的數(shù)據(jù)。
[0064]如圖1lA和圖1lC中所示的由布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2由如圖1lB和圖1lD中所示的數(shù)據(jù)限定。例如，在第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2中，對于差動線22，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為如圖1lB和圖1lD中所示的“實(shí)心矩形”、“寬度130 μ mX高度30 μ m”和(235,163)。此外，對于差動線23，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度130 μ mX高度30 μ m”和(665，163)。此外,對于構(gòu)成第二玻璃布11的一個縱向玻璃纖維束12c, “形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度350 μ mX高度30 μ m”和(245，95)。此外，對于構(gòu)成第二玻璃布11的另一個縱向玻璃纖維束12d，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度350 μ mX高度30 μ m”和(735,95)。此外，對于樹脂26，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980 μ mX高度200 μ m”和(490，150)。此外，對于下側(cè)的接地面25，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980μπιΧ高度50μπι”和(495,25)。此外，對于上側(cè)的接地面24，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“實(shí)心矩形”、“寬度980 μ mX高度30 μ m”和(490,265)。注意，差動線22、差動線23、一個和另一個縱向玻璃纖維束12c和12d、樹脂26和上側(cè)與下側(cè)的接地面24和25的所有的深度(X方向的尺寸)被限定為1000 μ m。此外，對于構(gòu)成第二玻璃布11的一個橫向玻璃纖維束13c，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為如圖1OD中所示的“六邊形桿”、“寬度500 μ mX高度20 μ m”和(250，95)。此外，對于構(gòu)成第二玻璃布11的另一個橫向玻璃纖維束13d，“形狀”、“尺寸”和“中心坐標(biāo)”被分別限定為“六邊形桿”、“寬度500μπιΧ高度20 μ m”和(750,95)。注意，一個和另一個橫向玻璃纖維束13c和13d的所有的深度(Y方向的尺寸)被限定為980μπι。注意，在第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2中，縱向玻璃纖維束12c和12d(12)和橫向玻璃纖維束13 (13c和13d)被限定為在同一平面上并置。
[0065]然后，在步驟S20，偏斜計(jì)算單元52對以上述方式產(chǎn)生的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同的多個位置模式IX (第一位置模式；參見圖8)的每一個進(jìn)行三維電磁分析，以計(jì)算多個位置模式IX的每一個中該對差動線22和23之間出現(xiàn)的偏斜(第一偏斜)。例如，可以使用三維數(shù)值分析工具以下述方式計(jì)算偏斜。具體來說，如圖7A至圖7D中所示，偏斜計(jì)算單元52產(chǎn)生例如四個位置模式IA至ID作為所述多個位置模式IX，其中該對差動線22和23的中心線在水平方向(或厚度方向)上相對于第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的玻璃布11 (格結(jié)構(gòu))的格模式的中心線偏離，使得在所述多個位置模式IX當(dāng)中第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同。然后，針對這四個位置模式IA至ID的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜。
[0066]類似地，偏斜計(jì)算單元52對以上述方式產(chǎn)生的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的該對差動線22和23與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同的多個位置模式2X(第二位置模式；參見圖8)的每一個進(jìn)行三維電磁分析，以計(jì)算多個位置模式2X的每一個中該對差動線22和23之間出現(xiàn)的偏斜(第二偏斜)。例如，可以與第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的情況類似地(參見圖7A至圖7D)使用三維數(shù)值分析工具以下述方式計(jì)算偏斜。具體來說，例如，偏斜計(jì)算單元52產(chǎn)生四個位置模式作為所述多個位置模式2X，其中該對差動線22和23的中心線在水平方向(或厚度方向)上相對于第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的玻璃布11 (格結(jié)構(gòu))的格模式的中心線偏離，使得在所述多個位置模式2X當(dāng)中第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的該對差動線與玻璃布11之間的相對位置關(guān)系不同。然后，扭矩計(jì)算單元52針對這四個位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁分析以計(jì)算偏斜。
[0067]下面以在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中線位置改變以產(chǎn)生四個位置模式IA至ID并且進(jìn)行三維電磁分析的情況為例來描述本實(shí)施例。
[0068]圖6A至圖6D是例示基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)中線位置改變到四個不同模式的情況的示意性截面圖，該基本單元在該對差動線上側(cè)包括一個玻璃布。圖7A至圖7D是例示基本單元的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中線位置不同的四個位置模式IA至ID的示意性截面圖，該基本單元在該對差動線上側(cè)包括一個玻璃布。
[0069]如圖6A和圖6D中例示的，該對差動線22和23的位置改變到四個不同模式。具體來說，以上述方式產(chǎn)生的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I被確定為如圖7A中所示的基本位置模式1A。此外，產(chǎn)生如圖7B中所示的在第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中包括的該對差動線22和23在Y方向上偏離-100 μ m的位置模式1B、如圖7C中所示的該對差動線22和23在Y方向上偏離+100 μ m的位置模式IC以及如圖7D中所示的該對差動線22和23在Y方向上偏離+200 μ m的位置模式ID。
[0070]然后，針對以上述方式產(chǎn)生的四個位置模式IA至ID的每一個執(zhí)行三維電磁分析，以計(jì)算位置模式IA至ID的每一個中差動線22和差動線23之間的偏斜。注意，由于第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I具有與縱向玻璃纖維束的一個周期相對應(yīng)的長度，所以針對一個周期的縱向玻璃纖維束進(jìn)行該偏斜計(jì)算。
[0071]圖12是示出電磁場分析結(jié)果的視圖，圖13是示出偏斜計(jì)算結(jié)果的視圖。
[0072]圖12中所示的例子表明圖7A和圖1OA至圖1OD中所示的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中電磁場分析的結(jié)果，圖13中所示的例子表明圖7A和圖1OA至圖1OD中所示的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I中偏斜計(jì)算的結(jié)果。
[0073]使用如上所述的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I執(zhí)行該電磁場分析，并且在差動線22和23傳播的信號的頻率以0.1Ghz的間隔從0.1Ghz掃描到30Ghz。結(jié)果，如圖12中所示，關(guān)于差動線22 (由圖12中的實(shí)線A表示)和差動線23 (由圖12中的實(shí)線B表示)，顯示每個頻率的群延遲。
[0074]然后，從差動線23 (由圖12中的實(shí)線B)的群延遲減去差動線22 (由圖12中的實(shí)線A表示)的群延遲，以計(jì)算如圖13中所示的偏斜(在30Ghz中-0.02psec)。
[0075]然后，在步驟S30，關(guān)于將多個第一組合模式3和多個第二組合模式4相組合構(gòu)成的多個布線板模式5的每一個，如圖8中所示，偏斜分布獲取單元53將構(gòu)成多個第一組合模式3的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜求和，并且將構(gòu)成多個第二組合模式4的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜求和，以計(jì)算總偏斜，然后基于計(jì)算出的總偏斜來獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布，其中，多個第一組合模式3是通過組合與特定線長度相對應(yīng)的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式IX構(gòu)成的，多個第二組合模式4是通過組合與特定線長度相對應(yīng)的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模式2X構(gòu)成的。
[0076]在此，偏斜分布獲取單元53從第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式IX當(dāng)中提取與所述任意線長度相對應(yīng)的模式并將其相組合以產(chǎn)生多個第一組合模式3，并且將構(gòu)成多個第一組合模式3的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜求和以計(jì)算多個第一組合模式3的每一個的總偏斜。此外，偏斜分布獲取單元53從第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模式2X當(dāng)中提取與所述任意線長度相對應(yīng)的模式并將其相組合以產(chǎn)生多個第二組合模式4，并且將構(gòu)成多個第二組合模式4的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜求和以計(jì)算多個第二組合模式4的每一個的總偏斜。此外，偏斜分布獲取單元53任意提取多個第一組合模式3的一個和多個第二組合模式4的一個并將其相組合以產(chǎn)生多個布線板模式5，并且將構(gòu)成多個布線板模式5的每一個的第一組合模式3的總偏斜和第二組合模式4的總偏斜求和以計(jì)算多個布線板模式5的每一個的總偏斜。然后，偏斜分布獲取單元53基于以上述方式計(jì)算出的多個布線板模式5的總偏斜獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布。在此，偏斜分布獲取單元53針對每個偏斜值計(jì)數(shù)多個布線板模式5的每一個的總偏斜，并且通過將偏斜值和計(jì)數(shù)的偏斜值的數(shù)量分別作為橫坐標(biāo)軸和縱坐標(biāo)軸獲取偏斜分布(偏斜統(tǒng)計(jì)值)。
[0077]然后在步驟S40，偏斜分布顯示單元54使偏斜分布獲取單元53獲取的偏斜分布顯示在屏幕上。
[0078]注意，盡管以具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23的上側(cè)和下側(cè)分別包括一個玻璃布11的情況為例描述了本實(shí)施例，但是本發(fā)明不局限于此。例如，本發(fā)明還可應(yīng)用于具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23的上側(cè)或下側(cè)包括多個玻璃布11的情況。
[0079]例如，在具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23上側(cè)包括多個玻璃布11的情況下，可以以如下方式計(jì)算總偏斜。具體來說，布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生與玻璃布11的數(shù)量相對應(yīng)的、在該對差動線22和23與一個玻璃布11之間的距離(厚度方向上的距離)不同的多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I作為在該對差動線(第一差動線)22和23的上側(cè)包括一個玻璃布(第一玻璃布)11的基本線長度的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型
I。然后，偏斜計(jì)算單元52針對多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式的每一個計(jì)算第一偏斜。具體來說，偏斜計(jì)算單元52響應(yīng)于玻璃布的數(shù)量，計(jì)算該對差動線22和23與玻璃布11之間的距離不同的多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第一位置模式的每一個的第一偏斜。然后，偏斜分布獲取單元53針對通過組合作為所述多個第一組合模式的、與多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的每一個有關(guān)的多個第一組合模式構(gòu)成的多個布線板模式的每一個，將作為所述第一偏斜的、構(gòu)成與多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的每一個有關(guān)的多個第一組合模式的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜求和，來計(jì)算總偏斜。
[0080]例如，在具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23上側(cè)包括兩個玻璃布11的情況下，可以以如下方式計(jì)算總偏斜。具體來說，產(chǎn)生在該對差動線22和23與玻璃布11之間的距離(厚度方向上的距離)不同的兩個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I作為所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I。然后，偏斜計(jì)算單元52針對第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I之一的第一差動線和玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第一位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁場分析以計(jì)算在多個第一位置模式的每一個中在該對第一差動線之間出現(xiàn)的第一偏斜，并且針對另一個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的第一差動線和玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第一位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁場分析以計(jì)算在多個第一位置模式的每一個中在該對第一差動線之間出現(xiàn)的第一偏斜。然后，關(guān)于將通過組合與特定線長度相對應(yīng)的所述一個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式獲得的多個第一組合模式和通過組合與特定線長度相對應(yīng)的所述另一個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I的多個第一位置模式獲得的多個第一組合模式相組合獲得的多個布線板模式的每一個，偏斜分布獲取單元53將作為所述第一偏斜的、構(gòu)成與所述一個布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I有關(guān)的多個第一組合模式的每一個的多個第一位置模式IX的每一個的第一偏斜和構(gòu)成與所述另一個布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I有關(guān)的多個第一組合模式的每一個的多個第一位置模式IX每一個的第一偏斜求和來計(jì)算總偏斜。
[0081]另一方面，在具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23下側(cè)包括多個玻璃布11的情況下，可以以如下方式計(jì)算總偏斜。具體來說，布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生與玻璃布11的數(shù)量相對應(yīng)的、在該對差動線22和23與玻璃布11之間的距離(厚度方向上的距離)不同的多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2，作為在該對差動線(第一差動線)22和23的下側(cè)包括一個玻璃布(第二玻璃布)11的基本線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2。然后，偏斜計(jì)算單元52計(jì)算多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的每一個的多個第二位置模式的每一個中的第二偏斜。具體來說，偏斜計(jì)算單元52計(jì)算與玻璃布的數(shù)量相對應(yīng)的、在該對差動線22和23與玻璃布11之間的距離不同的多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每一個的多個第二位置模式的每一個的第二偏斜。然后，關(guān)于通過組合作為所述多個第二組合模式的、與多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的每一個相關(guān)的多個第二組合模式構(gòu)成的多個布線板模式的每一個，偏斜分布獲取單元53將構(gòu)成與多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的每一個相關(guān)的多個第二組合模式的每一個的多個第二位置模式IX的每一個的第二偏斜求和以計(jì)算總偏斜。
[0082]例如，在具有特定線長度的布線板在該對差動線22和23下側(cè)包括兩個玻璃布11的情況下，可以以如下方式計(jì)算總偏斜。布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元51產(chǎn)生在該對差動線22和23與玻璃布11之間的距離(厚度方向上的距離)不同的兩個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2作為所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2。然后，偏斜計(jì)算單元52針對一個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的第二差動線和第二玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第二位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁場分析，以計(jì)算在多個第二位置模式的每一個中在該對第二差動線之間出現(xiàn)的第二偏斜，并且針對另一個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的第二差動線和第二玻璃布之間的相對位置關(guān)系不同的多個第二位置模式的每一個進(jìn)行三維電磁場分析，以計(jì)算在多個第二位置模式的每一個中在該對第二差動線之間出現(xiàn)的第二偏斜。然后，偏斜分布獲取單元53關(guān)于將通過組合與特定線長度相對應(yīng)的所述一個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模式獲得的多個第二組合模式和通過組合與特定線長度相對應(yīng)的所述另一個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2的多個第二位置模式獲得的多個第二組合模式相組合獲得的多個布線板模式的每一個，將作為所述第二偏斜的、構(gòu)成與所述一個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2有關(guān)的多個第二組合模式的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜和構(gòu)成與所述另一個布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2有關(guān)的多個第二組合模式的每一個的多個第二位置模式2X的每一個的第二偏斜求和以計(jì)算總偏斜。
[0083]因此，根據(jù)本實(shí)施例的模擬方法和模擬設(shè)備在以下方面是有利的:能夠抑制使用三維數(shù)值分析工具的電磁場分析的計(jì)算成本，并且能夠以高準(zhǔn)確度和高速度獲取偏斜分布(偏斜統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù))。
[0084]具體來說，能夠增加三維電磁分析的分析樣本的數(shù)量，同時抑制計(jì)算時間和計(jì)算量，結(jié)果，能夠以高準(zhǔn)確度獲取偏斜分布。因此，能夠預(yù)測具有特定線長度的布線板中的偏斜。
[0085]特別地，由于第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2分別只包括一對差動線22和23以及一個玻璃布11，所以使用布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2進(jìn)行三維電磁場分析時網(wǎng)格的數(shù)量能夠被抑制到必要的最小值。此外，由于變化的參數(shù)只是線的位置，所以能夠減少偏斜計(jì)算時間并且能夠增加處理速度。因此，能夠抑制三維數(shù)值分析工具的電磁場分析的計(jì)算成本。
[0086]此外，能夠針對特定線長度提取并求和第一和第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和2的多個位置模式IX和2X的偏斜以計(jì)算總偏斜，并且能夠在短時間內(nèi)獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布。特別地，在該對差動線22和23相對于玻璃布11傾斜的情況下也能夠以高準(zhǔn)確度并且在短時間內(nèi)獲取偏斜分布。
[0087]此外，通過如上述實(shí)施例中那樣使用在一對差動線22和23上側(cè)包括一個玻璃布11的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和在一對差動線22和23下側(cè)包括一個玻璃布11的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2，能夠以高準(zhǔn)確度獲取偏斜分布，并且在該對差動線22和23的上側(cè)和下側(cè)的玻璃布11的位置彼此偏離的布線板模式中也能夠提高偏斜的分析準(zhǔn)確度。例如，如果使用在一對差動線的上側(cè)和下側(cè)這兩側(cè)中逐一包括玻璃布的布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型，則由于上玻璃布和下玻璃布之間的位置關(guān)系固定，所以不能獲取上玻璃布和下玻璃布的位置彼此偏離的布線板模式中的偏斜分布。另一方面，通過如上述實(shí)施例中那樣使用在該對差動線22和23的上側(cè)包括一個玻璃布11的第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型I和在該對差動線22和23的下側(cè)包括一個玻璃布11的第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型2，也能夠獲取上下玻璃布11的位置彼此偏離的布線板模式中的偏斜分布。
[0088]注意，本發(fā)明不局限于在對本實(shí)施例的說明中具體描述的構(gòu)成，并且在不偏離本發(fā)明的范圍的情況下可以進(jìn)行變更和修改。
[0089]例如，根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理能夠由硬件、由利用DSP(數(shù)字信號處理器)板或CPU(中央處理單元)板的固件或者由軟件來實(shí)現(xiàn)。
[0090]例如，根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理能夠通過計(jì)算機(jī)(包括處理器，如CPU、信息處理設(shè)備和各種端子)執(zhí)行程序來實(shí)現(xiàn)。在此情況下，根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理可以通過執(zhí)行單個程序或多個程序來實(shí)現(xiàn)。例如，可以通過執(zhí)行作為用于進(jìn)行三維電磁場分析的程序的三維數(shù)值分析工具來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元和偏斜計(jì)算單元的功能和處理，并且可以通過執(zhí)行例如電子制表軟件(程序)來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的偏斜分布獲取單元的功能和處理。此夕卜，在通過執(zhí)行單個程序來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元、偏斜計(jì)算單元、偏斜分布獲取單元和偏斜分布顯示單元的功能和處理的情況下，可以通過執(zhí)行基于來自該單個程序的指令的三維數(shù)值分析工具來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型產(chǎn)生單元和偏斜計(jì)算單元的功能和處理，并且可以通過執(zhí)行基于來自該單個程序的指令的例如電子制表軟件來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的偏斜分布獲取單元的功能和處理。這樣，在實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理的情況下，由于用于實(shí)現(xiàn)該功能和處理的程序(一個或多個程序)被用于模擬，所以該程序被稱為模擬程序。
[0091]此外，在通過計(jì)算機(jī)執(zhí)行程序來實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例中公開的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理的情況下，可以例如通過具有如圖19中所示硬件配置的計(jì)算機(jī)來實(shí)現(xiàn)根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備50。具體來說，可以通過具有包括CPU102、存儲器101、通信控制單元109、輸入設(shè)備106、顯示控制設(shè)備103、顯示設(shè)備104、存儲設(shè)備105和便攜式記錄介質(zhì)108的驅(qū)動設(shè)備107的構(gòu)成的計(jì)算機(jī)來實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備50，其中各部件通過總線110相互連接。注意，作為根據(jù)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的計(jì)算機(jī)的硬件配置不局限于此。
[0092]其中，CPU102總體控制該計(jì)算機(jī)并且將程序讀到存儲器101中，并且執(zhí)行該程序以進(jìn)行上述實(shí)施例的模擬設(shè)備所需的處理。
[0093]存儲器101是主存儲設(shè)備，例如，RAM，并且當(dāng)進(jìn)行該程序的執(zhí)行、數(shù)據(jù)的重寫等時，存儲器101將該程序或數(shù)據(jù)臨時存儲在其中。
[0094]通信控制單元109(通信接口)用于通過網(wǎng)絡(luò)，例如，LAN或因特網(wǎng)，與不同的設(shè)備通信。通信控制單元109可以最初就包含在該計(jì)算機(jī)中，或者可以通過以后連接到該計(jì)算機(jī)的NIC(網(wǎng)絡(luò)接口卡)來實(shí)現(xiàn)。
[0095]輸入設(shè)備106是指向裝置(如觸摸面板或鼠標(biāo)等)或鍵盤等。
[0096]顯示設(shè)備104是顯示單元,如液晶顯示單元。
[0097]顯示控制單元103進(jìn)行例如使偏斜分布等顯示在顯示設(shè)備104上的控制。
[0098]存儲設(shè)備105是輔助存儲設(shè)備，如硬盤驅(qū)動(HDD)或SSD，并且將各種程序和各種數(shù)據(jù)存儲在其中。在此，該模擬程序存儲在存儲設(shè)備105中。注意，例如，可以將ROM(只讀存儲器)設(shè)置為存儲器101，以存儲各種程序或各種數(shù)據(jù)。
[0099]驅(qū)動設(shè)備107是用于訪問例如半導(dǎo)體存儲器(諸如閃速存儲器)、光盤或者磁光盤的便攜式記錄介質(zhì)108的存儲內(nèi)容的設(shè)備。
[0100]在具有如上所述硬件配置的計(jì)算機(jī)中，CPU102讀出例如存儲在存儲設(shè)備105中的模擬程序，并且執(zhí)行所讀出的程序以實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理。
[0101]此外，盡管上述實(shí)施例的模擬設(shè)備被配置為其中安裝有模擬程序的計(jì)算機(jī)，但是有時以存儲在計(jì)算機(jī)可讀記錄介質(zhì)中的狀態(tài)來提供用于使計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能的模擬程序或者用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行上述實(shí)施例的模擬方法的處理的模擬程序。
[0102]在此，作為該記錄介質(zhì)，包括能夠?qū)⒊绦蛴涗浽谄渲械挠涗浗橘|(zhì)，例如，諸如半導(dǎo)體存儲器的存儲器、磁盤、光盤[例如，CD(壓縮盤)-ROM、DVD(數(shù)字多功能盤)或者藍(lán)光盤]或者磁光盤(MO:Magneto optical Disk)。注意,磁盤、光盤、磁光盤等有時稱為便攜式記錄介質(zhì)。
[0103]在此情況下，通過驅(qū)動設(shè)備從便攜式記錄介質(zhì)讀出模擬程序，并且將讀出的模擬程序安裝到存儲設(shè)備中。因此，實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備和模擬方法，并且通過將安裝在存儲設(shè)備中的模擬程序讀出到主存儲器中，并且與上述情況類似地由CPU執(zhí)行所讀出的程序來實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理。注意，該計(jì)算機(jī)還可以從便攜式記錄介質(zhì)直接讀出程序并且根據(jù)該程序執(zhí)行處理。
[0104]此外，有時例如通過作為傳輸介質(zhì)的網(wǎng)絡(luò)(因特網(wǎng)、諸如公共線路或?qū)Ｓ镁€路的通信線路)來提供用于使計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能的模擬程序和用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行上述實(shí)施例的模擬方法的處理的模擬程序。
[0105]例如，由程序提供商提供在不同的計(jì)算機(jī)如服務(wù)器上的模擬程序可以例如通過諸如因特網(wǎng)或LAN的網(wǎng)絡(luò)和通信接口安裝在存儲設(shè)備中。由此實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備和模擬方法，并且通過將安裝在該存儲設(shè)備中的模擬程序讀出到主存儲器中并且與上述情況類似地由CPU執(zhí)行所讀出的程序來實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理。注意，還可以每次從不同的計(jì)算機(jī)如服務(wù)器傳輸程序時，該計(jì)算機(jī)根據(jù)接收到的程序依次執(zhí)行處理。
[0106]此外，在此以將本模擬設(shè)備實(shí)現(xiàn)為具有包括CPU102、存儲器101、通信控制單元109、輸入設(shè)備106、顯示控制單元103、顯示設(shè)備104、存儲設(shè)備105、便攜式記錄介質(zhì)108的驅(qū)動設(shè)備107等的硬件配置的單個設(shè)備的情況為例描述配置實(shí)例，但是該模擬設(shè)備不局限于此。例如，如果只是實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理，那么可以不通過單個設(shè)備來實(shí)現(xiàn)該模擬設(shè)備，而是可以應(yīng)用由多個設(shè)備配置的系統(tǒng)或集成設(shè)備或者通過諸如LAN、WAN等網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行處理的系統(tǒng)。例如，諸如云服務(wù)器的服務(wù)器可以配置為用于實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理的服務(wù)器，從而可以通過因特網(wǎng)或內(nèi)聯(lián)網(wǎng)等計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)來利用該服務(wù)器。
[0107]此外，在此以通過由計(jì)算機(jī)中的CPU執(zhí)行讀出到存儲器中的程序來實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理的情況為例描述了該配置實(shí)例，但是該配置不局限于此。例如，可以基于程序的指令，由計(jì)算機(jī)上運(yùn)行的OS等進(jìn)行部分或全部實(shí)際處理，從而實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理。此外，從便攜式記錄介質(zhì)讀出的程序或者由程序(數(shù)據(jù))提供商提供的程序(數(shù)據(jù))可以被寫入在計(jì)算機(jī)中插入的功能擴(kuò)展板中或者連接到計(jì)算機(jī)的功能擴(kuò)展單元中提供的存儲器中，并且可以基于程序的指令，由該功能擴(kuò)展板或者該功能擴(kuò)展單元中提供的CPU等進(jìn)行部分或全部實(shí)際處理，從而實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的模擬設(shè)備的功能和模擬方法的處理。
【權(quán)利要求】
1.一種由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的模擬方法，包括: 通過對第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第一位置模式的每個第一位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第一位置模式的每個第一位置模式中在一對第一差動線之間產(chǎn)生的第一偏斜，所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括所述一對第一差動線上側(cè)的一個第一玻璃布，所述多個第一位置模式具有所述第一差動線和所述第一玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系，以及通過對第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第二位置模式的每個第二位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第二位置模式的每個第二位置模式中在一對第二差動線之間產(chǎn)生的第二偏斜，所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括在所述一對第二差動線下側(cè)的一個第二玻璃布，所述多個第二位置模式具有所述第二差動線和所述第二玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系；以及 針對通過對多個第一組合模式和多個第二組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的多個布線板模式的每個布線板模式，通過對構(gòu)成所述多個第一組合模式的每個第一組合模式的所述多個第一位置模式的每個第一位置模式的第一偏斜求和，以及對構(gòu)成所述多個第二組合模式的每個第二組合模式的所述多個第二位置模式的每個第二位置模式的第二偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，然后基于計(jì)算出的總偏斜來獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布，其中所述多個第一組合模式是分別通過對特定線長度的所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的，所述多個第二組合模式是分別通過對特定線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模擬方法，其中所述基本線長度的所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在所述第一差動線延伸的方向上具有構(gòu)成所述第一玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度；以及 所述基本線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在所述第二差動線延伸的方向上具有構(gòu)成所述第二玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模擬方法，其中所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在與所述第一差動線延伸的方向正交的方向上具有構(gòu)成所述第一玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度；以及 所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在與所述第二差動線延伸的方向正交的方向上具有構(gòu)成所述第二玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模擬方法，其中，在具有所述特定線長度的所述布線板在所述一對差動線上側(cè)包括多個玻璃布的情況下， 在計(jì)算所述第一偏斜和所述第二偏斜時，根據(jù)所述玻璃布的數(shù)量計(jì)算多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一位置模式的每個第一位置模式中的所述第一偏斜，在所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型之間，所述第一差動線和所述第一玻璃布之間的距離不同；以及 在獲取所述偏斜分布時，通過針對所述多個布線板模式的每個布線板模對作為所述第一偏斜的、所述多個第一位置模式的每個第一位置模式的第一偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，其中所述多個第一位置模式構(gòu)成所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一組合模式的每個第一組合模式，所述多個布線板模式的每個布線板模式是通過對作為所述多個第一組合模式的、所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模擬方法，其中，在具有所述特定線長度的所述布線板在所述一對差動線下側(cè)包括多個玻璃布的情況下， 在計(jì)算所述第一偏斜和所述第二偏斜時，根據(jù)所述玻璃布的數(shù)量計(jì)算多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型中的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二位置模式中的每個第二位置模式中的所述第二偏斜，在所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型之間，所述第二差動線和所述第二玻璃布之間的距離不同；以及 在獲取所述偏斜分布時，通過針對所述多個布線板模式的每個布線板模對作為所述第二偏斜的、所述多個第二位置模式的每個第二位置模式的第二偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，其中所述多個第二位置模式構(gòu)成所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二組合模式的每個第二組合模式，所述多個布線板模式的每個布線板模式是通過對作為所述多個第二組合模式的、所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
6.—種模擬設(shè)備,包括: 偏斜計(jì)算單元，其通過對第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第一位置模式的每個第一位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第一位置模式的每個第一位置模式中在一對第一差動線之間產(chǎn)生的第一偏斜，所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括所述一對第一差動線上側(cè)的一個第一玻璃布，所述多個第一位置模式具有所述第一差動線和所述第一玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系，以及通過對第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的多個第二位置模式的每個第二位置模式進(jìn)行三維電磁場分析來計(jì)算在所述多個第二位置模式的每個第二位置模式中在一對第二差動線之間產(chǎn)生的第二偏斜，所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型針對基本線長度并且包括在所述一對第二差動線下側(cè)的一個第二玻璃布，所述多個第二位置模式具有所述第二差動線和所述第二玻璃布之間的不同相對位置關(guān)系；以及 偏斜分布獲取單元，其針對通過對多個第一組合模式和多個第二組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的多個布線板模式的每個布線板模式，通過對構(gòu)成所述多個第一組合模式的每個第一組合模式的所述多個第一位置模式的每個第一位置模式的第一偏斜求和，以及對構(gòu)成所述多個第二組合模式的每個第二組合模式的所述多個第二位置模式的每個第二位置模式的第二偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，然后基于計(jì)算出的總偏斜來獲取具有特定線長度的布線板中的偏斜分布，其中所述多個第一組合模式是分別通過對特定線長度的所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的，所述多個第二組合模式是分別通過對特定線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二位置模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的模擬設(shè)備，其中所述基本線長度的所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在所述第一差動線延伸的方向上具有構(gòu)成所述第一玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度；以及 所述基本線長度的所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在所述第二差動線延伸的方向上具有構(gòu)成所述第二玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的模擬設(shè)備，其中所述第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在與所述第一差動線延伸的方向正交的方向上具有構(gòu)成所述第一玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度；以及 所述第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型在與所述第二差動線延伸的方向正交的方向上具有構(gòu)成所述第二玻璃布的玻璃纖維束的一個周期或多個周期的長度。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的模擬設(shè)備，其中，在具有所述特定線長度的所述布線板在所述一對差動線上側(cè)包括多個玻璃布的情況下， 所述偏斜計(jì)算單元根據(jù)所述玻璃布的數(shù)量計(jì)算多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一位置模式的每個第一位置模式中的所述第一偏斜，在所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型之間，所述第一差動線和所述第一玻璃布之間的距離不同；以及 所述偏斜分布獲取單元通過針對所述多個布線板模式的每個布線板模對作為所述第一偏斜的、所述多個第一位置模式的每個第一位置模式的第一偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，其中所述多個第一位置模式構(gòu)成所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一組合模式的每個第一組合模式，所述多個布線板模式的每個布線板模式是通過對作為所述多個第一組合模式的、所述多個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第一布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第一組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的模擬設(shè)備，其中，在具有所述特定線長度的所述布線板在所述一對差動線下側(cè)包括多個玻璃布的情況下， 所述偏斜計(jì)算單元根據(jù)所述玻璃布的數(shù)量計(jì)算多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型中的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二位置模式中的每個第二位置模式中的所述第二偏斜，在所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型之間，所述第二差動線和所述第二玻璃布之間的距離不同；以及 所述偏斜分布獲取單元通過針對所述多個布線板模式的每個布線板模對作為所述第二偏斜的、所述多個第二位置模式的每個第二位置模式的第二偏斜求和，來計(jì)算總偏斜，其中所述多個第二位置模式構(gòu)成所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二組合模式的每個第二組合模式，所述多個布線板模式的每個布線板模式是通過對作為所述多個第二組合模式的、所述多個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的每個第二布線板內(nèi)部結(jié)構(gòu)模型的所述多個第二組合模式進(jìn)行組合而構(gòu)成的。
11.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的模擬設(shè)備，還包括:偏斜分布顯示單元，其使所述偏斜分布獲取單元獲取的所述偏斜分布顯示在屏幕上。
【文檔編號】G06F17/50GK104182562SQ201410181044
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月22日
【發(fā)明者】長岡秀明, 福盛大雅, 水谷大輔 申請人:富士通株式會社