觸摸屏的制作方法
【專利摘要】一種觸摸屏，包括：觸控基板，包括透明襯底及設于透明襯底一側(cè)的第一導電層；保護基板，包括面板本體及設于面板本體一側(cè)的第二導電層；透明光學膠層，設于觸控基板與保護基板具有第二導電層的一側(cè)之間；其中，第一導電層與第二導電層中的至少一者包括基質(zhì)及嵌入基質(zhì)中的導電納米絲線，導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，基質(zhì)為固化的透明感光樹脂；第一導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第一觸控電極；第二導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第二觸控電極，且第一觸控電極與第二觸控電極垂直設置。上述觸摸屏具有較好的導電性能。
【專利說明】觸摸屏
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及觸控【技術領域】，特別是涉及一種觸摸屏。
【背景技術】
[0002]觸摸屏是可接收觸摸輸入信號的感應式裝置。觸摸屏賦予了信息交互嶄新的面貌，是極富吸引力的全新信息交互設備。觸摸屏技術的發(fā)展引起了國內(nèi)外信息傳媒界的普遍關注，已成為光電行業(yè)異軍突起的朝陽高新技術產(chǎn)業(yè)。
[0003]觸摸屏包括觸控基板及層疊于觸控基板上的面板本體。傳統(tǒng)的觸控基板的制作方法通常為:
[0004](I)直接在透明襯底上形成導電層。以ITO(Indium Tin Oxide,氧化銦錫)導電層為例，需要先進行ITO鍍膜，再對得到的ITO層進行圖形化處理。由于導電層裸露在外，容易被劃傷，進而導致導電層的導電性能降低。
[0005](2)在透明襯底上設置透明基質(zhì)層，然后采用壓印等方式在透明基質(zhì)層上形成網(wǎng)格狀凹槽，再于網(wǎng)格狀凹槽中填充導電材料(例如，金屬、石墨烯等)，形成網(wǎng)格狀導電層。由于網(wǎng)格狀導電層的一側(cè)暴露于透明基質(zhì)層外，而很多導電材料(例如，金屬銀)易被空氣氧化。而導電材料被氧化會導致網(wǎng)格狀導電層的導電性能降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]基于此，有必要提供一種具有較好導電性能的觸摸屏。
[0007]一種觸摸屏，包括:
[0008]觸控基板，包括透明襯底、設于所述透明襯底一側(cè)的第一導電層以及設于所述透明襯底與所述第一導電層之間的透明粘結(jié)層；
[0009]保護基板，包括面板本體及設于所述面板本體一側(cè)的第二導電層；及
[0010]透明光學膠層，設于所述觸控基板與所述保護基板具有所述第二導電層的一側(cè)之間；
[0011]其中，所述第一導電層與所述第二導電層中的至少一者包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導電納米絲線，所述導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂；所述第一導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第一觸控電極；所述第二導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第二觸控電極，且所述第一觸控電極與所述第二觸控電極垂直設置。
[0012]在其中一個實施例中，所述透明襯底的厚度為0.02mm?0.5mm,所述面板本體的厚度為0.1mm?2.5mm。
[0013]在其中一個實施例中，所述透明襯底的厚度為0.05mm?0.2mm,所述面板本體的厚度為0.3mm?0.7mm。
[0014]在其中一個實施例中，所述第一導電層包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導電納米絲線，所述導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂，所述第一導電層的厚度為0.05 μ m?10 μ m。
[0015]在其中一個實施例中，所述第一導電層的厚度為0.08μπι?2μπι。
[0016]在其中一個實施例中，所述第一導電層的方阻為0.1 Ω / □?500 Ω / □;所述導電納米絲線為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線或碳納米絲線。
[0017]在其中一個實施例中，所述第一導電層的方阻為50 Ω / □?200 Ω / 口。
[0018]在其中一個實施例中，所述導電納米絲線的直徑為IOnm?IOOOnm,長度為20nm?50 μ m0
[0019]在其中一個實施例中，部分所述導電納米絲線露出所述第一導電層遠離所述透明襯底的一側(cè)外。
[0020]在其中一個實施例中，所述透明粘結(jié)層的材質(zhì)與所述基質(zhì)的材質(zhì)相同。
[0021]在其中一個實施例中，所述透明粘結(jié)層的厚度為0.5 μ m?50 μ m。
[0022]在其中一個實施例中，還包括折射率調(diào)節(jié)層；所述折射率調(diào)節(jié)層設于所述觸控基板具有所述第一導電層的一側(cè)，所述折射率調(diào)節(jié)層的折射率為1.6?2.8。
[0023]在其中一個實施例中，所述折射率調(diào)節(jié)層的材質(zhì)為Ti02、Nb2O5或1，3，5-三嗪_2，4，6-三胺類化合物。
[0024]在其中一個實施例中，還包括保護層；所述保護層設于所述觸控基板具有所述第一導電層的一側(cè)。
[0025]在其中一個實施例中，所述保護層遠離所述透明襯底的一側(cè)與所述第一導電層遠離所述透明襯底的一側(cè)之間的距離為0.1 μ m?10 μ m。
[0026]在其中一個實施例中，所述第一導電層的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)與所述第二導電層的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)相同。
[0027]在其中一個實施例中，所述第二導電層為ITO導電層、金屬網(wǎng)格導電層、石墨烯導電層、碳納米管導電層或?qū)щ姼叻肿訉щ妼印?br> [0028]上述第一導電層與第二導電層中的至少一者的導電網(wǎng)格被透明感光樹脂基質(zhì)包覆，從而使得導電層能較好的避免劃傷，不容易損壞。同時大大降低了導電網(wǎng)格與空氣接觸的機會，使得上述導電層不容易被氧化。因此，上述觸摸屏具有較好導電性能。而且上述導電層以導電納米絲線交錯連接形成的導電網(wǎng)格實現(xiàn)導電，相對于ITO導電層，其具有相對較低的電阻率。而且導電納米絲線相對于ITO柔韌性更好，從而使得上述觸摸屏具有較好的抗彎折性。此外，導電納米絲線交錯連接形成的導電網(wǎng)格以基質(zhì)為載體，且該基質(zhì)由透明感光樹脂固化而成，在制作導電層時，直接通過曝光顯影即可得到，無需額外涂覆、剝離光刻膠的步驟，可以簡化工藝。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為一實施方式的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖2為圖1中的觸摸屏的分解圖；
[0031]圖3為圖1中的觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖4為圖3中的第一導電層與透明粘結(jié)層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖5為另一實施方式中的觸控基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖6為另一實施方式中的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；[0035]圖7為一實施方式的觸控基板的制作方法的流程圖；
[0036]圖8為一實施方式中的干膜未去除保護膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖9為圖8中的干膜處于第一次曝光的狀態(tài)圖；
[0038]圖10為圖9中的干膜處于第二次曝光的狀態(tài)圖；
[0039]圖11為圖10中的干膜顯影后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖12為另一實施方式的干膜顯影后的狀態(tài)圖。
【具體實施方式】
[0041]下面結(jié)合附圖及具體實施例對觸摸屏進行進一步的說明。
[0042]如圖1及圖2所示，一實施方式的觸摸屏10，包括觸控基板100、保護基板200及透明光學膠層300。
[0043]如圖3所示，觸控基板100包括透明襯底110、第一導電層120、透明粘結(jié)層130、折射率調(diào)節(jié)層140及保護層150。
[0044]透明襯底110的材質(zhì)可以為玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)烯烴共聚物或環(huán)烯烴聚合物。透明襯底110的厚度為0.02mm?0.5mm0進一步，在本實施方式中，在綜合考慮透明襯底110的加工難易程度及觸摸屏10的整體厚度后，透明襯底110的厚度優(yōu)選為0.05mm?0.2mm。
[0045]如圖2?4所示，第一導電層120設于透明襯底110—側(cè)。第一導電層120包括基質(zhì)122及均勻嵌入基質(zhì)122中的導電納米絲線124。這些導電納米絲線124交錯連接形成導電網(wǎng)格，使得該第一導電層120整體均勻?qū)щ姟５谝粚щ妼?20被圖案化而形成多條平行間隔排列的第一觸控電極126。在本實施方式中,第一觸控電極126呈長條狀。
[0046]在本實施方式中，部分導電納米絲線124露出第一導電層120遠離透明襯底110的一側(cè)外。雖然部分導電納米絲線124暴露在基質(zhì)122外，但是導電納米絲線124交錯連接形成的導電網(wǎng)格的主體部分還是被基質(zhì)122包覆，因此，上述觸控基板100相對于傳統(tǒng)的觸控基板具有更好的抗氧化及抗劃傷能力。
[0047]在本實施方式中，第一導電層120的厚度為0.05 μ m?10 μ m。在設計第一導電層120的厚度時，需要考慮導電納米絲線124是否能較好的嵌入基質(zhì)122中以及觸摸屏10的整體厚度等因素。在綜合上述因素后，第一導電層120的厚度優(yōu)選為0.08μηι?2μηι。
[0048]在本實施方式中，導電納米絲線124的直徑為IOnm?lOOOnm，長度為20nm?50 μ m。由于導電納米絲線124的直徑小于人眼的可視寬度，從而保證第二導電層140的視覺透明性。導電納米絲線124可以為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線、碳納米絲線等易于制備且具有較好導電性能的導電絲線。
[0049]進一步,在本實施方式中,第一導電層120的方阻為0.1 Ω/ □?500 Ω / □,相較于ITO導電層具有更好的導電性,更適合用于制作如平板電腦(pad)、一體機(All in one,ΑΙ0)、筆記本(NoteBook)等尺寸較大的觸控產(chǎn)品。
[0050]第一導電層120的導電性與導電納米絲線124的直徑及導電納米絲線124分布密度相關，直徑越大，分布密度越大，則導電性越好，即方阻越低。然而，導電納米絲線124的直徑越大、分布密度越大，導電層的透過率越低。因此，為了保證透過率和導電性的平衡，第一導電層120的方阻優(yōu)選為50 Ω / □?200 Ω / □。[0051]透明粘結(jié)層130設于透明襯底110及第一導電層120之間，從而使得第一導電層120能較好的附著于透明襯底110上。在本實施方式中，透明粘結(jié)層130的厚度為0.5 μ m?50 μ m。在本實施方式中，透明粘結(jié)層130的厚度大于第一導電層120的厚度。
[0052]進一步，在本實施方式中，透明粘結(jié)層130的材質(zhì)與基質(zhì)122的材質(zhì)相同，即均為固化的透明感光樹脂，從而便于同時對第一導電層120及透明粘結(jié)層130進行圖案化。
[0053]由于第一導電層120被圖案化而形成，使得第一導電層120不連續(xù)，保留的部分構(gòu)成觸控基板100的圖案部，被去除的部分構(gòu)成觸控基板100的背景部，圖案部與背景部由于材質(zhì)不同，存在反射率差異，特別是，當圖案部與背景部存在較大的高度差時，光線照射在觸控基板100上時，觸控基板100上的圖案容易被用戶看到，進而影響觸控基板100的視覺效果。
[0054]在本實施方式中，通過設置折射率調(diào)節(jié)層140來解決上述問題。折射率調(diào)節(jié)層140的折射率為1.6?2.8，設于第一導電層120上，并同時覆蓋圖案部及背景部。
[0055]進一步，在實施方式中，折射率調(diào)節(jié)層140的材質(zhì)為Ti02、Nb205、l，3，5-三嗪_2，4，6-三胺類化合物等透明絕緣材質(zhì)。進一步，折射率調(diào)節(jié)層140的厚度為20nm?10 μ m0
[0056]為防止第一導電層120在生產(chǎn)和使用過程中被刮傷，還在第一導電層120遠離透明襯底110的一側(cè)設置保護層150，并同時覆蓋圖案部及背景部。在本實施方式中，保護層150的材質(zhì)為熱固化樹脂、紫外固化樹脂等絕緣材質(zhì)。保護層150遠離透明襯底110的一側(cè)與第一導電層120遠離透明襯底110的一側(cè)之間的距離為0.Ιμπι?ΙΟμπι。
[0057]可以理解，在其他實施方式中，可以同時缺省折射率調(diào)節(jié)層140及保護層150，也可以缺省射率調(diào)節(jié)層150與保護層150中的一者。圖5即為缺省折射率調(diào)節(jié)層140的情況。
[0058]保護基板200包括面板本體210及第二導電層220。
[0059]面板本體210的材質(zhì)可以為玻璃、藍寶石、碳酸聚脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚甲丙烯酸甲脂。面板本體210的厚度為0.1mm?2.5_。進一步,在本實施方式中，面板本體210的厚度優(yōu)選為0.3mm?0.7mm。
[0060]第二導電層220設于面板本體210—側(cè)。第二導電層220被圖案化而形成多條平行間隔排列的第二觸控電極222。第二觸控電極22呈長條狀，且第一觸控電極126與第二觸控電極222垂直設置。當導體，例如手指觸摸時，第一觸控電極126及第二觸控電極222由于電容變化而形成觸控信號，分別用于確定觸控點的X軸向坐標及Y軸向坐標。
[0061]在本實施方式中，第二導電層220為ITO導電層。可以理解，在其他實施方式中，第二導電層220也可以是金屬網(wǎng)格導電層、石墨烯導電層、碳納米管導電層或?qū)щ姼叻肿訉щ妼?。第二導電?20也可以與第一導電層120具有相似的結(jié)構(gòu)，即包括基質(zhì)及均勻嵌入該基質(zhì)中的導電納米絲線，這些導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，使得該第二導電層220整體均勻?qū)щ?。此時，第一導電層120可以為ITO導電層、金屬網(wǎng)格導電層、石墨烯導電層、碳納米管導電層或?qū)щ姼叻肿訉щ妼??？梢岳斫猓诙щ妼?20與透明襯底110之間也可以設有透明粘結(jié)層。
[0062]透明光學膠層300設于觸控基板100與保護基板200具有第二導電層220的一側(cè)之間。在本實施方式中，透明光學膠層300設于觸控基板100具有第一導電層120的一側(cè)上。如圖6所示，在其他實施方式中，透明光學膠層300也可以設于觸控基板100遠離第一導電層120的一側(cè)上。
[0063]如圖7所示，在本實施方式中，還提供一種觸控基板的制作方法，包括如下步驟:
[0064]步驟S410，提供透明襯底。
[0065]步驟S420，提供一干膜500，如圖8所示，干膜500由流體狀的透明感光樹脂預固化及壓制而形成，干膜500的透明感光樹脂為半固態(tài)，干膜500自一側(cè)表面的一定厚度范圍內(nèi)嵌入導電納米絲線而形成導電層520，干膜500未嵌入導電納米絲線的區(qū)域形成透明粘結(jié)層510，導電層520表面設置有保護膜540，透明粘結(jié)層510表面設置有保護膜530。
[0066]其中，半固態(tài)的透明感光樹脂包括如下重量份數(shù)的各組分:60?80份成膜樹脂、I?10份感光劑、5?20份溶劑、0.1?5份穩(wěn)定劑、0.1?5份流平劑、0.1?5份消泡劑，各組分的份數(shù)之和為100。
[0067]固化的透明感光樹脂包括如下重量份數(shù)的各組分:30?50份成膜樹脂、I?10份感光劑、0.1?5份穩(wěn)定劑、0.1?5份流平劑及0.1?5份消泡劑。
[0068]成膜樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯、線性酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚與丁烯酸甲酯中的至少一種。感光劑為重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮鹽、芳香硫鎗鹽、芳香碘鎗鹽與二茂鐵鹽中的至少一種。溶劑為四氫呋喃、甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇、N，N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯與乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1，6-己二醇甲氧基單丙烯酸酯與乙氧基化新戊二醇甲氧基單丙烯酸酯中的至少一種。穩(wěn)定劑為對苯二酚、對甲氧基苯酚、對苯醌、2，6—二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪與蒽醌中的至少一種。流平劑為聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纖維、硝化纖維素與聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種。消泡劑為磷酸酯、脂肪酸酯與有機硅的至少一種。
[0069]步驟S430，如圖9所示，去除透明粘結(jié)層510表面的保護膜530，將干膜500貼合于透明襯底表面，并使透明粘結(jié)層510直接貼附于透明襯底110上，導電層520遠離透明襯底 110。
[0070]由于保護膜530需要先于保護膜540撕除，以便將干膜500熱壓貼合于透明襯底110上。因此，在設計保護膜530與保護膜540時，使得透明粘結(jié)層510與保護膜530之間的粘性力低于導電層520與保護膜540之間的粘性力。
[0071]步驟S440，對干膜500進行圖案化處理:對干膜500依次進行曝光及顯影，形成多條平行間隔排列的第一觸控電極。
[0072]如圖9-11所示，在本實施方式中，形成該干膜500的透明感光樹脂為自由基光引發(fā)體系負性感光樹脂，即，光照處發(fā)生化學聚合反應而不溶于顯影液，但該感光樹脂在空氣中發(fā)生聚合反應時，會產(chǎn)生氧阻效應，因此需要采用兩次曝光方式對干膜500進行曝光。在第一次曝光時，干膜500的導電層520表面還設置有保護膜540，先不去除該保護膜540，使得干膜500表面隔絕空氣，此時因為透明粘結(jié)層510已經(jīng)貼附在透明襯底110上，所以也與氧氣隔絕。采用根據(jù)第一觸控電極的形狀選擇的掩膜板600對干膜500進行曝光，使得圖案部被光照而產(chǎn)生聚合反應。然后去除掩膜板600以及設置于干膜500表面的保護膜540。直接對干膜500進行第二次曝光，此時，對于第一次曝光未被光照的區(qū)域，表面由于跟空氣接觸，由于氧阻效應使得干膜500暴露在空氣中的表面反應不完全而可以被顯影液溶蝕，而表面以下的部分，由于不跟空氣接觸，可以發(fā)生化學聚合反應而不被顯影液溶蝕。第二次曝光的能量越大，其表面以下發(fā)生化學聚合反應的區(qū)域越厚。因此，可以通過調(diào)節(jié)曝光能量，既能使導電層520中除第一觸控電極以外的部分能被顯影液完全溶蝕，又能減小圖案部與背景部的高度差，避免圖案不容易被辨識。
[0073]如圖12所示，在其他實施方式中，形成該干膜500的透明感光樹脂為正性感光樹脂基質(zhì)。即，光照處溶于顯影液。在對干膜500進行曝光之前，還包括去除導電層520表面的保護膜540的步驟。然后采用根據(jù)第一觸控電極的形狀進行選擇的掩膜板進行曝光。因為光照處溶于顯影液，所以要保留第一觸控電極的圖形時，應采用與第一觸控電極形狀互補的掩膜板進行曝光。在本實施方式中，可以通過調(diào)整曝光能量調(diào)節(jié)反應深度，從而減小保留的圖案部與溶于顯影液的背景部的高度差，避免圖案不容易被辨識。
[0074]對干膜500進行曝光的過程中，曝光波長為300nm?400nm,曝光能量為IOmJ/cm2?500mJ/cm2。對經(jīng)過曝光后的干膜進行顯影的過程中，采用質(zhì)量分數(shù)為0.1%?10%的弱堿鹽溶液進行顯影。弱堿鹽可以為碳酸鉀、碳酸鈉等。
[0075]步驟S450,固化干膜。
[0076]可以采用熱固化或者UV固化的方式:采用熱固化方式固化時，熱固化的溫度為80°C?150°C，固烤時間為IOmin?60min。采用UV固化方式固化時，UV固化能量為200mJ/cm2?2000mJ/cm2。透明感光樹脂處于流體狀態(tài)或半固化狀態(tài)時具有感光性能，透明感光樹脂處于固化狀態(tài)時不具有感光性能。
[0077]固化后的導電層520及透明粘結(jié)層510即為本實施方式中觸控基板的第一導電層及透明粘結(jié)層。
[0078]在本實施方式中，還包括在觸控基板具有第一導電層的一側(cè)設置折射率調(diào)節(jié)層的步驟，折射率調(diào)節(jié)層同時覆蓋圖案部及背景部。
[0079]在本實施方式中，還包括在觸控基板具有第一導電層的一側(cè)形成保護層的步驟，保護層同時覆蓋圖案部及背景部。
[0080]上述第一導電層120中的導電網(wǎng)格被透明感光樹脂基質(zhì)包覆，從而使得上述第一導電層120能較好的避免劃傷，不容易損壞。同時大大降低了導電網(wǎng)格與空氣接觸的機會，使得上述第一導電層120不容易被氧化。因此，上述觸摸屏10具有較好導電性能。而且上述第一導電層120以導電納米絲線124交錯連接形成的導電網(wǎng)格實現(xiàn)導電，相對于ITO導電層，其具有相對較低的電阻率。而且導電納米絲線124相對于ITO柔韌性更好，從而使得上述觸摸屏10具有較好的抗彎折性。此外，導電納米絲線124交錯連接形成的導電網(wǎng)格以基質(zhì)122為載體，在制作第一導電層120時，直接通過曝光顯影即可得到，無需額外涂覆、剝離光刻膠的步驟，可以簡化工藝。
[0081]以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。
【權利要求】
1.一種觸摸屏，其特征在于，包括: 觸控基板，包括透明襯底、設于所述透明襯底一側(cè)的第一導電層以及設于所述透明襯底與所述第一導電層之間的透明粘結(jié)層； 保護基板，包括面板本體及設于所述面板本體一側(cè)的第二導電層；及 透明光學膠層，設于所述觸控基板與所述保護基板具有所述第二導電層的一側(cè)之間； 其中，所述第一導電層與所述第二導電層中的至少一者包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導電納米絲線，所述導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂；所述第一導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第一觸控電極；所述第二導電層被圖案化而形成多條平行間隔排列的第二觸控電極，且所述第一觸控電極與所述第二觸控電極垂直設置。
2.根據(jù)權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明襯底的厚度為0.02mm~0.5mm,所述面板本體的厚度為0.1mm~2.5mm。
3.根據(jù)權利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明襯底的厚度為0.05mm~0.2mm,所述面板本體的厚度為0.3mm~0.7mm。
4.根據(jù)權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導電層包括基質(zhì)及嵌入所述基質(zhì)中的導電納米絲線，所述導電納米絲線交錯連接形成導電網(wǎng)格，所述基質(zhì)為固化的透明感光樹脂，所述第一導電層的厚度為0.05 μ m~10 μ m。
5.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導電層的厚度為0.08 μ m~2 μ m0
6.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導電層的方阻為0.1Ω/□~500Ω/ 口 ；所述導電納米絲線為金納米絲線、銀納米絲線、銅納米絲線、鋁納米絲線或碳納米絲線。
7.根據(jù)權利要求6所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導電層的方阻為50Ω/□~200 Ω / 口。
8.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述導電納米絲線的直徑為IOnm~1000nm,長度為 20nm ~50 μ m。
9.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，部分所述導電納米絲線露出所述第一導電層遠離所述透明襯底的一側(cè)外。
10.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明粘結(jié)層的材質(zhì)與所述基質(zhì)的材質(zhì)相同。
11.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明粘結(jié)層的厚度為0.5 μ m~50 μ m0
12.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，還包括折射率調(diào)節(jié)層；所述折射率調(diào)節(jié)層設于所述觸控基板具有所述第一導電層的一側(cè)，所述折射率調(diào)節(jié)層的折射率為1.6~2.8。
13.根據(jù)權利要求12所述的觸摸屏，其特征在于，所述折射率調(diào)節(jié)層的材質(zhì)為Ti02、Nb2O5或1，3，5-三嗪-2，4，6-三胺類化合物。
14.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，還包括保護層；所述保護層設于所述觸控基板具有所述第一導電層的一側(cè)。
15.根據(jù)權利要求14所述的觸摸屏，其特征在于，所述保護層遠離所述透明襯底的一側(cè)與所述第一導電層遠離所述透明襯底的一側(cè)之間的距離為0.1liIIi~10 μ m。
16.根據(jù)權利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一導電層的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)與所述第二導電層的結(jié)構(gòu)及材質(zhì)相同。
17.根據(jù)權 利要求4所述的觸摸屏，其特征在于，所述第二導電層為ITO導電層、金屬網(wǎng)格導電層、石墨烯導電層、碳納米管導電層或?qū)щ姼叻肿訉щ妼印?br> 【文檔編號】G06F3/041GK104020888SQ201410239493
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年5月30日 優(yōu)先權日:2014年5月30日
【發(fā)明者】唐根初, 劉偉, 蔣芳 申請人:南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司