觸控感應(yīng)層及觸控顯示裝置的形成方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種觸控感應(yīng)層的形成方法，用于形成圖案化的氧化銦錫薄膜及導(dǎo)電薄膜，其包括在玻璃基板上形成圖案化的第一光阻層；在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜；利用第一道剝離工序形成圖案化的導(dǎo)電薄膜；在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二光阻層；在圖案化的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及利用第二道剝離工序形成與圖案化的導(dǎo)電薄膜對位的氧化銦錫薄膜。本發(fā)明還提供一種使用所述觸控感應(yīng)層的形成方法的觸控感應(yīng)裝置的形成方法。本發(fā)明的觸控感應(yīng)層的形成方法首先圖案化光阻層，再利用剝離工序分別形成導(dǎo)電薄膜及氧化銦錫薄膜，形成的導(dǎo)電薄膜及氧化銦錫薄膜對位精準(zhǔn)、制成簡單，從而使得形成的觸控感應(yīng)層精準(zhǔn)度高。
【專利說明】觸控感應(yīng)層及觸控顯示裝置的形成方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及觸控顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種觸控感應(yīng)層及觸控顯示裝置的形成 方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著科學(xué)技術(shù)的日益發(fā)展，移動電話、個人數(shù)字助理、筆記本電腦等數(shù)字化工具朝 著便利、多功能且美觀的方向發(fā)展，其中顯示屏幕是這些設(shè)備中不可或缺的人機(jī)溝通界面， 目前，主流的顯示屏幕大都采用液晶顯示技術(shù)。另一方面，隨著信息技術(shù)、無線移動通訊和 信息家電的快速發(fā)展與應(yīng)用，為了達(dá)到更便利、更輕巧以及更人性化的目的，許多信息產(chǎn)品 已由傳統(tǒng)的鍵盤或鼠標(biāo)等裝置輸入，轉(zhuǎn)為使用觸控式面板（Touch Panel)作為輸入裝置，其 中，觸控式液晶顯示裝置已成為主流產(chǎn)品。
[0003] 觸控顯不裝置主要分為：單片玻璃式（one glass solution, 0GS)、玻璃蓋板-導(dǎo) 電薄膜-導(dǎo)電薄膜式（glass-film-film，GFF)、上層式（on cell)及里層式（in cell)。其中， 0GS觸控顯示裝置是在顯示裝置的保護(hù)玻璃（cover lens)上直接形成氧化銦錫（indium tin oxide，ΙΤ0)導(dǎo)電膜，以起到保護(hù)玻璃和觸摸感應(yīng)的雙重作用。in-cell觸控顯示裝置 是將觸控感應(yīng)線路制作于液晶面板薄膜晶體管陣列基板上的像素內(nèi)部，而on-cell觸控顯 示裝置則是將觸控感應(yīng)線路制作于彩色濾光片玻璃基板的表層或底層，也就是說將觸控感 應(yīng)線路制作于彩色濾光片玻璃基板與偏光片之間、或者制作于彩色濾光片玻璃基板與液晶 層之間。因此，相對0GS觸控屏，in-cell和on-cell顯示裝置觸控屏的感應(yīng)線路因受到基 板玻璃的保護(hù)而更安全，且更便于實(shí)現(xiàn)觸控顯示裝置的薄型化和輕量化。
[0004] 根據(jù)觸控顯示裝置中觸控感應(yīng)層的工作原理，觸控顯示裝置可分為電阻式、電容 式、紅外線式和表面聲波式、光學(xué)等多種，其中電容式觸控顯示裝置由于其反應(yīng)速度快、靈 敏度高、可靠性佳等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛的應(yīng)用到各種電子產(chǎn)品中。
[0005] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)的一種具有觸控功能的液晶顯示裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖1所 示，具有觸控功能的液晶顯示裝置100包括上基板7、下基板9及位于上基板7與下基板9 之間的液晶層8。具體的，液晶顯示裝置100的上基板7由上到下依次包括：偏光片1、觸控 感應(yīng)層2、上玻璃基板3、黑色矩陣4、彩色濾光片（color filter，CF)5及配向?qū)?。其中，觸 控感應(yīng)層2包括ΙΤ0薄膜層21及金屬薄膜層22,且ΙΤ0薄膜層21及金屬薄膜層22均形成 于上玻璃基板3上，因為ΙΤ0本身的電阻較大，單獨(dú)用ΙΤ0薄膜層21做觸控層會影響觸控 感應(yīng)層2的觸控效果；反之，如果單獨(dú)用金屬薄膜層22做觸控層，則金屬薄膜層22會直接 暴露在空氣中，容易被腐蝕，也會影響其觸控效果。
[0006] 在現(xiàn)有技術(shù)的具有觸控功能的液晶顯示裝置100中，為了不影響其透光率，觸控 感應(yīng)層2的金屬薄膜層22位于與黑色矩陣4相對應(yīng)的位置，即金屬薄膜層22均位于黑色 矩陣上方。
[0007] 圖2為圖1所示現(xiàn)有技術(shù)的觸控感應(yīng)層2的形成方法流程示意圖。請參閱圖1與 圖2所示，觸控感應(yīng)層2的形成方法包括：
[0008] 首先，進(jìn)入步驟S21 :沉積一層金屬薄膜層22并利用第一道光罩處理金屬薄膜，使 金屬薄膜均位于黑色矩陣4上方；
[0009] 其次，進(jìn)入步驟S22 :利用第二道光罩制程圖案化金屬薄膜層22 ;
[0010] 最后，進(jìn)入步驟S23 :利用第三道光罩制程，在圖案化的金屬薄膜層22上形成圖案 化的ΙΤ0薄膜層21。但是，現(xiàn)有技術(shù)的觸控感應(yīng)層2的形成方法需要利用三道光罩制程，制 程復(fù)雜，而且ΙΤ0薄膜層21與金屬薄膜層22分別利用不同的光罩制程形成，影響了 ΙΤ0薄 膜層21與金屬薄膜層22的對位精度，降低了觸控感應(yīng)層2的精準(zhǔn)度。
[0011] 因此，有必要提供改進(jìn)的技術(shù)方案以克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的以上技術(shù)問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 本發(fā)明要解決的主要技術(shù)問題是提供一種制成簡單、精準(zhǔn)度高的觸控感應(yīng)層及觸 控感應(yīng)裝置的形成方法。
[0013] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種觸控感應(yīng)層的形成方法，用于形成圖案 化的氧化銦錫薄膜及導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所述觸控感應(yīng)層的形成方法包括：在玻璃基板 上形成圖案化的第一光阻層；在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜；利用第一道剝離工 序形成圖案化的導(dǎo)電薄膜；在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二 光阻層；在圖案化的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及利用第二道剝離工序形成與圖案 化的導(dǎo)電薄膜對位的氧化銦錫薄膜。
[0014] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，上述玻璃基板為彩色濾光片玻璃基板。
[0015] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，上述導(dǎo)電薄膜為鑰、鋁等不透光的導(dǎo)電材料。
[0016] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，在上述玻璃基板上形成圖案化的第一光阻層的步 驟包括：將第一光阻覆蓋于玻璃基板上；及對覆蓋了第一光阻的玻璃基板進(jìn)行曝光處理后 采用顯影工序。
[0017] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，上述第一光阻層為正型光阻層。
[0018] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，在上述圖案化的導(dǎo)電薄膜上形成圖案化的第二光 阻層的步驟包括：在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層；對覆蓋了第二光阻的玻璃基板 進(jìn)行反面曝光處理；及利用曝光遮擋治具再進(jìn)行正面曝光處理后采用顯影工序。
[0019] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，上述第二光阻層為負(fù)型光阻層。
[0020] 本發(fā)明還提供一種觸控顯示裝置的形成方法，上述觸控顯示裝置的形成方法包括 形成觸控感應(yīng)層；其中，所述觸控感應(yīng)層的形成方法包括：在玻璃基板上形成圖案化的第 一光阻層；在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜；利用第一道剝離工序形成圖案化的導(dǎo) 電薄膜；在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二光阻層；在圖案化 的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及利用第二道剝離工序形成與圖案化的導(dǎo)電薄膜對位 的氧化銦錫薄膜。
[0021] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，在上述玻璃基板上形成圖案化的第一光阻層的步 驟包括：將第一光阻覆蓋于玻璃基板上；及對覆蓋了第一光阻的玻璃基板進(jìn)行曝光處理后 采用顯影工序；其中，所述第一光阻層為正型光阻層。
[0022] 在本發(fā)明的一個較佳實(shí)施例中，在上述圖案化的導(dǎo)電薄膜形成圖案化的第二光阻 層的步驟包括：在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層；及對覆蓋了第二光阻的玻璃基板 進(jìn)行反面曝光處理；及利用曝光遮擋治具再進(jìn)行正面曝光處理后采用顯影工序。其中，所述 第二光阻層為負(fù)型光阻層。
[0023] 本發(fā)明的觸控感應(yīng)層及觸控顯示裝置的形成方法首先利用一道光罩制成圖案化 光阻層，再利用剝離工序分別形成導(dǎo)電薄膜及氧化銦錫薄膜，由于導(dǎo)電薄膜及氧化銦錫薄 膜均根據(jù)圖案化的光阻層而采用lift-off工藝制成，因此，對位精準(zhǔn)，且僅僅利用一道光 罩，制成簡單，從而使得形成的觸控感應(yīng)層精準(zhǔn)度高且節(jié)省成本。
[0024] 通過以下參考附圖的詳細(xì)說明，本發(fā)明的其它方面和特征變得明顯。但是應(yīng)當(dāng)知 道，附圖僅僅為解釋的目的設(shè)計，而不是作為本發(fā)明的范圍的限定，這是因為其應(yīng)當(dāng)參考附 加的權(quán)利要求。還應(yīng)當(dāng)知道，除非另外指出，不必要依比例繪制附圖，它們僅僅力圖概念地 說明此處描述的結(jié)構(gòu)和流程。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)的On-Cell電容式觸控屏的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026] 圖2為現(xiàn)有技術(shù)的觸控感應(yīng)層的形成方法流程示意圖。
[0027] 圖3為本發(fā)明一實(shí)施方式的觸控感應(yīng)層的形成步驟示意圖。
[0028] 圖4為如圖3所示的觸控感應(yīng)層的形成步驟中曝光遮擋治具的平面結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0029] 為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明 的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說明。
[0030] 圖3為本發(fā)明一實(shí)施方式的觸控感應(yīng)層的形成步驟示意圖。如圖3所示，觸控感 應(yīng)層的形成方法包括：
[0031] 首先，進(jìn)入步驟S31 :在玻璃基板10上形成圖案化的第一光阻層11。具體的，首 先，將第一光阻層11覆蓋于玻璃基板10上。其次，對覆蓋了第一光阻層11的玻璃基板10 進(jìn)行利用第一道光罩15曝光處理后采用顯影工序，形成圖案化的第一光阻層11。
[0032] 在本實(shí)施例中，玻璃基板10為例如為彩色濾光片玻璃基板10,其觸控感應(yīng)層是在 彩色濾光片玻璃基板10上的彩色濾光片與黑矩陣形成之后制作在玻璃基板10上。在其他 實(shí)施方式中，也可以是在彩色濾光片玻璃基板10上的彩色濾光片與黑矩陣（圖中未示出） 形成之前制作在玻璃基板10上的，在此并不做特別限制。
[0033] 在本實(shí)施例中，第一光阻層11為正型光阻層。
[0034] 其次，進(jìn)入步驟S32 :在圖案化的第一光阻層11上鍍上導(dǎo)電薄膜層12。在本實(shí)施 例中，導(dǎo)電薄膜層12例如為由鑰或鋁等不透光的導(dǎo)電材料制成。
[0035] 然后，進(jìn)入步驟S33 :利用第一道剝離工序形成圖案化的導(dǎo)電薄膜層12。具體的， 利用第一道剝離（lift-off)工序?qū)D案化的第一光阻層11及位于第一光阻層11上方并 與之相重疊的那部分導(dǎo)電薄膜層12剝離，從而形成圖案化的導(dǎo)電薄膜層12。
[0036] 具體的，利用第一道剝離（lift-off)工序?qū)D案化的第一光阻層11及位于第一 光阻層11上方并與之相重疊的那部分導(dǎo)電薄膜層12剝離是指將圖案化的第一光阻層11 及導(dǎo)電薄膜層12浸泡于剝離液中（剝離液不與導(dǎo)電薄膜層12發(fā)生反應(yīng)），因為導(dǎo)電薄膜層 12的膜厚與圖案化的第一光阻層11的厚度相比比較薄，一般不會超過第一光阻層11的厚 度的三分之二，使導(dǎo)電薄膜層12在圖案化的第一光阻層11的圖形邊緣形成不連續(xù)的過渡 區(qū)，即導(dǎo)電薄膜層12在圖案化的第一光阻層11的圖形邊緣形成的臺階處有斷裂，剝離液很 容易通過斷裂處滲透到圖案化的第一光阻層11，使其溶解，隨著圖案化的第一光阻層11的 溶解，其位于圖案化的第一光阻層11上方并與之相重疊的那部分導(dǎo)電薄膜層12也隨其一 起脫落，從而留下所需的圖案化的導(dǎo)電薄膜層12。
[0037] 隨后，進(jìn)入步驟S34:在圖案化的導(dǎo)電薄膜層12覆蓋第二光阻層13,且形成圖案化 的第二光阻層13。具體的，首先，在圖案化的導(dǎo)電薄膜層12上覆蓋第二光阻層13。其次， 利用圖案化的導(dǎo)電薄膜層12作為光罩，對覆蓋了第二光阻層13的玻璃基板10進(jìn)行反面曝 光處理；然后利用一不透光的曝光遮擋治具16對第二光阻層13再進(jìn)行一次正面曝光處理 后采用顯影工序，以形成圖案化的第二光阻層13。
[0038] 顯示裝置可分為有效顯示區(qū)及位于有效顯示區(qū)周邊的非有效顯示區(qū)，因為本實(shí)施 例中顯示裝置的非有效顯示區(qū)被黑矩陣完全遮擋，無法利用圖案化的導(dǎo)電薄膜層12作為 光罩進(jìn)行反面曝光處理，必須再引入一不透光的曝光遮擋治具16通過正面曝光處理以在 顯示裝置的非有效顯示區(qū)形成圖案化的第二光阻層13。圖4為如圖3所示的觸控感應(yīng)層 的形成步驟中曝光遮擋治具的平面結(jié)構(gòu)示意圖。請同時參閱圖3及圖4,曝光遮擋治具16 與顯示裝置的有效顯示（active area，AA)區(qū)形狀相同且大小相等，用于完全遮蓋住顯示裝 置的有效顯示（active area，AA)區(qū)，也就是說，第二光阻層13位于顯示裝置非有效顯示區(qū) 的部分利用通過正面曝光處理，第二光阻層13位于顯示裝置有效顯示區(qū)的部分利用圖案 化的導(dǎo)電薄膜層12進(jìn)行曝光處理，在顯示裝置的有效顯示區(qū)避免了光罩的使用，使得顯示 裝置的有效顯示區(qū)形成的圖案化的第二光阻層13的圖案更精準(zhǔn)。其中，第二光阻為負(fù)型光 阻，曝光遮擋治具16例如為由金屬等不透光材料制成，相對于普通光罩，曝光遮擋治具16 精度要求低，制備簡單。
[0039] 隨后，進(jìn)入步驟S35 :在圖案化的第二光阻層13上鍍上氧化銦錫薄膜層14。
[0040] 最后，進(jìn)入步驟S36 :利用第二道剝離工序形成與圖案化的導(dǎo)電薄膜層12對位的 氧化銦錫薄膜層14。具體的，利用第二道lift-off工序?qū)D案化的第二光阻層13及部分 位于第二光阻層13上方的氧化銦錫薄膜層14剝離，是指將圖案化的第二光阻層13及氧化 銦錫薄膜層14浸泡于剝離液中（剝離液不與氧化銦錫薄膜層14發(fā)生反應(yīng)），因為氧化銦錫 薄膜層14的膜厚與圖案化的第二光阻層13的厚度相比比較薄，一般不會超過第二光阻層 13的厚度的三分之二，使氧化銦錫薄膜層14在圖案化的第二光阻層13的圖形邊緣形成不 連續(xù)的過渡區(qū)，即氧化銦錫薄膜層14在圖案化的第二光阻層13的圖形邊緣形成的臺階處 有斷裂，剝離液很容易通過斷裂處滲透到圖案化的第二光阻層13,使其溶解，隨著圖案化的 第二光阻層13的溶解，其位于圖案化的第二光阻層13上方并與之相重疊的那部分氧化銦 錫薄膜層14也隨其一起脫落，留下所需的圖案化的氧化銦錫薄膜層14,從而形成圖案化的 氧化銦錫薄膜層14。
[0041] 本發(fā)明還提供一種觸控顯示裝置的形成方法，觸控顯示裝置的形成方法包括使用 如圖3所示的步驟形成觸控感應(yīng)層。具體的，觸控感應(yīng)層的形成方法包括在玻璃基板上形 成圖案化的第一光阻層；在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜；利用第一道剝離工序形 成圖案化的導(dǎo)電薄膜；在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二光阻 層；在圖案化的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及利用第二道剝離工序形成與圖案化的 導(dǎo)電薄膜對位的氧化銦錫薄膜。
[0042] 本發(fā)明的觸控感應(yīng)層及觸控顯示裝置的形成方法，首先利用一道光罩圖案化光阻 層，再利用lift-off工序分別形成圖案化的導(dǎo)電薄膜層12及圖案化的氧化銦錫薄膜層14， 由于圖案化的導(dǎo)電薄膜層12及圖案化的氧化銦錫薄膜層14均采用lift-off工藝制成，且 在形成有效顯示區(qū)的氧化銦錫薄膜層14時是利用圖案化的導(dǎo)電薄膜層12本身作為光罩， 提高了氧化銦錫薄膜層14與導(dǎo)電薄膜層22的對位精度，增加了觸控感應(yīng)層2的精準(zhǔn)度對 位精準(zhǔn)，且僅需利用一道光罩，制程簡單且節(jié)省成本。
[〇〇43] 本文應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的觸控感應(yīng)層及觸控感應(yīng)裝置的形成方法的實(shí)施 方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施方式的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同 時，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，在【具體實(shí)施方式】及應(yīng)用范圍上均會有 改變之處，綜上，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所附的 權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種觸控感應(yīng)層的形成方法，用于形成圖案化的氧化銦錫薄膜及導(dǎo)電薄膜，其特征 在于，所述觸控感應(yīng)層的形成方法包括： 在玻璃基板上形成圖案化的第一光阻層； 在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜； 利用第一道剝離工序形成圖案化的導(dǎo)電薄膜； 在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二光阻層； 在圖案化的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及 利用第二道剝離工序形成與圖案化的導(dǎo)電薄膜對位的氧化銦錫薄膜。
2. 如權(quán)利要求1所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，所述玻璃基板為彩色濾 光片玻璃基板。
3. 如權(quán)利要求1所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，所述導(dǎo)電薄膜為鑰、鋁等 不透光的導(dǎo)電材料。
4. 如權(quán)利要求1所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，在玻璃基板上形成圖案 化的第一光阻層的步驟包括： 將第一光阻覆蓋于玻璃基板上；及 對覆蓋了第一光阻的玻璃基板進(jìn)行曝光處理后采用顯影工序。
5. 如權(quán)利要求4所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，所述第一光阻層為正型 光阻層。
6. 如權(quán)利要求5所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，在圖案化的導(dǎo)電薄膜上 形成圖案化的第二光阻層的步驟包括： 在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層； 對覆蓋了第二光阻的玻璃基板進(jìn)行反面曝光處理；及 利用曝光遮擋治具再進(jìn)行正面曝光處理后采用顯影工序。
7. 如權(quán)利要求6所述的觸控感應(yīng)層的形成方法，其特征在于，所述第二光阻層為負(fù)型 光阻層。
8. -種觸控顯示裝置的形成方法，其特征在于，所述觸控顯示裝置的形成方法包括形 成觸控感應(yīng)層；其中，所述觸控感應(yīng)層的形成方法包括： 在玻璃基板上形成圖案化的第一光阻層； 在圖案化的第一光阻層上鍍上導(dǎo)電薄膜； 利用第一道剝離工序形成圖案化的導(dǎo)電薄膜； 在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層，且形成圖案化的第二光阻層； 在圖案化的第二光阻層上鍍上氧化銦錫薄膜；及 利用第二道剝離工序形成與圖案化的導(dǎo)電薄膜對位的氧化銦錫薄膜。
9. 如權(quán)利要求8所述的觸控顯示裝置的形成方法，其特征在于，在玻璃基板上形成圖 案化的第一光阻層的步驟包括： 將第一光阻覆蓋于玻璃基板上；及 對覆蓋了第一光阻的玻璃基板進(jìn)行曝光處理后采用顯影工序； 其中，所述第一光阻層為正型光阻層。
10. 如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置的形成方法，其特征在于，在圖案化的導(dǎo)電薄膜 形成圖案化的第二光阻層的步驟包括： 在圖案化的導(dǎo)電薄膜上覆蓋第二光阻層；及 對覆蓋了第二光阻的玻璃基板進(jìn)行反面曝光處理；及 利用曝光遮擋治具再進(jìn)行正面曝光處理后采用顯影工序。 其中，所述第二光阻層為負(fù)型光阻層。
【文檔編號】G06F3/041GK104111754SQ201410323444
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月8日
【發(fā)明者】簡廷憲, 鐘德鎮(zhèn), 戴文君, 潘新葉 申請人:昆山龍騰光電有限公司