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      一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏的制作方法

      文檔序號(hào):6626493閱讀:174來源:國知局
      一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏,該陣列基板包括公共電極層,所述公共電極層被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極和多個(gè)公共電極,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極用于分時(shí)加載公共電極信號(hào)和觸控掃描信號(hào),每一所述觸控驅(qū)動(dòng)電極包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極的金屬配線。采用本發(fā)明的方案,可有效降低觸控驅(qū)動(dòng)電極的電阻,從而可以減小觸控驅(qū)動(dòng)電極中的信號(hào)延遲,提高包括該陣列基板的內(nèi)嵌式觸摸屏的觸摸性能。
      【專利說明】一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏。

      【背景技術(shù)】
      [0002]電容式內(nèi)嵌觸摸(In Cell Touch)技術(shù),即在液晶面板中制作兩層相互異面相交的條狀I(lǐng)TO(氧化銦錫)電極,這兩層電極分別作為觸摸屏的觸控驅(qū)動(dòng)電極Tx和觸控感應(yīng)電極Rx,在兩條ITO電極的異面相交處形成感應(yīng)電容。電容式內(nèi)嵌觸摸屏工作過程為:在對(duì)觸控驅(qū)動(dòng)電極Tx加載觸控掃描信號(hào)時(shí),檢測(cè)觸控感應(yīng)電極Rx通過感應(yīng)電容耦合出的電壓信號(hào),在此過程中,如果有人體接觸觸摸屏,人體電場(chǎng)就會(huì)作用在感應(yīng)電容上,使感應(yīng)電容的電容值發(fā)生變化,進(jìn)而改變觸控感應(yīng)電極Rx耦合出的電壓信號(hào),根據(jù)電壓信號(hào)的變化,就可以確定觸點(diǎn)位置。
      [0003]目前已有廠家將電容式內(nèi)嵌觸摸技術(shù)應(yīng)用于ADS (Advanced Super Dimens1nSwitch,聞級(jí)超維場(chǎng)開關(guān))型的液晶面板上。請(qǐng)參考圖1,圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的ADS型的電容式內(nèi)嵌觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖,該電容式內(nèi)嵌觸摸屏包括陣列基板彩膜(CF)基板100、陣列(TFT)基板200以及位于彩膜基板100和陣列基板200之間的液晶層300,彩膜基板100包括:襯底基板101、CF功能層102及觸控感應(yīng)電極103,陣列基板200包括襯底基板201、TFT功能層202及公共電極層203,公共電極層203被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極2031和多個(gè)公共電極2032,對(duì)觸控驅(qū)動(dòng)電極2031采取分時(shí)驅(qū)動(dòng),實(shí)現(xiàn)顯示和觸控功能,分時(shí)驅(qū)動(dòng)能夠降低顯示和觸控的相互干擾,提高畫面品質(zhì)和觸控準(zhǔn)確性。
      [0004]上述內(nèi)嵌式觸摸屏中,由于將公共電極復(fù)用為觸控驅(qū)動(dòng)電極,而公共電極通常為透明金屬氧化物電極,如ITO或IZO(氧化銦鋅)等,透明金屬氧化物電極的電阻值通常比較大,從而會(huì)造成觸控驅(qū)動(dòng)電極中的信號(hào)產(chǎn)生延遲。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]有鑒于此,本發(fā)明提供一種陣列基板和具有該陣列基板的電容式內(nèi)嵌觸摸屏,用以減小觸控驅(qū)動(dòng)電極的信號(hào)延遲。
      [0006]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種陣列基板,包括:公共電極層,所述公共電極層被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極和多個(gè)公共電極,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極用于分時(shí)加載公共電極信號(hào)和觸控掃描信號(hào),其中,每一所述觸控驅(qū)動(dòng)電極包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極的金屬配線。
      [0007]優(yōu)選地,所述金屬配線與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極位于不同層,且與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極并聯(lián)。
      [0008]優(yōu)選地,所述金屬配線位于所述公共電極層,與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極串聯(lián)。
      [0009]優(yōu)選地,所述金屬配線與觸控感應(yīng)電極位置交疊,且,當(dāng)所述觸控驅(qū)動(dòng)電極沿行方向延伸時(shí),所述金屬配線在列方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極在列方向上的寬度,當(dāng)所述觸控驅(qū)動(dòng)電極沿列方向延伸時(shí),所述金屬配線在行方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極在行方向上的寬度。
      [0010]優(yōu)選地,所述金屬配線與觸控感應(yīng)電極的交疊面積位于2?3平方微米范圍內(nèi)。
      [0011]優(yōu)選地,所述金屬配線位于柵線或數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)區(qū)域。
      [0012]本發(fā)明還提供一種內(nèi)嵌式觸控屏,包括上述陣列基板。
      [0013]優(yōu)選地,所述內(nèi)嵌式觸控屏還包括彩膜基板,所述彩膜基板包括觸控感應(yīng)電極及多個(gè)像素單元。
      [0014]優(yōu)選地,所述觸控感應(yīng)電極位于所述像素單元的非開口區(qū)域。
      [0015]優(yōu)選地,所述觸控感應(yīng)電極采用金屬材料制成。
      [0016]本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
      [0017]由于組成觸控驅(qū)動(dòng)電極的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極通過低電阻的金屬配線串聯(lián)起來,因而可有效降低觸控驅(qū)動(dòng)電極的電阻,從而可以減小觸控驅(qū)動(dòng)電極中的信號(hào)延遲,提高包括該陣列基板的內(nèi)嵌式觸摸屏的觸摸性能。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0018]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的ADS型的電容式內(nèi)嵌觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0019]圖2為本發(fā)明實(shí)施例一的陣列基板中的公共電極層的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0020]圖3為本發(fā)明實(shí)施例二的陣列基板中的公共電極層的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0021]圖4為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線和子觸控驅(qū)動(dòng)電極的一連接方式示意圖;
      [0022]圖5為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線的平面結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0023]圖6為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線與子觸控驅(qū)動(dòng)電極的又一連接方式示意圖;
      [0024]圖7為本發(fā)明實(shí)施例的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0025]圖8為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)嵌式觸控屏的一剖面結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0026]圖9為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)嵌式觸控屏的另一剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0027]為使本發(fā)明要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
      [0028]實(shí)施例一
      [0029]本發(fā)明實(shí)施例的陣列基板包括公共電極層,請(qǐng)參考圖2,圖2為本發(fā)明實(shí)施例一的陣列基板中的公共電極層的結(jié)構(gòu)示意圖,所述公共電極層被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極5031和多個(gè)公共電極5032,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031用于分時(shí)加載公共電極信號(hào)和觸控掃描信號(hào),具體的,在顯示階段,觸控驅(qū)動(dòng)電極5031作為公共電極,加載公共電極信號(hào),在觸控階段,觸控驅(qū)動(dòng)電極5031加載觸控掃描信號(hào),分時(shí)驅(qū)動(dòng)能夠降低顯示和觸控的相互干擾,提聞畫面品質(zhì)和觸控準(zhǔn)確性。
      [0030]為減小觸控驅(qū)動(dòng)電極的電阻,本發(fā)明實(shí)施例中,每一所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311的金屬配線50312。
      [0031]本實(shí)施例中,觸控驅(qū)動(dòng)電極5031和公共電極5032均沿列方向延伸,當(dāng)然,在其他實(shí)施例中,也可沿行方向延伸。
      [0032]所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311通常采用ITO或IZO等透明金屬氧化物制成,所述金屬配線50312通常采用鋁或銅等低電阻金屬材料制成,由于組成一個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311通過低電阻的金屬配線50312串聯(lián)起來,因而可有效降低觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的電阻,從而可以減小觸控驅(qū)動(dòng)電極5031中的信號(hào)延遲,提高包括該陣列基板的內(nèi)嵌式觸摸屏的觸摸性能。
      [0033]實(shí)施例二
      [0034]本發(fā)明實(shí)施例的陣列基板包括公共電極層,請(qǐng)參考圖3,圖3為本發(fā)明實(shí)施例二的陣列基板中的公共電極層的結(jié)構(gòu)示意圖,該實(shí)施例中的公共電極層與實(shí)施例一中的公共電極層的區(qū)別在于:公共電極5032的結(jié)構(gòu)與觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的結(jié)構(gòu)相同,而實(shí)施例一中,公共電極5032為整條狀的電極。
      [0035]本實(shí)施例中,每一公共電極5032包括:沿所述公共電極5032的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子公共電極50321,以及用于連接相鄰的所述子公共電極50321的金屬配線50322,其中,子公共電極50321的尺寸與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311的尺寸相同。
      [0036]由于公共電極5032與觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的結(jié)構(gòu)相同,因而兩者的電阻也相同,在顯示階段,公共電極5032與觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的傳輸信號(hào)的時(shí)間也相同,從而可避免包含該陣列基板的內(nèi)嵌式觸摸屏產(chǎn)生畫面閃爍,提高顯示品質(zhì)。
      [0037]請(qǐng)參考圖4,圖4為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線和子觸控驅(qū)動(dòng)電極的一連接方式示意圖,圖中,501為陣列基板的襯底基板,502為陣列基板的TFT功能層,TFT功能層通常包括:柵電極、柵絕緣層、有源層和源漏電極等。本實(shí)施例中,金屬配線50312與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311位于不同層,且所述金屬配線50312位于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311之上,與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311并聯(lián)。本實(shí)施例中,由于金屬配線50312與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311并聯(lián),因此可大幅減低觸控驅(qū)動(dòng)電極的電阻。
      [0038]請(qǐng)參考圖5,圖5為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線的平面結(jié)構(gòu)示意圖,圖中方塊區(qū)域600為陣列基板的柵線和數(shù)據(jù)線交叉限定的像素區(qū)域,金屬配線50312位于柵線和數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)區(qū)域。
      [0039]當(dāng)然,在本發(fā)明的其他實(shí)施例中,所述金屬配線也可以僅位于柵線對(duì)應(yīng)區(qū)域或數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)區(qū)域。
      [0040]請(qǐng)參考圖6,圖6為本發(fā)明實(shí)施例的金屬配線與子觸控驅(qū)動(dòng)電極的又一連接方式示意圖,圖中,501為陣列基板的襯底基板,502為陣列基板的TFT功能層,TFT功能層通常包括:柵電極、柵絕緣層、有源層和源漏電極等。本實(shí)施例中,所述金屬配線50312與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311均位于公共電極層,所述金屬配線50312位于相鄰的兩子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311之間,與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311串聯(lián)。
      [0041]根據(jù)觸控驅(qū)動(dòng)電極與觸控感應(yīng)電極之間的感應(yīng)電容C= ε S/d的計(jì)算公式可知,感應(yīng)電容C與觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極之間的交疊面積S成正比,可以通過減小觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極之間的交疊面積S,來減小觸控驅(qū)動(dòng)電極與觸控感應(yīng)電極之間的感應(yīng)電容C。
      [0042]請(qǐng)參考圖7,圖7為本發(fā)明實(shí)施例的觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極結(jié)構(gòu)示意圖,本發(fā)明實(shí)施例中,所述金屬配線50312與觸控感應(yīng)電極403位置交疊,本發(fā)明實(shí)施例中,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031沿列方向延伸,此時(shí),所述金屬配線50312在行方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311在行方向上的寬度。
      [0043]當(dāng)然,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031也可以沿行方向延伸,此時(shí),所述金屬配線50312在列方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311在列方向上的寬度。
      [0044]通過上述方案,可以減小觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極之間的交疊面積,從而在觸控驅(qū)動(dòng)電極和觸控感應(yīng)電極交疊處形成較小的感應(yīng)電容C,人體電場(chǎng)作用在此感應(yīng)電容上就會(huì)產(chǎn)生明顯的變化,從而可以提高包含該陣列基板的內(nèi)嵌式觸摸屏的靈敏度。
      [0045]優(yōu)選地,所述金屬配線與觸控感應(yīng)電極的交疊面積位于2?3平方微米范圍內(nèi)。
      [0046]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種內(nèi)嵌式觸控屏,包括陣列基板,所述陣列基板可以為上述任一實(shí)施例中的陣列基板。所述內(nèi)嵌式觸控屏還包括彩膜基板,所述彩膜基板包括觸控感應(yīng)電極及多個(gè)像素單元。所述內(nèi)嵌式觸摸屏可以為ADS型的內(nèi)嵌式觸摸屏,即觸控感應(yīng)電極位于彩膜基板上,彩膜基板包括及多個(gè)像素單元。
      [0047]優(yōu)選地,所述觸控感應(yīng)電極位于所述像素單元的非開口區(qū)域。所述非開口區(qū)域一般設(shè)置有黑矩陣,通常黑矩陣與柵線或數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)設(shè)置,同時(shí),優(yōu)選地,所述金屬配線也對(duì)應(yīng)于所述非開口區(qū)域設(shè)置。
      [0048]優(yōu)選地,所述觸控感應(yīng)電極可以采用金屬材料制成,以降低觸控感應(yīng)電極的電阻,提高觸控感應(yīng)電極中信號(hào)的傳輸速度。
      [0049]請(qǐng)參考圖8,圖8為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)嵌式觸控屏的一剖面結(jié)構(gòu)示意圖,該內(nèi)嵌式觸摸屏包括:彩膜基板400、陣列基板500及位于彩膜基板400和陣列基板500之間的液晶層300,彩膜基板400包括:襯底基板401、CF功能層402及觸摸感應(yīng)電極403,陣列基板500包括:襯底基板501、TFT功能層502及公共電極層503,公共電極層503被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極5031和多個(gè)公共電極(圖未示出),其中,觸控驅(qū)動(dòng)電極5031包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311的金屬配線50312。金屬配線50321與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311均位于公共電極層503,金屬配線50321與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311串聯(lián)。
      [0050]請(qǐng)參考圖9,圖9為本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)嵌式觸控屏的另一剖面結(jié)構(gòu)示意圖,該內(nèi)嵌式觸摸屏包括:彩膜基板400、陣列基板500及位于彩膜基板400和陣列基板500之間的液晶層300,彩膜基板400包括:襯底基板401、CF功能層402及觸摸感應(yīng)電極403,陣列基板500包括:襯底基板501、TFT功能層502及公共電極層503,公共電極層503被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極5031和多個(gè)公共電極(圖未示出),其中,觸控驅(qū)動(dòng)電極5031包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極5031的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311的金屬配線50312。金屬配線50321位于子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311之上,與子觸控驅(qū)動(dòng)電極50311并聯(lián)。
      [0051]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下,還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
      【權(quán)利要求】
      1.一種陣列基板,包括公共電極層,所述公共電極層被分割成間隔設(shè)置的多個(gè)觸控驅(qū)動(dòng)電極和多個(gè)公共電極,所述觸控驅(qū)動(dòng)電極用于分時(shí)加載公共電極信號(hào)和觸控掃描信號(hào),其特征在于,每一所述觸控驅(qū)動(dòng)電極包括:沿所述觸控驅(qū)動(dòng)電極的延伸方向間隔設(shè)置的多個(gè)子觸控驅(qū)動(dòng)電極,以及用于連接相鄰的所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極的金屬配線。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬配線與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極位于不同層,且與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極并聯(lián)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬配線位于所述公共電極層,與所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極串聯(lián)。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬配線與觸控感應(yīng)電極位置交疊,且,當(dāng)所述觸控驅(qū)動(dòng)電極沿行方向延伸時(shí),所述金屬配線在列方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極在列方向上的寬度,當(dāng)所述觸控驅(qū)動(dòng)電極沿列方向延伸時(shí),所述金屬配線在行方向上的寬度小于所述子觸控驅(qū)動(dòng)電極在行方向上的寬度。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬配線與觸控感應(yīng)電極的交疊面積位于2?3平方微米范圍內(nèi)。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述金屬配線位于柵線或數(shù)據(jù)線對(duì)應(yīng)區(qū)域。
      7.一種內(nèi)嵌式觸控屏,其特征在于,包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的陣列基板。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的內(nèi)嵌式觸控屏,其特征在于,還包括彩膜基板,述彩膜基板包括觸控感應(yīng)電極及多個(gè)像素單元。
      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的內(nèi)嵌式觸控屏,其特征在于,所述觸控感應(yīng)電極位于所述像素單元的非開口區(qū)域。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的內(nèi)嵌式觸控屏,其特征在于,所述觸控感應(yīng)電極采用金屬材料制成。
      【文檔編號(hào)】G06F3/044GK104238854SQ201410458393
      【公開日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月10日
      【發(fā)明者】謝振宇 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司
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