本公開的示例實(shí)施例總體涉及集成電路領(lǐng)域，并且更具體地，涉及一種用于版圖處理的方法、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、電路版圖，簡(jiǎn)而言之即版圖，是經(jīng)由設(shè)計(jì)與模擬優(yōu)化后的電路所轉(zhuǎn)化的一系列圖形。它詳盡地包含了集成電路的尺寸、各層拓?fù)涠x等關(guān)鍵物理信息數(shù)據(jù)，成為集成電路制造商制造掩模的重要依據(jù)。掩模上的版圖圖案，精確決定了芯片上器件或連接物理層的尺寸，其重要性不言而喻。

2、隨著集成電路制造工藝的不斷進(jìn)步，技術(shù)節(jié)點(diǎn)逐漸減小，集成電路中的目標(biāo)圖案之間的距離也隨之減小，而掩模上與目標(biāo)圖案相對(duì)應(yīng)的版圖圖案的密度則日益增加。然而，光波在掩模的版圖圖案處會(huì)發(fā)生衍射現(xiàn)象，這導(dǎo)致實(shí)際形成的圖案與版圖圖案相比會(huì)產(chǎn)生一定的失真。

3、為了解決這個(gè)問(wèn)題，光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(optical?proximity?corr?ection，opc)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。它通過(guò)精細(xì)地調(diào)整掩模的版圖圖案，來(lái)改變光刻過(guò)程中晶圓表面的光強(qiáng)分布，從而有效地補(bǔ)償由光學(xué)鄰近效應(yīng)導(dǎo)致的圖形轉(zhuǎn)移失真。opc技術(shù)的應(yīng)用，使得集成電路的制造更加精確和可靠。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、在本公開的第一方面，提供了一種用于版圖處理的方法。該方法包括：確定版圖中待修正的第一圖形段在第一坐標(biāo)系下的第一位置表示，其中第一位置表示指示第一圖形段在版圖中的位置；將第一位置表示轉(zhuǎn)換為第一圖形段在第二坐標(biāo)系下的第二位置表示，第二坐標(biāo)系不同于第一坐標(biāo)系；基于修正目標(biāo)，確定針對(duì)第二位置表示的目標(biāo)修正信息；以及基于目標(biāo)修正信息，對(duì)第一圖形段在版圖中的位置進(jìn)行修正。

2、在本公開的第二方面，提供了一種電子設(shè)備。該設(shè)備包括至少一個(gè)處理單元；以及至少一個(gè)存儲(chǔ)器，至少一個(gè)存儲(chǔ)器被耦合到至少一個(gè)處理單元并且存儲(chǔ)用于由至少一個(gè)處理單元執(zhí)行的指令。指令在由至少一個(gè)處理單元執(zhí)行時(shí)使設(shè)備執(zhí)行第一方面的方法。

3、在本公開的第三方面，提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。該計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，計(jì)算機(jī)程序可由處理器執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)第一方面的方法。

4、在本公開的第四方面，提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。該計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令，這些指令在被處理器執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)根據(jù)本公開的第一方面的方法。

5、應(yīng)當(dāng)理解，本內(nèi)容部分中所描述的內(nèi)容并非旨在限定本公開的實(shí)施例的關(guān)鍵特征或重要特征，也不用于限制本公開的范圍。本公開的其它特征將通過(guò)以下的描述而變得容易理解。

技術(shù)特征：

1.一種用于版圖處理的方法，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一坐標(biāo)系包括直角坐標(biāo)系，并且其中所述第二坐標(biāo)系包括極坐標(biāo)系。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述第一位置表示包括所述第一圖形段的一組端點(diǎn)在所述直角坐標(biāo)系下的坐標(biāo)，所述第二位置表示包括所述第一圖形段的中點(diǎn)在所述極坐標(biāo)系下的坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述極坐標(biāo)系的原點(diǎn)基于所述第一圖形段的中點(diǎn)的初始位置所確定，并且所述第二位置表示中的極角基于所述第一圖形段的法線與所述極坐標(biāo)系的極軸所確定。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中將所述第一位置表示轉(zhuǎn)換為第二位置表示包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)預(yù)定方向包括以下至少一項(xiàng)：

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述第一圖形段的一組端點(diǎn)包括位于所述第一圖形段第一端點(diǎn)的第一端點(diǎn)和位于所述第一圖形段第二端點(diǎn)的第二端點(diǎn)，并且其中基于所述第一圖形段的一組端點(diǎn)在所述直角坐標(biāo)系下的坐標(biāo)，確定所述第一圖形段的延伸方向包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其中基于修正目標(biāo)，確定針對(duì)所述第二位置表示的目標(biāo)修正信息包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述第二預(yù)定方向包括與所述第一預(yù)定方向相同或相反的方向。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中基于所述目標(biāo)修正信息，對(duì)所述第一圖形段在所述版圖中的位置進(jìn)行修正，包括：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中基于所述第一位置表示中的橫坐標(biāo)、縱坐標(biāo)、所述第一修正值和所述第二修正值，對(duì)所述第一圖形段在所述版圖中的位置進(jìn)行修正，包括：

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中將經(jīng)過(guò)位置修正的所述第一圖形段與第二圖形段進(jìn)行拼接，包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中將經(jīng)過(guò)位置修正的所述第一圖形段與第二圖形段進(jìn)行拼接，包括：

15.一種電子設(shè)備，包括：

16.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序可由處理器執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1至14任一項(xiàng)所述的方法。

17.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令，其中所述計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令在被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的方法。

技術(shù)總結(jié)
本公開的實(shí)施例涉及一種用于版圖處理的方法、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。在此提出的方法包括：確定版圖中待修正的第一圖形段在第一坐標(biāo)系下的第一位置表示，其中第一位置表示指示第一圖形段在版圖中的位置；將第一位置表示轉(zhuǎn)換為第一圖形段在第二坐標(biāo)系下的第二位置表示，第二坐標(biāo)系不同于第一坐標(biāo)系；基于修正目標(biāo)，確定針對(duì)第二位置表示的目標(biāo)修正信息；以及基于目標(biāo)修正信息，對(duì)第一圖形段在版圖中的位置進(jìn)行修正。以此方式，本公開的實(shí)施例能夠?qū)θ较虬鎴D中的各種圖形段進(jìn)行精確修正。

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技術(shù)公布日：2024/12/5