技術(shù)特征：

1.一種掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于，所述方法包括：

2.如權(quán)利要求1所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于：缺陷數(shù)據(jù)組包括對(duì)應(yīng)缺陷的類型信息、位置信息和數(shù)值信息。

3.如權(quán)利要求2所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于，所述方法還包括：

4.如權(quán)利要求1所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于：第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面皆通過(guò)表格形式對(duì)缺陷數(shù)據(jù)組進(jìn)行顯示，第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面中的表格具備篩選和排序功能，第二圖形用戶界面還具備針對(duì)缺陷數(shù)據(jù)組的刪減功能。

5.如權(quán)利要求1所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于：

6.如權(quán)利要求5所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于：缺陷數(shù)據(jù)組還包括對(duì)應(yīng)缺陷的檢測(cè)器類型信息、檢測(cè)范圍信息和曝光條件信息。

7.如權(quán)利要求1所述的掩模版圖優(yōu)化方法，其特征在于：

8.一種程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序/指令，其特征在于：所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

9.一種存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序/指令，其特征在于：所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

10.一種計(jì)算機(jī)設(shè)備，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于：所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備；所述方法包括：提供中間掩模版圖；檢測(cè)中間掩模版圖的缺陷以生成數(shù)據(jù)庫(kù)文件，數(shù)據(jù)庫(kù)文件中包含與每一所檢測(cè)缺陷對(duì)應(yīng)的缺陷數(shù)據(jù)組；通過(guò)第一圖形用戶界面對(duì)數(shù)據(jù)庫(kù)文件包含的缺陷數(shù)據(jù)組進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示；接收在第一圖形用戶界面中對(duì)缺陷數(shù)據(jù)組的選擇指令，將所選擇的缺陷數(shù)據(jù)組記錄到第二圖形用戶界面并實(shí)時(shí)顯示；繼續(xù)進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)的迭代修正，迭代過(guò)程中的每一輪修正結(jié)束后，根據(jù)新修正的中間掩模版圖更新數(shù)據(jù)庫(kù)文件。本方法為工作人員提供對(duì)之前定位過(guò)的缺陷信息進(jìn)行快速重定位的功能，簡(jiǎn)化了用戶在掩模版圖修正過(guò)程中的操作步驟，提高了工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：桑忠志
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳晶源信息技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19