雙面硬化膜與包括該雙面硬化膜的電容式觸摸屏的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及觸摸屏領(lǐng)域，具體而言，涉及一種雙面硬化膜與包括該雙面硬化膜的 電容式觸摸屏。
【背景技術(shù)】
[0002] 電容式觸摸屏是一塊四層復(fù)合玻璃屏，一般包括由上至下設(shè)置的：基板、感應(yīng)層、 OCA膠層與顯示屏，其中，感應(yīng)層中包含基材與設(shè)置在基材表面上的ITO導(dǎo)電層。
[0003] 目前，上述的基材為雙面硬化膜，如圖1所示，該膜包括：第一硬涂層10'、PET基材 層20'、第二硬涂層30'與保護(hù)膜40'，PET基材層20'設(shè)置在第二硬涂層30'的表面上，第 一硬涂層10'設(shè)置在PET基材層20'的遠(yuǎn)離第二硬涂層30'的表面上，保護(hù)膜40'設(shè)置在 第二硬涂層30'的遠(yuǎn)離PET基材層20'的表面上。
[0004] 上述雙硬化膜使得ITO導(dǎo)電層的刻蝕一般采用油墨網(wǎng)印和黃光蝕刻，因?yàn)殡p面硬 化膜在濺射過(guò)程中需要鍍一層Nb2O5，該鍍膜層在經(jīng)過(guò)上述油墨網(wǎng)印和黃光蝕刻后易被鐳 射，，蝕刻后需高溫烘烤lh。在烘烤時(shí)，第一硬涂層、PET基材層與第二硬涂層由于具有較大 的收縮率而發(fā)生收縮，ITO導(dǎo)電層被蝕刻的紋路會(huì)因?yàn)榈谝挥餐繉?、PET基材層或第二硬涂 層的收縮而變形，使得蝕刻凹坑與ITO導(dǎo)電層的色差變得明顯，立體紋會(huì)逐漸顯露。目前， 常規(guī)的第一硬涂層與第二硬涂層的厚度達(dá)到4~5ym，有些甚至6~7ym，第一硬涂層與 第二硬涂層的厚度增加加劇了第一硬涂層與第二硬涂層的收縮，使得立體紋更加明顯；另 外，上述雙面硬化膜的霧度一般為0. 3~0. 5 %，不能對(duì)立體紋進(jìn)行有效遮掩，并且保護(hù)膜 的厚度也較小，一般為50ym，也不能對(duì)立體紋進(jìn)行有效遮掩。由此可見(jiàn)，現(xiàn)有技術(shù)的電容式 觸摸屏具有明顯的立體紋，無(wú)法滿足部分客戶需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的主要目的在于提供一種雙面硬化膜與包含該雙面硬化膜的電容式觸摸 屏，以解決現(xiàn)有技術(shù)中雙面硬化膜的立體紋較明顯的問(wèn)題。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種雙面硬化膜，該雙面硬化 膜包括：第一硬涂層、PET基材層與第二硬涂層，上述PET基材層設(shè)置在上述第一硬涂層的 表面上；上述第二硬涂層設(shè)置在上述PET基材層的遠(yuǎn)離上述第一硬涂層的表面上，其中，上 述第二硬涂層的厚度為1. 5~2. 5ym。
[0007] 進(jìn)一步地，上述第二硬涂層的厚度為1. 5~2. 0ym，優(yōu)選為I. 8ym。
[0008] 進(jìn)一步地，上述第一硬涂層的厚度為1. 5~2. 5ym，優(yōu)選為L(zhǎng)5~2. 0ym，更優(yōu)選 為I. 8ym〇
[0009] 進(jìn)一步地，上述第二硬涂層包括第二涂層主體和分散在上述第二涂層主體中的第 二氧化物粒子，優(yōu)選上述第二涂層主體為丙烯酸酯聚合物層。
[0010] 進(jìn)一步地，上述第二氧化物粒子的含量為1~20wt%，優(yōu)選為1~8wt%。
[0011] 進(jìn)一步地，上述第一硬涂層包括第一涂層主體和分散在上述第一涂層主體中的第 一氧化物粒子，優(yōu)選上述第一涂層主體為丙烯酸酯聚合物層。
[0012]進(jìn)一步地，上述第一氧化物粒子的含量為1~20wt%，優(yōu)選為1~8wt%。
[0013] 進(jìn)一步地，上述第二氧化物粒子為二氧化硅粒子或支鏈改性的PMMA粒子，上述第 一氧化物粒子為二氧化硅粒子或支鏈改性的PMM粒子。
[0014] 進(jìn)一步地，上述PET基材層機(jī)械拉伸方向的收縮率為0.0001~0.5%，垂直于機(jī) 械拉伸方向的收縮率為0. 0001~0. 2%，優(yōu)選上述PET基材層機(jī)械拉伸方向的收縮率為 0. 0001~0. 4%，優(yōu)選上述垂直于機(jī)械拉伸方向的收縮率為0. 0001~0. 1%。
[0015] 進(jìn)一步地，上述PET基材層的折射率為1.63~1.65,優(yōu)選上述PET基材層的厚度 為 100 ~150ym。
[0016] 進(jìn)一步地，上述雙面硬化膜還包括保護(hù)膜，上述保護(hù)膜設(shè)置在上述第二硬涂層的 遠(yuǎn)離上述PET基材層的表面上，上述保護(hù)膜的厚度為30~80ym，優(yōu)選為50ym。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種電容式觸摸屏，該電容式觸摸屏包括ITO導(dǎo) 電膜與雙面硬化膜，上述ITO導(dǎo)電膜設(shè)置在上述雙面硬化膜的表面上，其中，雙面硬化膜為 上述的雙面硬化膜。
[0018] 應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，雙面硬化膜的第二硬涂層的厚度較小，這樣能夠有效地 減小第二硬涂層在高溫下的變形，減少刻蝕烘烤后的ITO導(dǎo)電層紋路的變形程度，進(jìn)而避 免蝕刻凹坑與ITO導(dǎo)電層的色差變得明顯，有效改善了電容式觸摸屏的立體紋，進(jìn)而滿足 了客戶的需求。
【附圖說(shuō)明】
[0019] 構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的說(shuō)明書附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，本發(fā)明的示 意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：
[0020] 圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中一種雙面硬化膜的結(jié)構(gòu)剖面示意圖；
[0021] 圖2示出了本申請(qǐng)一種典型實(shí)施例中的雙面硬化膜的結(jié)構(gòu)剖面示意圖；以及
[0022] 圖3示出了本申請(qǐng)一種優(yōu)選實(shí)施例的雙面硬化膜的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023] 需要注意的是，這里所使用的術(shù)語(yǔ)僅是為了描述【具體實(shí)施方式】，而非意圖限制根 據(jù)本申請(qǐng)的示例性實(shí)施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式 也意圖包括復(fù)數(shù)形式，此外，還應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)在本說(shuō)明書中使用術(shù)語(yǔ)"包含"和/或"包 括"時(shí)，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。
[0024] 為了便于描述，在這里可以使用空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)，如"在……之上"、"在……上方"、 "在……上表面"、"上面的"等，用來(lái)描述如在圖中所示的一個(gè)器件或特征與其他器件或特 征的空間位置關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解的是，空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)旨在包含除了器件在圖中所描述的方位 之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為"在其他器 件或構(gòu)造上方"或"在其他器件或構(gòu)造之上"的器件之后將被定位為"在其他器件或構(gòu)造下 方"或"在其他器件或構(gòu)造之下"。因而，示例性術(shù)語(yǔ)"在……上方"可以包括"在……上方" 和"在……下方"兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位（旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方 位），并且對(duì)這里所使用的空間相對(duì)描述作出相應(yīng)解釋。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的一方面，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N雙面硬化膜，如圖2所示，該雙面硬化膜 包括：第一硬涂層KKPET基材層20與第二硬涂層30,上述PET基材層20設(shè)置在上述第一 硬涂層10的表面上；上述第二硬涂層30設(shè)置在上述PET基材層20的遠(yuǎn)離上述第一硬涂層 10的表面上，上述第二硬涂層30的厚度為1. 5~2. 5ym。
[0026] 該雙面硬化膜的第二硬涂層30的厚度較小，這樣能夠有效地減小第二硬涂層30 在高溫下的變形，減少刻蝕烘烤后的ITO導(dǎo)電層紋路的變形程度，進(jìn)而避免蝕刻凹坑與ITO 導(dǎo)電層的色差變得明顯，有效改善了電容式觸摸屏的立體紋，進(jìn)而滿足了客戶的需求。
[0027] 為了進(jìn)一步減小刻蝕烘烤后的ITO導(dǎo)電層紋路的變形程度，進(jìn)而更加有效地減少 電容式觸摸屏的立體紋數(shù)量，優(yōu)選上述第二硬涂層30的厚度為1. 5~2. 0ym;更優(yōu)選上述 第二硬涂層30的厚度為I. 8ym。
[0028]本申請(qǐng)技術(shù)人員在對(duì)影響立體紋的因素進(jìn)行研宄時(shí)，意外發(fā)現(xiàn)不僅上述第二硬涂 層的厚度對(duì)立體紋數(shù)量多少產(chǎn)生重要影響，而且第一硬涂層10的厚度也會(huì)對(duì)立體紋的數(shù) 量產(chǎn)生影響，因此為了利用第一硬涂層10進(jìn)一步減小刻蝕烘烤后的ITO導(dǎo)電層紋路的變形 程度，進(jìn)而更加有效地減少電容式觸摸屏的立體紋數(shù)量，本申請(qǐng)優(yōu)選上述第一硬涂層10的 厚度為1. 5~2. 5ym，優(yōu)選上述第一硬涂層10的厚度為1. 5~2. 0ym;更優(yōu)選上述第一硬 涂層10的厚度為1.8ym。
[0029]本申請(qǐng)的另一種優(yōu)選實(shí)施例中，上述第二硬涂層30包括第二涂層主體和分散在 上述第二涂層主體中的第二氧化物粒子，上述第二涂層主體為丙烯酸酯聚合物層，丙烯酸 酯聚合物層使得該層具有較低的收縮率。第二涂層主體中的第二氧化物粒子可以增加光的 散射，從而提高第二硬涂層30的霧度，進(jìn)而能夠?qū)αⅢw紋路進(jìn)行有效地遮掩，使得電容式 觸摸屏更加美觀，滿足客戶的需求。
[0030] 為了進(jìn)一步提高提高第二硬涂層30的霧度，并且不影響第二硬涂層30的光學(xué)性 能，本申請(qǐng)優(yōu)選上述第二硬涂層30中上述第二氧化物粒子的含量為1~20wt%，進(jìn)一步優(yōu) 選上述第二硬涂層30中上述第二氧化物粒子的含量為1~8wt%。
[0031]本申請(qǐng)的又一種優(yōu)選的實(shí)施例中，上述第一硬涂層10包括第一涂層主體和分散 在上述第一涂層主體中的第一氧化物粒子，上述第一涂層主體為丙烯酸酯聚合物層，丙烯 酸酯聚合物使得該層具有較低的收縮率。這樣第一涂層主體中的第一氧化物粒子可以增加 光的散射，從而提高第一硬涂層10的霧度，進(jìn)而能夠?qū)αⅢw紋路進(jìn)行有效地遮掩，使得電 容式觸摸屏更加美觀，滿足客戶的需求。
[0032] 為了進(jìn)一步提高第一硬涂層10的霧度，并且不影響第一硬涂層10的光學(xué)性能，上 述第一硬涂層10中第一氧化物粒子的含量為1~20wt%，進(jìn)一步為了提高第一硬涂層10 的霧度，同時(shí)保證第一硬涂層的光學(xué)性能，進(jìn)一步優(yōu)選上述第一硬涂層10中第一氧化物粒 子的含量為1~8wt%。
[0033]本申請(qǐng)的又一種優(yōu)選的實(shí)施例中，上述第一氧化物粒子為二氧化硅粒子或支鏈改 性的PMMA粒子（即PMMA-i粒子），上述第二氧化物粒子為二氧化硅粒子或支鏈改性的PMMA 粒子（即PMMA-i粒子），當(dāng)?shù)谝谎趸镫x子與第二氧化物離子采用上述這兩種離子中的一 種時(shí)，可以進(jìn)一步提高第二硬涂層30與第一硬涂層10的霧度，保證第一硬涂層10與第一 硬涂層10能夠?qū)αⅢw紋進(jìn)行有效地遮掩，進(jìn)而滿足客戶的需求。第一氧化物離子和第二氧 化物離子可以采用同一種材料，也可以采用不同的材料。
[0034] 為了減小PET基材層的收縮率，進(jìn)一步有效地減小刻蝕烘烤后的ITO導(dǎo)電層紋 路的變形程度，進(jìn)而有效地改善了立體紋，進(jìn)而滿足了客戶的需求。本申請(qǐng)優(yōu)選上述PET 基材層20機(jī)械拉伸方向的收縮率為0. 0001~0. 5%，垂直于機(jī)械拉伸方向的收縮率為 0. 0001~0. 2%。優(yōu)選上述PET基材層20機(jī)械拉伸方向的收縮率為0. 0001~0. 4%，上述 垂直于機(jī)械拉伸方向的收縮率為0. 0001~0. 1 %。
[0035] 本申請(qǐng)的又一種優(yōu)選的實(shí)施例中，上述PET基材層20的折射率為1. 63~1. 65,這 樣可以保證電容式觸摸屏具有良好的顯示效果。
[0036] 為了提高第二硬涂層附著力和抗彩虹紋性能，從而達(dá)到更好的顯示效