觸控面板的制備方法、觸控面板和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種觸控面板的制備方法、觸控面板和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著智能手機(jī)、平板電腦向輕薄化發(fā)展，觸摸屏OGS技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。所謂OGS技術(shù)，就是將觸摸感應(yīng)電極(Sensor)直接制作到保護(hù)玻璃上，從而減少1_2層玻璃的使用，達(dá)到減小整體觸控顯示面板的厚度，減輕重量的作用。因此最近幾年這種技術(shù)得到很大的發(fā)展。
[0003]目前OGS電容觸摸屏的制備主要有兩種技術(shù)，第一種是6步驟掩膜(6mask)架橋技術(shù)，另一種是5步驟掩膜金屬(5mask metal)架橋技術(shù)。6步驟掩膜(6mask)架橋技術(shù)包括以下步驟:
[0004]1.通過(guò)曝光顯影制備黑色邊框(即黑矩陣邊框)。
[0005]2.制備出觸摸感應(yīng)電極圖形；觸摸感應(yīng)電極沿Y方向的電極鏈導(dǎo)通，沿X方向的電極鏈不導(dǎo)通。
[0006]3.制備透明絕緣層，該絕緣層覆蓋沿X方向的電極鏈的橋接位置。
[0007]4.在絕緣層上再沉積一層觸摸感應(yīng)電極材料，使得沿X方向的電極鏈導(dǎo)通。
[0008]5.在黑色邊框上制備金屬走線，X/Y方向的電極鏈通過(guò)邊緣金屬走線連接驅(qū)動(dòng)芯片。
[0009]6.完成步驟5后再制備一層絕緣層，保護(hù)裸露在外的金屬走線不被氧化。
[0010]5步驟掩膜金屬(5mask metal)架橋技術(shù)包括以下步驟:
[0011]1.通過(guò)曝光顯影制備黑色邊框。
[0012]2.制備出觸摸感應(yīng)電極圖形；觸摸感應(yīng)電極沿Y方向的電極鏈導(dǎo)通，沿X方向的電極鏈不導(dǎo)通。
[0013]3.制備透明絕緣層，該絕緣層覆蓋沿X方向的電極鏈的橋接位置。
[0014]4.完成步驟3后制備沿X方向的金屬橋，金屬橋使沿X方向的電極鏈導(dǎo)通。同時(shí)在黑色邊框上制備金屬走線，X/Y方向的電極鏈通過(guò)邊緣金屬走線連接驅(qū)動(dòng)芯片。
[0015]5.完成步驟4后再制備一層絕緣層，保護(hù)裸露在外的金屬走線不被氧化。
[0016]其中，6mask架橋技術(shù)由于成本較高，橋點(diǎn)(即驅(qū)動(dòng)電極鏈和感應(yīng)電極鏈空間交叉形成的橋點(diǎn))不可見(jiàn)，效果較好，主要應(yīng)用于高端產(chǎn)品上。但6mask架橋技術(shù)由于受到高成本的限制，使其在OGS技術(shù)中的普遍應(yīng)用受到較大的影響。5mask metal架橋技術(shù)雖然減少了觸摸感應(yīng)電極制造中的掩膜工藝次數(shù)，即減少了工藝流程并降低了成本，但由于驅(qū)動(dòng)電極鏈和感應(yīng)電極鏈空間交叉的橋點(diǎn)位置采用金屬橋點(diǎn)，使得橋點(diǎn)處有色差，影響視覺(jué)效果，普遍應(yīng)用于中低檔產(chǎn)品。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0017]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種觸控面板的制備方法、觸控面板和顯示裝置。該觸控面板的制備方法通過(guò)采用兩次構(gòu)圖工藝步驟完成第一電極鏈和第二電極鏈的制備，大大簡(jiǎn)化了工藝流程，從而大大降低了觸控面板的制備成本。
[0018]本發(fā)明提供一種觸控面板的制備方法，包括:步驟SlO:采用一次構(gòu)圖工藝在基板上形成包括第一電極鏈和絕緣層的圖形；所述絕緣層形成于所述第一電極鏈上，且所述絕緣層覆蓋所述第一電極鏈；步驟Sll:采用一次構(gòu)圖工藝在完成所述步驟SlO的基板上形成包括第二電極鏈的圖形；所述第二電極鏈和所述第一電極鏈空間交叉并絕緣。
[0019]優(yōu)選地，所述第一電極鏈和所述第二電極鏈均采用透明導(dǎo)電材料制成，所述絕緣層采用透明感光材料制成。
[0020]優(yōu)選地，所述第一電極鏈為驅(qū)動(dòng)電極鏈，所述第二電極鏈為感應(yīng)電極鏈；
[0021]或者，所述第一電極鏈為感應(yīng)電極鏈，所述第二電極鏈為驅(qū)動(dòng)電極鏈。
[0022]優(yōu)選地，所述步驟SlO具體包括:
[0023]步驟SlOl:在所述基板上沉積第一電極鏈膜，接著在所述第一電極鏈膜上涂布絕緣層膜；
[0024]步驟S102:通過(guò)曝光、顯影工藝形成包括所述絕緣層的圖形；
[0025]步驟S103:通過(guò)刻蝕工藝形成包括所述第一電極鏈的圖形。
[0026]優(yōu)選地，所述步驟Sll具體包括:
[0027]步驟Slll:在完成所述步驟SlO的所述基板上沉積第二電極鏈膜；
[0028]步驟S112:在所述第二電極鏈膜上涂布光刻膠，通過(guò)曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離工藝形成包括所述第二電極鏈的圖形。
[0029]優(yōu)選地，在所述步驟SlO之前還包括:在所述基板上對(duì)應(yīng)形成所述第一電極鏈和所述第二電極鏈的區(qū)域外圍形成黑矩陣。
[0030]優(yōu)選地，在所述步驟SlO之前且在形成所述黑矩陣之后還包括:采用一次構(gòu)圖工藝在所述基板上對(duì)應(yīng)形成所述黑矩陣的區(qū)域形成第一金屬走線和第二金屬走線；所述第一金屬走線連接所述第一電極鏈，所述第二金屬走線連接所述第二電極鏈。
[0031]本發(fā)明還提供一種采用上述制備方法制備的觸控面板，包括基板以及依次設(shè)置在所述基板上的第一電極鏈、絕緣層和第二電極鏈，所述絕緣層覆蓋所述第一電極鏈，所述第二電極鏈和所述第一電極鏈空間交叉并絕緣。
[0032]優(yōu)選地，所述絕緣層的圖形和所述第一電極鏈的圖形相同。
[0033]優(yōu)選地，還包括黑矩陣、第一金屬走線和第二金屬走線，所述黑矩陣對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述基板的所述第一電極鏈和所述第二電極鏈所在區(qū)域的外圍；
[0034]所述第一金屬走線和所述第二金屬走線對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述黑矩陣所在區(qū)域；所述第一金屬走線連接所述第一電極鏈，所述第二金屬走線連接所述第二電極鏈。
[0035]優(yōu)選地，所述第一電極鏈和所述絕緣層還延伸至所述黑矩陣所在區(qū)域并覆蓋所述第一金屬走線，所述第二電極鏈還延伸至所述黑矩陣所在區(qū)域并覆蓋所述第二金屬走線。
[0036]優(yōu)選地，所述基板為保護(hù)蓋板，所述保護(hù)蓋板用于蓋合在顯示屏上，且所述保護(hù)蓋板的形成有所述第一電極鏈和所述第二電極鏈的一面朝向所述顯示屏；
[0037]或者，所述基板為彩膜基板，所述彩膜基板用于與陣列基板對(duì)盒，所述第一電極鏈和所述第二電極鏈設(shè)置在所述彩膜基板的背對(duì)所述陣列基板的一側(cè)，且所述第一電極鏈和所述第二電極鏈的背對(duì)所述彩膜基板的一側(cè)還設(shè)置有偏光片；
[0038]或者，所述基板為陣列基板，所述陣列基板上設(shè)置有彩膜層，所述第一電極鏈和所述第二電極鏈設(shè)置在所述彩膜層上方。
[0039]本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述觸控面板。
[0040]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所提供的觸控面板的制備方法，通過(guò)采用兩次構(gòu)圖工藝步驟就能完成第一電極鏈和第二電極鏈(即觸控電極)的制備，相比于現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)三個(gè)構(gòu)圖工藝步驟才能完成觸控電極的制備的情況，本實(shí)施例中觸控面板的制備方法大大簡(jiǎn)化了工藝流程，從而大大降低了觸控面板的制備成本。
[0041]本發(fā)明所提供的觸控面板，通過(guò)采用上述制備方法制備，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制備成本低。本發(fā)明所提供的顯示裝置，通過(guò)采用上述觸控面板，簡(jiǎn)化了該顯示裝置的制備工藝，同時(shí)還降低了該顯示裝置的制備成本。
【附圖說(shuō)明】
[0042]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1中觸控面板制備方法的流程圖；
[0043]圖2為步驟S8在基板上形成黑矩陣的俯視示意圖；
[0044]圖3為步驟S9在基板上形成第一金屬走線和第二金屬走線的俯視示意圖；
[0045]圖4為步驟SlO在基板