導(dǎo)電性膜和觸控面板傳感器的制造方法
【專利說明】導(dǎo)電性膜和觸控面板傳感器 【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及導(dǎo)電性膜和觸控面板傳感器。 【【背景技術(shù)】】
[0002] 如今，作為輸入手段廣泛使用觸控面板裝置。觸控面板裝置具備觸控面板傳感器、 對在觸控面板傳感器上的接觸位置進(jìn)行檢測的控制電路、配線和FPC(柔性印刷基材）。多 數(shù)情況下，觸控面板裝置作為針對裝入有液晶顯示屏、等離子體顯示屏等顯示裝置的各種 裝置等（例如售票機(jī)、ATM裝置、移動(dòng)電話、游戲機(jī)）的輸入手段與顯示裝置一同使用。在 這樣的裝置中，觸控面板傳感器配置于顯示裝置的顯示面上，由此能夠針對顯示裝置進(jìn)行 極為直接的輸入。
[0003]觸控面板裝置基于對觸控面板傳感器上的接觸位置（靠近位置）進(jìn)行檢測的原理 而分為各種形式。迄今，出于光學(xué)上明亮、具有美觀性、結(jié)構(gòu)容易、功能優(yōu)異等理由，靜電容 量方式的觸控面板裝置受到關(guān)注。靜電容量方式有表面型和投影型，投影型由于適于應(yīng)對 多觸點(diǎn)識別（多點(diǎn)識別）而備受關(guān)注。
[0004] 作為用于投影型靜電容量方式的觸控面板的導(dǎo)電性膜，有具備基材膜和形成于基 材膜上的透明導(dǎo)電層的導(dǎo)電性膜（例如，參照日本特開2011-98563號公報(bào)）。透明導(dǎo)電層 被圖案化，作為觸控面板的傳感器電極發(fā)揮功能。 【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0005] 【發(fā)明所要解決的課題】
[0006] 現(xiàn)在，正在推進(jìn)觸控面板裝置的大面積化，伴隨著觸控面板裝置的大面積化，畫面 尺寸變大，因而存在根據(jù)觀看觸控面板裝置的位置不同觀看角度大不相同的傾向。觸控面 板裝置中使用的觸控面板傳感器的基材膜是以從正面觀看為前提而設(shè)計(jì)的，在這樣的以從 正面觀看為前提的設(shè)計(jì)思想下，根據(jù)觀看角度的不同，色調(diào)會(huì)出現(xiàn)偏差，因此有可能無法應(yīng) 對觸控面板裝置的大面積化。
[0007]本發(fā)明是為了解決上述課題而進(jìn)行的。即，本發(fā)明的目的在于提供從各種角度觀 看的情況下能夠抑制色調(diào)的偏差的導(dǎo)電性膜和觸控面板傳感器。
[0008] 【解決課題的手段】
[0009] 本發(fā)明的一個(gè)方式提供一種導(dǎo)電性膜，其具備：基材膜，該基材膜具備透光性基材 以及層積在上述透光性基材的單面或兩面的1層以上的功能層；設(shè)置在上述功能層上且被 圖案化的透明導(dǎo)電層；以及與上述透明導(dǎo)電層電連接的取出電極；在上述基材膜中，設(shè)上 述基材膜的表面的法線方向?yàn)?°，在5°以上75°以下的范圍內(nèi)每隔5度地改變?nèi)肷浣?度的同時(shí)由上述功能層的表面?zhèn)认蛏鲜龌哪ふ丈涔?，由各自的朝向正反射方向的反射?求出上述基材膜中的1/al/色度系統(tǒng)的，值和b#值時(shí)，上述基材膜的a#值的偏差（《；'' 6 〇 吞）為1.0以內(nèi)，且b#值的偏差為3.0以內(nèi)。
[0010]【發(fā)明的效果】
[0011] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式的導(dǎo)電性膜和其它方式的觸控面板傳感器，能夠抑制在以 各種角度觀看時(shí)的色調(diào)的偏差。 【【附圖說明】】
[0012] 圖1為第1實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜的俯視圖。
[0013] 圖2為沿著圖1的I-I線的截面圖。
[0014] 圖3為圖2的局部放大圖。
[0015] 圖4為示出使用分光光度計(jì)對基材膜的a，Pb#進(jìn)行測定的狀況的示意圖。
[0016] 圖5為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0017] 圖6為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0018] 圖7為不意性不出導(dǎo)電性|旲的制造工序的圖。
[0019] 圖8為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0020] 圖9為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0021] 圖10為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0022] 圖11為第1實(shí)施方式的觸控面板傳感器的俯視圖。
[0023] 圖12為沿著圖11的II-II線的截面圖。
[0024] 圖13為第2實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜的俯視圖。
[0025] 圖14為沿著圖13的III-III線的截面圖。
[0026] 圖15為圖14的局部放大圖。
[0027] 圖16為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0028] 圖17為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0029] 圖18為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0030] 圖19為不意性不出導(dǎo)電性|旲的制造工序的圖。
[0031] 圖20為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0032] 圖21為示意性示出導(dǎo)電性膜的制造工序的圖。
[0033] 圖22為第2實(shí)施方式的觸控面板傳感器的截面圖。
[0034] 圖23為第3實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜的示意性構(gòu)成圖。
[0035] 圖24為第3實(shí)施方式的其它導(dǎo)電性膜的示意性構(gòu)成圖。
[0036]【符號的說明】
[0037] 10、50、100、11(>..導(dǎo)電性膜
[0038] 11、51、101、11卜.基材膜
[0039]12、41…透明導(dǎo)電層
[0040] 13、42、54、55~取出電極
[0041]20、59…透光性基材
[0042] 21、22、60、61、102、112、113~功能層
[0043] 23、27、62、66~易粘接層
[0044] 24、28、63、67~硬涂層
[0045] 25、64、68、103、114、115~高折射率層
[0046] 26、65、69…低折射率層
[0047] 30、90…觸控面板 【【具體實(shí)施方式】】
[0048][第1實(shí)施方式]
[0049] 以下參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜和觸控面板傳感器進(jìn)行說明。圖1 為本實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜的俯視圖，圖2為沿著圖1的I-I線的截面圖，圖3為圖2的局部 放大圖。圖4為示出使用分光反射率測定器對基材膜的分光反射率進(jìn)行測定的狀況的示意 圖，圖5~圖10為示出本實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜的制造工序的示意圖。圖11為本實(shí)施方式 的觸控面板傳感器的俯視圖，圖12為沿著圖11的II-II線的截面圖。需要說明的是，在本 說明書中，"膜"、"片"、"板"等術(shù)語僅基于稱呼的差異，而并非相互有區(qū)別。因此，例如，"膜" 的概念中也包括可被稱為片或板的部件。作為一個(gè)具體例，"導(dǎo)電性膜"也包括被稱為"導(dǎo) 電性片"等的部件，"基材膜"也包括被稱為"基材片"等的部件。
[0050]〈〈〈導(dǎo)電性膜>>>
[0051]圖1和圖2所示的導(dǎo)電性膜10具備基材膜11、設(shè)置在基材膜11的單面且被圖案 化的透明導(dǎo)電層12、以及與透明導(dǎo)電層12電連接的取出電極13。
[0052]〈〈基材膜〉〉
[0053] 圖2中所示的基材膜11具備透光性基材20以及層積在透光性基材20的兩面上 的1層以上的功能層21、22。功能層21、22可以分別為1層，但優(yōu)選分別為2層以上層積而 成。本實(shí)施方式中，在透光性基材20的兩面上層積了功能層21、22，但功能層在透光性基材 的單面層積1層以上即可，也可以不在透光性基材的兩面層積。
[0054]在基材膜11中，設(shè)基材膜11的表面的法線方向?yàn)?°，在5°以上75°以下的范 圍內(nèi)每隔5度地改變?nèi)肷浣嵌鹊耐瑫r(shí)由功能層21側(cè)（低折射率層26側(cè)）向基材膜11照 射可見光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出lAil/色度系統(tǒng)的a#值和b#值時(shí)，a#值 的偏差為1. 〇以內(nèi)、且b#值的偏差為3.0以內(nèi)。"LW色度系統(tǒng)"、"a"'和"b"'依據(jù)JIS Z8729〇
[0055]a#值和b#值是依據(jù)JISZ8722測定的，具體地說，例如可使用公知的分光光度計(jì) 來求出。圖4所示的分光光度計(jì)200具備：光源201和檢測器202,光源201可在5°以上 75°以下的范圍內(nèi)移動(dòng)，檢測器202隨著光源的移動(dòng)同步移動(dòng)，以使其能夠接受正反射方 向的反射光。關(guān)于光源201的移動(dòng)角度，將基材膜11的法線方向N設(shè)為0°。由光源201 向基材膜11照射光，利用檢測器202接受正反射方向的反射光，能夠由利用該檢測器202 接受的反射光求出值和b#值。作為分光光度計(jì)，可以舉出日本分光株式會(huì)社制造的絕對 反射率測定裝置VAR-7010、紫外可見近紅外分光光度計(jì)V-7100等。作為光源，可以舉出單 獨(dú)的鎢鹵素（WI)燈、或重氫（D2)燈與鎢鹵素（WI)燈的合用。此外，在該測定中，由于隨著 入射角增大，s偏振光與p偏振光的反射率差會(huì)變大，因而為了進(jìn)行精確的測定，優(yōu)選使用 透過軸傾斜45°的偏振元件。
[0056] 在圖4中是在未形成透明導(dǎo)電層12的狀態(tài)下求得基材膜11的a#值和b#值；在基 材膜11上形成有透明導(dǎo)電層12的情況下，可以通過對不存在透明導(dǎo)電層12、基材膜11露 出的區(qū)域照射光，與上述同樣地求出a#值和b#值。
[0057] 關(guān)于a#值和b#值的偏差，可利用上述分光光度計(jì)求出各入射角度下的a#值和b# 值，計(jì)算出其最大值與最小值的差的絕對值，由此來求出a#值和b#值的偏差。a#值的偏差 優(yōu)選為〇. 4以內(nèi)，并且1/值的偏差優(yōu)選為1. 6以內(nèi)，更優(yōu)選為1. 55以內(nèi)。
[0058] 關(guān)于求出上述a#值和b#值的某一角度的反射光與求出上述，值和b#值的其它角 度的反射光的色差A(yù)E*ab，優(yōu)選其為5以下。"AE*ab"依據(jù)JISZ8730。
[0059]〈透光性基材〉
[0060] 作為透光性基材20沒有特別限定，只要具有透光性即可，例如可以舉出聚烯烴基 材、聚碳酸酯基材、聚丙烯酸酯基材、聚酯基材、芳香族聚醚酮基材、聚醚砜基材或聚酰胺基 材。
[0061] 作為聚烯烴基材，例如可以舉出以聚乙烯、聚丙烯、環(huán)狀聚烯烴基材等的至少一種 作為構(gòu)成成分的基材。作為環(huán)狀聚烯烴基材，例如可以舉出具有降冰片烯骨架的物質(zhì)。
[0062] 作為聚碳酸酯基材，例如可以舉出以雙酚類（雙酚A等）為基礎(chǔ)的芳香族聚碳酸 醋基材、>甘醇雙條丙基碳酸醋等脂肪族聚碳酸醋基材等。
[0063] 作為聚丙烯酸酯基材，例如可以舉出聚（甲基）丙烯酸甲酯基材、聚（甲基）丙烯 酸乙酯基材、（甲基）丙烯酸甲酯_(甲基）丙烯酸丁酯共聚物基材等。
[0064]作為聚酯基材，例如可以舉出以聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚對苯二甲酸丙二 醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN)的至少一種作為構(gòu)成成分的基 材。
[0065] 作為芳香族聚醚酮基材，例如可以舉出聚醚醚酮（PEEK)基材等。
[0066] 透光性基材20的厚度沒有特別限定，可以為5ym以上300ym以下；從處理性等 方面出發(fā)，透光性基材20的厚度的下限優(yōu)選為25ym以上、更優(yōu)選為50ym以上。從薄膜 化的方面出發(fā)，透光性基材20的厚度的上限優(yōu)選為250m以下。
[0067] 為了提高粘接性，在透光性基材20的表面可以實(shí)施電暈放電處理、氧化處理等物 理性處理。
[0068]〈功能層〉
[0069] 功能層21、22為在基材膜11中意圖發(fā)揮出某些功能的層，具體地說，例如可以舉 出易粘接層、硬涂層、高折射率層、低折射率層等。
[0070] 功能層為2層以上的情況下，例如可以自透光性基材側(cè)起依敘述順序?qū)臃e易粘接 層、硬涂層、高折射率層和低折射率層，也可以自透光性基材側(cè)依敘述順序?qū)臃e硬涂層、高 折射率層和低折射率層，此外還可自透光性基材側(cè)起依敘述順序?qū)臃e高折射率層和低折射 率層。功能層為1層的情況下，例如功能層可以為高折射率層或低折射率層。
[0071] 功能層在兩面形成的情況下，層積在透光性基材的一面與另一面的功能層的種類 或?qū)訑?shù)可以相同、也可以不同。例如，可以在透光性基材的一面上依敘述順序?qū)臃e易粘接 層、硬涂層、高折射率層和低折射率層，且在透光性基材的另一面上依敘述順序?qū)臃e易粘接 層、硬涂層和高折射率層；也可以在透光性基材的一面上依敘述順序?qū)臃e硬涂層、高折射率 層和低折射率層，且在透光性基材的另一面上依敘述順序?qū)臃e硬涂層、高折射率層和低折 射率層。在本實(shí)施方式中，在透光性基材20的一面上，作為功能層21，依敘述順序?qū)臃e易粘 接層23、硬涂層24、高折射率層25、低折射率層26;在透光性基材20的另一面上依敘述順 序?qū)臃e易粘接層27、硬涂層28。
[0072](易粘接層）
[0073] 易粘接層23、27為用于改善透光性基材20與其它功能層（硬涂層）的密合性的 層。易粘接層23、27可以由被稱為錨定劑、預(yù)涂劑Y-）的涂料構(gòu)成。作為錨定劑、 預(yù)涂劑（7° 7 <Y-剤），例如可以使用聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙酸乙 烯酯系樹脂、氯化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸類樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯醇縮 醛樹脂、乙烯與乙酸乙烯酯或丙烯酸等的共聚物、乙烯與苯乙烯和/或丁二烯等的共聚物、 烯烴樹脂等熱塑性樹脂和/或其改性樹脂、光聚合性化合物的聚合物和環(huán)氧樹脂等熱固性 樹脂等中的至少任一種。
[0074] 易粘接層23、27的折射率優(yōu)選為1. 40以上1. 70以下。易粘接層23、27的折射率 的下限優(yōu)選為1. 50以上，易粘接層23、27的折射率的上限優(yōu)選為1. 60以下。易粘接層23 和易粘接層27的折射率優(yōu)選分別為上述范圍內(nèi)，但不一定要一致。
[0075] 易粘接層23、27的折射率可以在形成單獨(dú)的層后利用Abbe折射率計(jì)（Atago社制 造NAR-4T)或橢圓計(jì)進(jìn)行測定。并且，作為形成基材膜11后進(jìn)行折射率測定的方法，可以 分別利用切割器等削取易粘接層23、27，制作粉末狀態(tài)的樣品，利用基于JISK7142 (2008)B 法（粉體或粒狀的透明材料用）的貝克法（其為下述方法：使用折射率已知的Cargille試 劑，將上述粉末狀態(tài)的樣品置于載玻片等上，在該樣品上滴加試劑，用試劑浸漬樣品。通過 顯微鏡觀察對其狀態(tài)進(jìn)行觀察，通過目視對由于樣品與試劑的折射率不同而在樣品輪廓出 現(xiàn)的明線（貝克線）進(jìn)行觀察，將無法觀察到該明線（貝克線）的試劑的折射率作為樣品 的折射率）。
[0076] 易粘接層23、27的膜厚優(yōu)選為50nm以上150nm以下。易粘接層23、27的厚度為 50nm以上時(shí)，能夠利用易粘接層23、27得到透光性基材20與其它功能層的密合性。易粘 接層23、27的膜厚可通過斷面顯微鏡觀察來測定。易粘接層23、27的厚度的下限更優(yōu)選為 100nm以上、上限更優(yōu)選為130nm以下。易粘接層23和易粘接層27的膜厚優(yōu)選分別為上述 范圍內(nèi)，但不一定要一致。
[0077](硬涂層）
[0078] 硬涂層24、28為在JISK5600-5-4(1999)規(guī)定的鉛筆硬度試驗(yàn)（4. 9N負(fù)荷）中具 有"H"以上的硬度的層。通過使鉛筆硬度為"H"以上，能夠使硬涂層24的硬度充分地反映 至低折射率層26的表面，能夠提高耐久性。需要說明的是，從與在硬涂層24上形成的高折 射率層25的密合性、韌性和防止翹曲的方面出發(fā)，硬涂層24的表面的鉛筆硬度的上限優(yōu)選 為4H的程度。觸控面板傳感器會(huì)受到反復(fù)擠壓，要求具有高度的密合性和韌性，因而，通過 將硬涂層24、28的鉛筆硬度的上限設(shè)為4H，能夠在將基材膜11裝入觸控面板傳感器10進(jìn) 行使用時(shí)發(fā)揮出顯著的效果。并且，在基材膜上形成導(dǎo)電層后，為了使透明導(dǎo)電層結(jié)晶化， 在形成了透明導(dǎo)電層的狀態(tài)下對基材膜進(jìn)行加熱。由于該加熱，低聚物從透光性基材析出， 可能會(huì)使基材膜的霧度上升；但由于硬涂層可作為抑制低聚物析出的層發(fā)揮出功能