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      一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法

      文檔序號(hào):9452709閱讀:222來(lái)源:國(guó)知局
      一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及導(dǎo)電玻璃技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前,電容屏產(chǎn)品使用非常廣泛,而電容屏中的雙面鍍導(dǎo)電玻璃是其主要器件,雙面鍍導(dǎo)電玻璃的導(dǎo)電薄膜在性能方面要求比較嚴(yán),比如均勻性、耐熱性能、耐酸堿性能、耐高溫高濕性能等;在制作透明電路的時(shí)候,由于工藝難度增加,在制作電路時(shí)常采用酸刻電路。在制作過(guò)程中,容易蝕刻掉不應(yīng)該刻蝕的部位,并且存在電路蝕刻的蝕痕影跡,影響其電磁屏蔽、靜電保護(hù)功能,存在的蝕痕影跡會(huì)對(duì)觀看圖案產(chǎn)生影響。
      [0003]鑒于上述原因,現(xiàn)研發(fā)出一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法,具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用,并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃,為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
      [0005]本發(fā)明為了實(shí)現(xiàn)上述目的,采用如下技術(shù)方案:一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法,所述單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃是由玻璃基板、錫面、空氣面、干涉層一、透明鈍化層、干涉層二構(gòu)成;玻璃基板的兩個(gè)表面分別為錫面和空氣面,在玻璃基板的錫面上設(shè)置干涉層一,干涉層一與干涉層二之間設(shè)置透明鈍化層;
      [0006]所述透明鈍化層采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;
      [0007]所述干涉層一與干涉層二均采用五氧化二鈮。
      [0008]第一步,對(duì)玻璃基板進(jìn)行處理,
      [0009]A、對(duì)玻璃基板進(jìn)行切割,先X切割,再Y切割,然后再掰片處理;
      [0010]B、對(duì)切割后的玻璃基板進(jìn)行磨邊和倒角,先X磨邊,再倒角,旋轉(zhuǎn)90°再對(duì)Y磨邊及倒角;
      [0011]C、刷洗吹干;
      [0012]D、對(duì)磨邊和倒角后的玻璃基板進(jìn)行拋光;
      [0013]E、再刷洗吹干;
      [0014]第二步,對(duì)玻璃基板濺射干涉層一和透明鈍化層;
      [0015]A、對(duì)拋光刷洗吹干后玻璃基板進(jìn)行加熱;采用的加熱溫度為150-280攝氏度;
      [0016]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備對(duì)加熱后的玻璃基板的錫面上濺射干涉層一,干涉層一為五氧化二鈮,干涉層一上方濺射透明鈍化層,透明鈍化層為透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;
      [0017]第三步,在玻璃基板濺射的透明鈍化層上,進(jìn)行干涉層二濺射;
      [0018]A、對(duì)濺射干涉層一和透明鈍化層后的玻璃基板進(jìn)行加熱;加熱溫度采用280-380攝氏度;
      [0019]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,對(duì)加熱后的玻璃基板,在玻璃基板的干涉層一和透明鈍化層上,進(jìn)行干涉層二濺射,干涉層二為五氧化二鈮;
      [0020]C、對(duì)濺射干涉層二后的玻璃基板,經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度,再加溫至300攝氏度穩(wěn)定,完成對(duì)玻璃基板的鍍膜。
      [0021]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明能夠保護(hù)氧化銦錫導(dǎo)電膜刻蝕線路,不受制作過(guò)程工藝中的酸溶液的蝕刻,避免在制作過(guò)程中蝕刻掉不應(yīng)該刻蝕的部位,在制作過(guò)程中使氧化銦錫導(dǎo)電膜刻蝕線路達(dá)到設(shè)計(jì)要求,具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用,并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃,為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
      【附圖說(shuō)明】
      [0022]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明:
      [0023]圖1是,總裝結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0024]圖1中:玻璃基板1、錫面2、空氣面3、干涉層一 4、透明鈍化層5、干涉層二 6。
      【具體實(shí)施方式】
      [0025]下面結(jié)合實(shí)施例與【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明:
      [0026]實(shí)施例1
      [0027]玻璃基板I的兩個(gè)表面分別為錫面2和空氣面3,在玻璃基板I的錫面2上設(shè)置干涉層一 4,干涉層一 4與干涉層二 6之間設(shè)置透明鈍化層5 ;
      [0028]所述透明鈍化層5采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;
      [0029]所述干涉層一 4與干涉層二 6均采用五氧化二鈮。
      [0030]實(shí)施例2
      [0031]第一步,對(duì)玻璃基板I進(jìn)行處理,
      [0032]A、對(duì)玻璃基板I進(jìn)行切割,先X切割,再Y切割,然后再掰片處理;
      [0033]B、對(duì)切割后的玻璃基板I進(jìn)行磨邊和倒角,先X磨邊,再倒角,旋轉(zhuǎn)90°再對(duì)Y磨邊及倒角;
      [0034]C、刷洗吹干;
      [0035]D、對(duì)磨邊和倒角后的玻璃基板I進(jìn)行拋光;
      [0036]E、再刷洗吹干;
      [0037]第二步,對(duì)玻璃基板I濺射干涉層一 4和透明鈍化層5 ;
      [0038]A、對(duì)拋光刷洗吹干后玻璃基板I進(jìn)行加熱;采用的加熱溫度為150-280攝氏度;
      [0039]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備對(duì)加熱后的玻璃基板I的錫面2上濺射干涉層一 4,干涉層一 4為五氧化二鈮,干涉層一 4上方濺射透明鈍化層5,透明鈍化層5為透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;第三步,在玻璃基板I濺射的透明鈍化層5上,進(jìn)行干涉層二 6濺射;
      [0040]A、對(duì)濺射干涉層一 4和透明鈍化層5后的玻璃基板I進(jìn)行加熱;加熱溫度采用280-380攝氏度;
      [0041]B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,對(duì)加熱后的玻璃基板1,在玻璃基板I的干涉層一4和透明鈍化層5上,進(jìn)行干涉層二 6濺射,干涉層二 6為五氧化二鈮;
      [0042]C、對(duì)濺射干涉層二 6后的玻璃基板1,經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度,再加溫至300攝氏度穩(wěn)定,完成對(duì)玻璃基板I的鍍膜。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法,所述單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃是由玻璃基板(1)、錫面(2)、空氣面(3)、干涉層一(4)、透明鈍化層(5)、干涉層二(6)構(gòu)成;其特征在于:玻璃基板(I)的兩個(gè)表面分別為錫面(2)和空氣面(3),在玻璃基板(I)的錫面(2)上設(shè)置干涉層一(4),干涉層一(4)與干涉層二(6)之間設(shè)置透明鈍化層(5); 所述透明鈍化層(5)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅; 所述干涉層一(4)與干涉層二(6)均采用五氧化二鈮。2.—種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法,其特征在于: 第一步,對(duì)玻璃基板(I)進(jìn)行處理, A、對(duì)玻璃基板(I)進(jìn)行切割,先X切割,再Y切割,然后再掰片處理; B、對(duì)切割后的玻璃基板(I)進(jìn)行磨邊和倒角,先X磨邊,再倒角,旋轉(zhuǎn)90°再對(duì)Y磨邊及倒角; C、刷洗吹干; D、對(duì)磨邊和倒角后的玻璃基板(I)進(jìn)行拋光; E、再刷洗吹干; 第二步,對(duì)玻璃基板(I)濺射干涉層一(4)和透明鈍化層(5); A、對(duì)拋光刷洗吹干后玻璃基板(I)進(jìn)行加熱;采用的加熱溫度為150-280攝氏度; B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備對(duì)加熱后的玻璃基板(I)的錫面(2)上濺射干涉層一(4),干涉層一(4)為五氧化二鈮,干涉層一(4)上方濺射透明鈍化層(5),透明鈍化層(5)為透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅;第三步,在玻璃基板(I)濺射的透明鈍化層(5)上,進(jìn)行干涉層二(6)濺射; A、對(duì)濺射干涉層一(4)和透明鈍化層(5)后的玻璃基板(I)進(jìn)行加熱;加熱溫度采用280-380攝氏度; B、利用磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,對(duì)加熱后的玻璃基板(I),在玻璃基板(I)的干涉層一(4)和透明鈍化層(5)上,進(jìn)行干涉層二(6)濺射,干涉層二(6)為五氧化二鈮; C、對(duì)濺射干涉層二(6)后的玻璃基板(I),經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度,再加溫至300攝氏度穩(wěn)定,完成對(duì)玻璃基板(I)的鍍膜。
      【專利摘要】一種單面觸摸屏消影導(dǎo)電玻璃的加工方法,第一步,對(duì)玻璃基板進(jìn)行處理,第二步,對(duì)玻璃基板濺射干涉層一和透明鈍化層;第三步,在玻璃基板濺射的透明鈍化層上,進(jìn)行干涉層二濺射;具有良好的電磁屏蔽、靜電防護(hù)和消影作用,并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導(dǎo)電玻璃,為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導(dǎo)電玻璃。
      【IPC分類】G06F3/044
      【公開(kāi)號(hào)】CN105204704
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510697114
      【發(fā)明人】董安光, 王戀貴, 譚華, 秦遵紅
      【申請(qǐng)人】洛陽(yáng)康耀電子有限公司
      【公開(kāi)日】2015年12月30日
      【申請(qǐng)日】2015年10月19日
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