一種過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著現(xiàn)代生活觸摸顯示屏的普遍使用，而且人們的生活越來越離不開觸摸顯示屏，有很多人經(jīng)常性的使用觸摸顯示屏帶來的結(jié)果是眼睛出現(xiàn)酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀，更嚴(yán)重的出現(xiàn)視力下降，這些不舒服的癥狀是因?yàn)檠劬﹂L時(shí)間對觸摸顯示屏，由觸摸顯示屏所散發(fā)出來的有害光線所致，觸摸顯示屏發(fā)出的光是眼睛的大敵，普遍觸摸顯示屏供應(yīng)商為了體現(xiàn)觸摸顯示屏的色彩對比度及飽和度，會提高觸摸顯示屏背后的燈光亮度，這樣會使屏幕表面像裝了一片玻璃一樣顯得有質(zhì)感，提高了清晰度，同樣它也會像玻璃一樣反射光線，但光線照向屏幕時(shí)會增加光線反射，尤其是晚上的時(shí)候消費(fèi)者在使用觸摸顯示屏?xí)r，LED燈光照向觸摸顯示屏?xí)黾庸饩€反射，這樣很容易被這些光線傷害到眼睛，并產(chǎn)生視覺疲勞的癥狀，慢慢的會引起視力下降和頭痛的健康問題，，觸摸顯示屏產(chǎn)生的“不舒服的光”持續(xù)照射我們的眼睛還會引起視覺系統(tǒng)失調(diào)，觸摸顯示屏發(fā)出的光讓我們眼睛不舒服是因?yàn)檫@些光線里面含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍(lán)光，這些短波藍(lán)光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達(dá)視網(wǎng)膜，短波藍(lán)光持續(xù)照射視網(wǎng)膜會產(chǎn)生大量自由基離子，這些自由基離子會使得視網(wǎng)膜的色素上皮細(xì)胞衰亡，上皮細(xì)胞的衰會使感光細(xì)胞缺少養(yǎng)分而引起視力損傷;這些短波藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要起因，我們每天長時(shí)間面對觸摸顯示屏產(chǎn)生的藍(lán)光刺激，殊不知藍(lán)光波長短能量高，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。藍(lán)光約占可見光的50?60%，而藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要原因之一，嚴(yán)重可能導(dǎo)致失明。藍(lán)光會刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子，使得視網(wǎng)膜色素上皮的萎縮，再引起光敏感細(xì)胞的衰亡，這是因?yàn)槲覀兯幍氖切畔r(shí)代，人們的工作與學(xué)習(xí)都離不開觸摸顯示屏，面對觸摸顯示屏的時(shí)間越來越長，用眼的頻率也越來越高。眼睛開始酸澀、疼痛、流淚，它凄切的告訴我們:我們的眼睛已經(jīng)受到了傷害，需要在使用觸摸顯示屏?xí)r得到保護(hù)。目前觸摸顯示屏發(fā)出的藍(lán)光、電磁波、自由電子它們均會對眼睛造成傷害，為了保護(hù)眼睛，必須加以過濾，而目前過濾觸摸顯示屏藍(lán)光的方法是在觸摸顯示屏表面貼一層保護(hù)膜，觸摸顯示屏貼膜以后，透光率往往會下降，所貼的膜容易產(chǎn)生劃痕影響視覺效果，對過濾藍(lán)光效果依然不夠理想。另外，保護(hù)膜耐磨性差，容易刮花，影響視覺效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏及其制造方法，該方法制造出來的觸摸顯示屏具有防止有害藍(lán)光對人體的傷害，而且具有高耐性。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏，包括基板，所述基板的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層和第四膜層，所述第一膜層為五氧化三鈦層，第一膜層的厚度為10-100111]1;所述第二膜層為二氧化娃層，第二膜層的厚度為50-100111]1;第三膜層為金屬層，第三膜層的厚度為5-20nm;所述第四膜層為高硬度層，該第四膜層的厚度為10-50nmo
[0005]所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0006]所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0007]所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述基板為樹脂或玻璃成型。
[0009]所述觸摸顯示屏的基板為樹脂成型時(shí)，該過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏的制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進(jìn)行清洗；
2)對基板的外表面進(jìn)行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時(shí)控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-1 OOnm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時(shí)控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時(shí)控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5_20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層。
[0010]D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時(shí)控制第四膜層蒸鍍的速率為7A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-50nm，其中第四膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，形成高硬度層。
[0011]所述步驟1)中，對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內(nèi)，用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。
[0012]所述觸摸顯示屏的基板為玻璃成型時(shí)，該過濾藍(lán)光的耐磨觸摸顯示屏的所述制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進(jìn)行清洗；
2)對基板的外表面進(jìn)行鍍膜； A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時(shí)控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時(shí)控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時(shí)保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時(shí)控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金