用于輸入裝置的電極及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于輸入裝置的電極及其制造方法。以下，舉出觸控面板傳感器作為 輸入裝置的代表例進(jìn)行說明，但本發(fā)明不限于此。
【背景技術(shù)】
[0002] 觸控面板傳感器在液晶顯示裝置、有機(jī)EL裝置等顯示裝置的顯示畫面上作為輸入 裝置貼合來使用。觸控面板傳感器由于其使用方便的好處，被用于銀行的ATM、售票機(jī)、導(dǎo)航 系統(tǒng)、PDA(Personal Digital Assistants、個(gè)人用便攜信息終端）、復(fù)印機(jī)的操作畫面等， 近年來被廣泛使用至便攜電話、平板PC。其輸入點(diǎn)的檢測方式中，可以舉出電阻膜方式、電 容方式、光學(xué)式、超聲波表面彈性波方式、壓電式等。這些之中，便攜電話、平板PC中，電容方 式由于響應(yīng)性良好、不花費(fèi)成本、結(jié)構(gòu)簡單等理由而適宜使用。
[0003] 電容方式的觸控面板傳感器具有如下結(jié)構(gòu):在玻璃基板等透明基板上，兩種透明 導(dǎo)電膜正交配置，在其表面被覆有保護(hù)玻璃等罩(絕緣體）。若用手指或筆等觸碰上述構(gòu)成 的觸控面板傳感器表面，則兩透明導(dǎo)電膜間的電容發(fā)生變化，由此能夠通過用傳感器感知 流經(jīng)該電容的電流量的變化，來把握被觸碰的部位。
[0004] 作為用于上述構(gòu)成的觸控面板傳感器的透明基板，可以使用觸控面板傳感器專用 的基板，還可以使用用于顯示裝置的透明基板。具體來說，例如可以舉出用于液晶顯示裝置 的彩色過濾基板、用于有機(jī)EL裝置的玻璃基板等。通過使用這樣的顯示裝置用透明基板，能 夠應(yīng)對對于觸控面板傳感器要求的特性(例如，顯示器的對比度比的提高、亮度的提高、智 能手機(jī)等的薄型化等）。
[0005] 圖2中，示出將觸控面板傳感器用電極搭載于圖1所示液晶顯示裝置的彩色過濾基 板(CF基板)時(shí)的示意性截面圖。圖2中，按照黑色矩陣(black matrix)的圖案來配置電極。 最近，為了提高來自背光燈的光的透射率，作為上述圖2所示電極，正在研究使用低電阻的 金屬電極。
[0006] 然而，金屬電極由于反射率高、使用者的肉眼能看到（可視），因此存在對比度比降 低的問題。因此，在使用金屬電極的情況下，采用對金屬膜實(shí)施黑色化處理，使反射率降低 等的方法。
[0007] 例如專利文獻(xiàn)1中，記載有為了解決將導(dǎo)電性透明電極圖案單元相互連接的橋電 極的可視性問題，在形成于導(dǎo)電性圖案單元的絕緣層上使用黑色的導(dǎo)電材料形成電橋電極 的方法。具體來說，作為電橋電極，例示有將41、411、48、3]1、0、附、11或1%金屬通過與試藥的 反應(yīng)而使其向氧化物、氮化物、氟化物等黑色化的方法。然而，專利文獻(xiàn)1中，只不過公開了 通過金屬的黑色化處理使電橋電極的反射率降低的技術(shù)，而完全沒有留意電阻率的降低。 因此，上述例示中，還包含金屬的氧化物那樣的高電阻率的物質(zhì)，而不能應(yīng)用于低電阻率配 線用電極。另外，上述專利文獻(xiàn)1中，還包含像Ag的氮化物、Mg的氧化物等那樣反應(yīng)性高而危 險(xiǎn)的物質(zhì)，而缺乏實(shí)用性。
[0008] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)1:日本國日本特開2013-127792號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 發(fā)明要解決的問題
[0012] 本發(fā)明鑒于上述情況而完成，其目的在于提供一種電阻率低、且反射率低的新型 電極;及其制造方法，所述電極是以電容方式的觸控面板傳感器等為代表的輸入裝置中使 用的電極。
[0013] 用于解決問題的手段
[0014] 能夠解決上述課題的本發(fā)明涉及的電容方式的輸入裝置中使用的電極具有如下 要點(diǎn)：其是在透明基板上形成的電極，所述電極具有從透明基板的相反側(cè)(表面?zhèn)?開始依 次為由透明導(dǎo)電膜構(gòu)成的第1層、由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至少一種構(gòu)成的第2 層、以及由反射率為40 %以上、透射率為10 %以下的金屬膜構(gòu)成的第3層的層疊結(jié)構(gòu)。
[0015]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第3層金屬膜由Mo或Mo合金中的至少一種構(gòu)成。
[0016] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述第2層與所述第3層之間，還具有由透明導(dǎo)電膜 構(gòu)成的第4層。
[0017] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，在所述透明基板與所述第3層之間，還具有由電阻率低 于所述第3層的金屬膜構(gòu)成的第5層。
[0018]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第5層的金屬膜由選自A1、A1合金、Cu、Cu合金、Ag、 及Ag合金中的至少一種構(gòu)成。
[0019] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第2層氮化物中含有的氮量在表面?zhèn)扰c透明基板 側(cè)不同。
[0020] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第1層透明導(dǎo)電膜包含In或Zn中的至少一種。
[0021]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第2層的Mo合金包含他、1、1^、0中的至少一種。 [0022]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第1層透明導(dǎo)電膜的膜厚為35~100nm。
[0023]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第2層氮化物的膜厚為5~80nm。
[0024]本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第3層金屬膜的膜厚為20~200nm。
[0025] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述第4層透明導(dǎo)電膜的膜厚為6~100nm。
[0026] 本發(fā)明中，還包含具有上述任一項(xiàng)所述的電極的輸入裝置。
[0027] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述輸入裝置為觸控面板傳感器。
[0028] 另外，能夠解決上述課題的本發(fā)明涉及的電極的制造方法具有如下要點(diǎn)：通過包 含氮?dú)獾姆磻?yīng)性濺射法將所述第2層氮化物。
[0029]發(fā)明效果
[0030]本發(fā)明涉及的層疊結(jié)構(gòu)的電極中，由于將由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至 少一種構(gòu)成的金屬膜用作第2層，不僅能夠達(dá)成金屬膜本來的低電阻率，還能達(dá)成低反射 率。因此，若將在上述金屬膜(第2層)之上(表面?zhèn)龋┚哂型该鲗?dǎo)電膜，且在該第2層之下（透 明基板側(cè))具備具有規(guī)定的反射率和透射率的金屬膜(第3層）的層疊結(jié)構(gòu)的本發(fā)明電極用 作輸入裝置用電極，則可以得到具備兼具透明導(dǎo)電膜自身不可能的低電阻率、和金屬膜自 身不可能的低反射率的電極的輸入裝置。
【附圖說明】
[0031] 圖1是示意性地表示普通液晶顯示裝置的構(gòu)成的示意性截面圖。
[0032] 圖2是示意性地表示將輸入裝置用電極應(yīng)用于彩色過濾基板上時(shí)的構(gòu)成的示意性 截面圖。
[0033] 圖3是示意性地表示本發(fā)明涉及的電極的構(gòu)成（從表面?zhèn)乳_始依次為第1層、第2 層、第3層的三層結(jié)構(gòu)）的示意性截面圖。
[0034] 圖4是示意性地表示本發(fā)明涉及的電極的其它構(gòu)成（從表面?zhèn)乳_始依次為第1層、 第2層、第4層、第3層的四層結(jié)構(gòu)）的示意性截面圖。
[0035] 圖5是示意性地表示本發(fā)明涉及的電極的其它構(gòu)成（從表面?zhèn)乳_始依次為第1層、 第2層、第3層、第5層的四層結(jié)構(gòu)）的示意性截面圖。
[0036] 圖6是示意性地表示本發(fā)明涉及的電極的其它構(gòu)成（從表面?zhèn)乳_始依次為第1層、 第2層、第4層、第3層、第5層的五層結(jié)構(gòu)）的示意性截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0037] 本發(fā)明人等為了提供用于輸入裝置的包含金屬膜并且低電阻率且低反射率的電 極，反復(fù)進(jìn)行了研究。其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，若使用從透明基板的相反側(cè)(表面?zhèn)?開始依次為由透明 導(dǎo)電膜構(gòu)成的第1層、由Mo的氮化物或Mo合金的氮化物中的至少一種構(gòu)成的第2層、以及由 反射率為40 %以上、透射率為10 %以下的金屬膜構(gòu)成的第3層的層疊結(jié)構(gòu)的電極，可以達(dá)到 預(yù)期的目的，從而完成本