面板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種面板及其制作方法、以及包括該面板的顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏作為一種新興的人機交互設(shè)備，正逐漸代替鼠標和鍵盤，成為目前最簡單、最方便的輸入設(shè)備之一。觸摸屏生產(chǎn)時，設(shè)計人員可以通過軟件設(shè)計出各種不同的用戶界面，使用者不需要專門的操作知識，只需根據(jù)功能圖標輕觸顯示屏上的相應(yīng)位置，即可完成所需的操作。
[0003]OGS技術(shù)(One Glass Solut1n)是指在保護玻璃上直接形成氧化銦錫(ITO)導電膜的技術(shù)，使得一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸控傳感器的雙重功能，從而能夠較好地滿足智能終端超薄化的需求，并提升顯示效果。采用OGS結(jié)構(gòu)的觸摸屏產(chǎn)品具有厚度薄、制程簡化、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品性能好和生產(chǎn)良率高等一些列優(yōu)點。
[0004]如圖1中所示，在襯底基板600的一個表面上設(shè)置有透明電極層，襯底基板600的另一個表面上設(shè)置有防眩膜700。所述透明電極層中的多個透明電極包括多條第一電極條100和多條第二電極條200，第一電極條100的延伸方向與第二電極條200的延伸方向相交。并且每條第一電極條100都包括多個第一電極塊110，第一電極條100和第二電極條200互相絕緣。如圖3所示，所述面板還包括設(shè)置在所述透明電極層上方的第一絕緣層400、設(shè)置在該第一絕緣層400上的金屬橋?qū)雍驮O(shè)置在所述金屬橋?qū)由戏降牡诙^緣層500。第一絕緣層400中設(shè)置有貫穿該第一絕緣層的多組過孔，每組所述過孔都包括第一過孔和第二過孔，所述第一過孔對應(yīng)于前一個第一電極塊110，所述第二過孔對應(yīng)于后一個第一電極塊110。所述金屬橋?qū)影ǘ鄠€金屬橋300，金屬橋300的個數(shù)與所述過孔的組數(shù)相同，金屬橋300的兩端分別通過所述第一過孔和所述第二過孔將在所述第一電極條的延伸方向上相鄰的兩個第一電極塊110電連接。
[0005]然而，上述通過制作防眩光膜來改善眩光現(xiàn)象的方法需要增加一道旋涂工藝，生產(chǎn)成本較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種面板及其制作方法、顯示裝置，在無需涂覆防眩光膜的情況下，使面板實現(xiàn)防眩光功能。
[0007]為解決上述技術(shù)問題，作為本發(fā)明的第一個方面，提供一種面板的制作方法，其中，所述制作方法包括:
[0008]提供透明基板，所述透明基板包括電極設(shè)置區(qū)；
[0009]在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層，所述透明電極層包括多個透明電極，所述透明電極包括透明金屬氧化物層和位于所述透明金屬氧化物層上方的還原金屬層。
[0010]優(yōu)選地，在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層的步驟包括:
[0011]在所述透明基板上方形成透明電極原料層；
[0012]對所述透明電極原料層進行還原處理，使所述透明電極原料層表面的材料被還原;
[0013]對經(jīng)過還原處理的電極原料層進行圖形化處理，形成包括多個透明電極的所述透明電極層。
[0014]優(yōu)選地，對所述透明電極原料層進行還原處理的步驟包括:
[0015]向所述透明電極原料層的表面提供還原性氣體，使所述透明電極原料層表面的材料被還原。
[0016]優(yōu)選地，在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層的步驟包括:
[0017]在所述透明基板上方形成透明電極原料層；
[0018]對所述透明電極原料層進行構(gòu)圖工藝，形成包括多個初始透明電極的初始透明電極層；
[0019]對所述初始透明電極層進行還原處理，使所述初始透明電極層表面的材料被還原，得到所述透明電極層。
[0020]優(yōu)選地，對所述初始透明電極層進行還原處理的步驟包括:
[0021]向所述初始透明電極層的表面提供還原性氣體，使所述初始透明電極層表面的材料被還原。
[0022]優(yōu)選地，所述還原性氣體包括氫氣。
[0023]優(yōu)選地，所述透明金屬氧化物層的材料包括氧化銦錫，所述還原金屬層的材料包括銅。
[0024]優(yōu)選地，所述面板為觸控面板，所述透明電極層為觸控電極層。
[0025]優(yōu)選地，所述透明基板包括環(huán)繞所述電極設(shè)置區(qū)的遮光區(qū)；
[0026]所述制作方法還包括:
[0027]在所述遮光區(qū)內(nèi)形成遮擋圖形。
[0028]作為本發(fā)明的另一個方面，提供一種面板，該面板包括透明基板和設(shè)置在所述透明基板上的透明電極層，所述透明基板包括電極設(shè)置區(qū)，所述透明電極層包括多個透明電極，多個所述透明電極設(shè)置在所述電極設(shè)置區(qū)內(nèi)，其中，所述透明電極包括金屬氧化物層和形成金屬氧化物層表面的還原金屬層，所述還原金屬層由形成所述金屬氧化物層的金屬氧化物經(jīng)還原反應(yīng)得到。
[0029]優(yōu)選地，所述電極層中，所述金屬氧化物層的材料包括氧化銦錫，所述還原金屬層的材料包括銦。
[0030]優(yōu)選地，所述電極層為觸控電極層。
[0031]優(yōu)選地，所述透明電極包括環(huán)繞所述電極設(shè)置區(qū)的遮光區(qū)，所述面板還包括遮擋圖形，所述遮擋圖形設(shè)置在所述遮光區(qū)內(nèi)。
[0032]作為本發(fā)明的還一個方面，提供一種顯示裝置，其中，所述顯示裝置包括本發(fā)明所提供的上述面板。
[0033]本發(fā)明通過將透明電極材料部分還原，使其中的部分金屬材料析出，形成透明態(tài)與半透明態(tài)的漸變，使透明電極層的霧度增加、光澤度降低，從而使其對光線的漫反射增加，起到防眩光的作用。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明無需制作防眩光膜，簡化了生產(chǎn)工藝，降低了成本。
【附圖說明】
[0034]附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。
[0035]圖1是現(xiàn)有的觸控面板的不意圖；
[0036]圖2是本發(fā)明所提供的觸控面板的俯視圖；
[0037]圖3是本發(fā)明所提供的觸控面板的A-A剖視圖。
[0038]附圖標記說明
[0039]100:第一電極條110:第一電極塊
[0040]200:第二電極300:金屬橋[0041 ]400第一絕緣層 500:第二絕緣層
[0042]600:透明基板700:防眩膜
[0043]110a、200a:透明金屬氧化物層
[0044]110b、200b:還原金屬層
【具體實施方式】
[0045]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】進行詳細說明。應(yīng)當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0046]作為本發(fā)明的一個方面，提供一種面板的制作方法，其中，所述制作方法包括:
[0047]提供透明基板，所述透明基板包括電極設(shè)置區(qū)；
[0048]在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層，所述透明電極層包括多個透明電極，所述透明電極包括透明金屬氧化物層和位于所述透明金屬氧化物層上方的還原金屬層。
[0049]需要解釋的是，本發(fā)明所提供的面板用于顯示裝置中。例如，所述面板可以是顯示面板，也可以是觸控面板。無論是顯示面板還是觸控面板，透明電極層中的透明電極的總面積都非常大。在透明金屬氧化物層上方的還原金屬層是透明氧化物還原析出的，因此，還原金屬層實際為金屬粉末，從而使得還原金屬層的表面具有較高的霧度。當外界有光線照射在透明電極層的表面時會產(chǎn)生漫反射，從而可以使得所述面板的表面具有防眩光的目的。由此可知，在本發(fā)明所提供的制作方法中，無需在面板上制備防眩層即可達到防眩光的目的，降低了所述面板的成本。
[0050]為了不影響顯示裝置的正常顯示，還原金屬層的厚度應(yīng)當薄到使得該還原金屬層是透明的。
[0051]當所述面板為顯示面板時，透明電極層可以是像素電極層，也可以是公共電極層。當面板為觸控面板時，透明電極層為觸控電極層。圖2中所示的就是所述面板為觸控面板時的情況。
[0052]在本發(fā)明中，對形成包括透明金屬氧化物層和還原金屬層的透明電極的具體方法并不做限定?？梢韵葘⒔饘傺趸镞M行圖形化，然后再對金屬氧化物圖形進行還原，或者可以先對金屬氧化物層進行還原，然后在進行圖形化。
[0053]具體地，作為本發(fā)明的一種【具體實施方式】，在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層的步驟可以包括:
[0054]在所述透明基板上方形成透明電極原料層；
[0055]對所述透明電極原料層進行還原處理，使所述透明電極原料層表面的材料被還原;
[0056]對經(jīng)過還原處理的電極原料層進行圖形化處理，形成包括多個透明電極的所述透明電極層。
[0057]優(yōu)選地，對所述透明電極原料層進行還原處理的步驟包括:
[0058]向所述透明電極原料層的表面提供還原性氣體，使所述透明電極原料層表面的材料被還原。
[0059]作為本發(fā)明的另一種優(yōu)選實施方式，在所述透明基板的電極設(shè)置區(qū)內(nèi)形成透明電極層的步驟包括:
[0060]在所述透明基板上方形成透明電極原料層；
[0061]對所述透明電極原料層進行構(gòu)圖工藝，形成包括多個初始透明電極的初始透明電極層；
[0062]對所述初始透明電極層進行還原處理，使所述初始透明電極層表面的材料被還原，得到所述透明電極層。
[0063]優(yōu)選地，對所述初始透明電極層進行還原處理的步驟包括:
[0064]向所述初始透明電極層的表面提供還原性氣體，使所述初始透明電極層表面的材料被還原。
[0065]在本發(fā)明中，所述還原性氣體可以包括氫氣。
[0066]作為本發(fā)明的一種【具體實施方式】，制作所述透明金屬氧化物層層的材料包括氧化銦錫(ITO)，相應(yīng)地，在透明金屬氧化物層上形成的還原金屬層包括銦。
[0067]如上文中所述，作為本發(fā)明的一種優(yōu)選實施方式，所述面板為觸控面板，所述透明電極層為觸控電極層。
[0068]當所述面板為觸控面板時，該面板設(shè)置在顯示面板的出光側(cè)。由于光的發(fā)散性，因此，面板上接收到的光線的區(qū)域的面積