專利名稱：光信息介質(zhì)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及再生專用光盤、光記錄盤、光磁記錄盤等光信息介質(zhì)及其制造方法。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)及其制造方法。
背景技術(shù)：
目前，從成形性、透明性及價(jià)格等角度出發(fā)，光信息介質(zhì)的透光層等光學(xué)材料多采用聚碳酸酯或甲基丙烯酸甲酯等樹(shù)脂材料。但是，這些材料存在耐擦傷性、耐磨性或?qū)τ袡C(jī)污物的防污性不夠充分等問(wèn)題，并且因顯示高絕緣性，所以容易帶電，介質(zhì)在保存或使用過(guò)程中表面附著大量灰塵，記錄與再生光學(xué)信息時(shí)容易產(chǎn)生錯(cuò)誤。
為了提高介質(zhì)表面的耐擦傷性，通常是在介質(zhì)的透光層表面形成透明且具有耐擦傷性的硬涂層。形成硬涂層時(shí)，在透光層表面涂布分子中具有兩個(gè)以上(甲基)丙烯?；染酆闲怨倌軋F(tuán)的活性能量射線聚合固化性化合物，通過(guò)照射紫外線等活性能量射線使其固化。但是，所得硬涂層與聚碳酸酯或甲基丙烯酸甲酯等樹(shù)脂膜表面相比，雖然其耐磨性優(yōu)異，但能夠?qū)崿F(xiàn)的耐磨性水平還有限，介質(zhì)在使用過(guò)程中并不具有充分的耐擦傷性。如果為了耐擦傷性而使用更硬的樹(shù)脂，則固化時(shí)收縮增大，所得介質(zhì)的盤面翹曲將會(huì)增大。還有，這種硬涂層的目的只是為了提高耐擦傷性，因此對(duì)灰塵或大氣中的油煙以及指紋污物等污染物質(zhì)沒(méi)有防污效果。
關(guān)于對(duì)有機(jī)污物具有防污性的硬涂層，如在日本特開(kāi)平10-110118號(hào)公報(bào)中提出了一種在硬涂層劑中添加非交聯(lián)型氟系表面活性劑的方法。但是，在硬涂層劑中添加非交聯(lián)型氟系表面活性劑時(shí)，存在使用介質(zhì)時(shí)如進(jìn)行擦拭后表面活性劑慢慢消失的問(wèn)題。
日本特開(kāi)平11-213444號(hào)公報(bào)中公開(kāi)了一種在以往聚碳酸酯等光盤基板表面涂布氟系聚合物的方法。但是，氟系聚合物只是通過(guò)范德華力(Vander waals)物理吸附在基板表面，因此氟系聚合物對(duì)基板表面的密合性極其差。從而，靠涂布氟系聚合物的表面處理在耐久性方面存在大問(wèn)題。
歐洲公開(kāi)專利EP1146510A2中公開(kāi)的一種方法是，在硬涂層中含有二氧化硅(silica)微粒等金屬硫?qū)僭鼗镂⒘?，以提高硬涂層的耐擦傷性，進(jìn)一步在硬涂層上設(shè)置含有疏水性或疏油性基團(tuán)的硅烷偶聯(lián)劑膜，以提高表面防污性。
如果使介質(zhì)表面低摩擦系數(shù)化，在接觸硬突起物時(shí)可由滑動(dòng)而避免沖擊，因此能夠抑制產(chǎn)生擦傷。從而，期望介質(zhì)表面低摩擦系數(shù)化，以進(jìn)一步提高耐擦傷性。尤其，近年來(lái)進(jìn)行的嘗試是，通過(guò)把用于聚焦記錄/再生激光的物鏡的數(shù)值孔徑(NA)提高到0.7以上，如0.85程度，同時(shí)把記錄/再生激光的波長(zhǎng)λ縮短到400nm程度，使激光的聚光光斑直徑變小，由此記錄大容量數(shù)碼數(shù)據(jù)。但是，這樣實(shí)現(xiàn)高NA化時(shí)，物鏡與光信息介質(zhì)表面的工作距離(working distance)變小(如設(shè)定NA＝0.85程度時(shí)，工作距離為100μm程度，與以前相比顯著窄)，因此光信息介質(zhì)在旋轉(zhuǎn)時(shí)引起光信息介質(zhì)表面與物鏡及支撐它的支撐物接觸的可能性將非常高。從而，要求在提高硬涂層表面的耐磨性的同時(shí)進(jìn)行低摩擦系數(shù)化。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于解決上述以往技術(shù)難點(diǎn)，提供盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)。還有，本發(fā)明的另一目的在于提供盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)的制造方法。
本發(fā)明者們經(jīng)潛心研究發(fā)現(xiàn)，通過(guò)由含有平均粒徑100nm以下的微粒和反應(yīng)性聚硅氧烷和活性能量射線固化性化合物的組合物的固化物構(gòu)成的硬涂層，來(lái)形成介質(zhì)的至少一個(gè)表面優(yōu)選是光入射側(cè)表面，可獲得盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)，以至完成本發(fā)明。
本發(fā)明包括以下發(fā)明。
(1)一種光信息介質(zhì)，其中在支撐基體上具有至少含有記錄層或反射層的由單層或多層構(gòu)成的膜體，所述支撐基體側(cè)表面及所述膜體側(cè)表面中的至少一個(gè)表面是由含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物的固化物構(gòu)成的硬涂層形成。
(2)如(1)記載的光信息介質(zhì)，其中(A)無(wú)機(jī)微粒是金屬(或準(zhǔn)金屬)氧化物的微粒、或者是金屬(或準(zhǔn)金屬)硫化物的微粒。
(3)如(1)或(2)記載的光信息介質(zhì)，其中(A)無(wú)機(jī)微粒是二氧化硅(silica)微粒。
(4)如(3)記載的光信息介質(zhì)，其中所述二氧化硅微粒由具有活性能量射線反應(yīng)性基團(tuán)的水解性硅烷化合物進(jìn)行過(guò)表面改性。
(5)如(1)～(4)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中(B)反應(yīng)性聚硅氧烷具有選自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巰基中的至少一種反應(yīng)性基團(tuán)。
(6)如(1)～(5)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中(B)反應(yīng)性聚硅氧烷在分子內(nèi)具有兩個(gè)以上(甲基)丙烯酰基。
(7)如(1)～(6)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中所述組合物在以所述(A)、(B)及(C)的總和為基準(zhǔn)時(shí)含有(A)無(wú)機(jī)微粒5重量％～80重量％、(B)反應(yīng)性硅烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射線固化性化合物19重量％～94.99重量％。
(8)如(1)～(7)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中所述組合物中進(jìn)一步含有光聚合引發(fā)劑。
(9)如(1)～(8)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中從所述支撐基體側(cè)或所述膜體側(cè)入射光，進(jìn)行光學(xué)性記錄和/或再生。
(10)如(1)～(9)中的任意一項(xiàng)記載的光信息介質(zhì)，其中所述支撐基體側(cè)表面及所述膜體側(cè)表面中成為光入射側(cè)的表面由所述硬涂層形成。
(11)一種光信息介質(zhì)的制造方法，其中在支撐基體上形成至少含有記錄層或反射層的由單層或多層構(gòu)成的膜體，在所述支撐基體的形成所述膜體側(cè)的相反側(cè)表面上及所述膜體表面上的至少一個(gè)表面上，涂布含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物，通過(guò)照射活性能量射線使其固化來(lái)形成硬涂層。
(12)如(11)記載的光信息介質(zhì)的制造方法，其中所述組合物進(jìn)一步含有非反應(yīng)性有機(jī)溶劑，涂布所述組合物后，通過(guò)加熱干燥去除非反應(yīng)性有機(jī)溶劑，然后通過(guò)照射活性能量射線使其固化來(lái)形成硬涂層。
(13)一種光信息介質(zhì)，其中在支撐基體上形成至少含有記錄層或反射層的由單層或多層構(gòu)成的膜體，在所述支撐基體的形成所述膜體側(cè)的相反側(cè)表面上及所述膜體表面上的至少一個(gè)表面上，涂布含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物，通過(guò)照射活性能量射線使其固化來(lái)形成硬涂層。
本發(fā)明中光信息介質(zhì)包括再生專用光盤、光記錄盤、光磁記錄盤等各種介質(zhì)。


圖1為本發(fā)明光盤的一例概略斷面圖。
圖2為用于說(shuō)明光盤摩擦系數(shù)測(cè)定方法的圖。
圖3為光盤摩擦系數(shù)測(cè)定結(jié)果圖表(累積旋轉(zhuǎn)數(shù)Vs摩擦系數(shù))。
具體實(shí)施例方式
參照?qǐng)D1說(shuō)明本發(fā)明光信息介質(zhì)(以下簡(jiǎn)稱為光盤)及其制造方法。以下舉例說(shuō)明相變型光盤，但本發(fā)明并不限定于此，不受記錄層種類的限制可廣泛適用于再生專用光盤、只能1次記錄的光盤等。
圖1為本發(fā)明光盤的一例概略斷面圖。圖1中光盤(1)在支撐基體(2)的形成有信息坑或預(yù)槽等微細(xì)凹凸的側(cè)的面上依次具有反射層(3)、第2電介質(zhì)層(4)、記錄層(5)、第1電介質(zhì)層(6)，在第1電介質(zhì)層(6)上具有樹(shù)脂層(7)，在樹(shù)脂層(7)上具有透光層(8)，在透光層(8)上具有硬涂層(9)。在該例中反射層(3)、第2電介質(zhì)層(4)、記錄層(5)、第1電介質(zhì)層(6)、樹(shù)脂層(7)及透光層(8)構(gòu)成記錄和/或再生所需膜體。使用光盤(1)時(shí)用于記錄和/或再生的激光經(jīng)過(guò)硬涂層(9)及透光層(8)，即從膜體側(cè)入射。
支撐基體(2)的厚度為0.3～1.6mm，優(yōu)選0.5～1.3mm，在形成記錄層(5)側(cè)的面形成有信息坑或預(yù)槽等微細(xì)凹凸。
作為支撐基體(2)，如果按如上所述那樣從膜體側(cè)激光入射的方式使用時(shí)，則不需要光學(xué)性透明，另一方面，如果按從支撐基體(2)側(cè)激光入射的方式使用時(shí)，則需要光學(xué)性透明。透明材料可使用聚碳酸酯樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂等各種塑料材料等。使用這種容易彎曲的材料時(shí)本發(fā)明中可抑制發(fā)生翹曲，因此尤其有效。但使用玻璃、陶瓷、金屬等也可以。使用塑料材料時(shí)多由注射成型制作凹凸圖案，使用塑料材料以外材料時(shí)則由光聚合法(2P法)成型。
支撐基體(2)上通常由濺射法形成反射層(3)。反射層材料可單獨(dú)或復(fù)合使用金屬元素、準(zhǔn)金屬元素、半導(dǎo)體元素或它們的化合物。具體來(lái)說(shuō)可從Au、Ag、Cu、Al、Pd等眾所周知的反射層材料選擇。反射層優(yōu)選形成為厚度20～200nm的薄膜。
反射層(3)上或者沒(méi)有反射層時(shí)在支撐基體(2)上，直接由濺射法依次形成第2電介質(zhì)層(4)、記錄層(5)、第1電介質(zhì)層(6)。
記錄層(5)根據(jù)激光照射可逆變化成結(jié)晶狀態(tài)和無(wú)定形狀態(tài)，在兩狀態(tài)間由光學(xué)特性不同的材料形成?？闪信e諸如Ge-Sb-Te、In-Sb-Te、Sn-Se-Te、Ge-Te-Sn、In-Se-Tl、In-Sb-Te等。進(jìn)一步，這些材料中還可以微量添加選自Co、Pt、Pd、Au、Ag、Ir、Nb、Ta、V、W、Ti、Cr、Zr、Bi、In等金屬中的至少一種，也可以微量添加氮?dú)獾冗€原性氣體。對(duì)于記錄層(5)的厚度不做特別限定，為3～50nm程度。
第2電介質(zhì)層(4)和第1電介質(zhì)層(6)在記錄層(5)的上下兩側(cè)隔著記錄層(5)而形成。第2電介質(zhì)層(4)和第1電介質(zhì)層(6)在起到機(jī)械性和化學(xué)性保護(hù)記錄層(5)的功能的同時(shí)還起到作為調(diào)節(jié)光學(xué)特性的干涉層的功能。第2電介質(zhì)層(4)和第1電介質(zhì)層(6)各自可以由單層構(gòu)成，也可以由多層構(gòu)成。
第2電介質(zhì)層(4)和第1電介質(zhì)層(6)優(yōu)選由含有選自Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Zn、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mg的至少一種金屬的氧化物、氮化物、硫化物、氟化物或由它們的復(fù)合物形成。還有，第2電介質(zhì)層(4)和第1電介質(zhì)層(6)各自的消光系數(shù)k優(yōu)選在0.1以下。
對(duì)于第2電介質(zhì)層(4)的厚度不做特別限定，優(yōu)選20～150nm程度。對(duì)于第1電介質(zhì)層(6)的厚度不做特別限定，優(yōu)選20～200nm程度。通過(guò)將兩個(gè)電介質(zhì)層(4)和(6)的厚度選擇在該范圍，可調(diào)節(jié)反射。
在第1電介質(zhì)層(6)上使用活性能量射線固化性材料形成透光性樹(shù)脂層(7)。
活性能量射線固化性材料的前提條件為光學(xué)透明、在使用的激光波長(zhǎng)區(qū)域的光學(xué)吸收和反射少、雙折射小，可從紫外線固化性材料、電子射線固化性材料中選擇。
具體來(lái)說(shuō)優(yōu)選由紫外線(電子射線)固化性化合物或其聚合用組合物構(gòu)成。這些材料可列舉丙烯酸或甲基丙烯酸的酯化合物，環(huán)氧丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯等的丙烯酸系雙鍵，鄰苯二甲酸二烯丙基酯等的烯丙基系雙鍵，馬來(lái)酸衍生物等的不飽和雙鍵等在分子中含有或引入可通過(guò)紫外線照射交聯(lián)或聚合的基團(tuán)的單體、低聚物及聚合物等。這些優(yōu)選為多官能團(tuán)，尤其是3官能團(tuán)以上，可以僅使用一種，也可以拼用兩種以上。還有，根據(jù)需要也可以使用單官能團(tuán)的物質(zhì)。
紫外線固化性單體最好是分子量小于2000的化合物，低聚物最好是分子量為2000～10000的物質(zhì)。這些可列舉苯乙烯、丙烯酸乙酯、二丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甘醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸二甘醇酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯等，由此優(yōu)選四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、苯酚環(huán)氧乙烷加成物的(甲基)丙烯酸酯等。此外，紫外線固化性低聚物可舉例酯類低聚物丙烯酸酯或聚氨酯彈性體的丙烯酸改性體等。
紫外線(電子射線)固化性材料可以含有已知的光聚合引發(fā)劑。光聚合引發(fā)劑在使用電子射線作為活性能量射線時(shí)并不特別需要，但使用紫外線時(shí)則需要。光聚合引發(fā)劑可從乙酰苯系、苯偶姻系、二苯甲酮系、噻噸酮系等通常物質(zhì)中適當(dāng)選擇。光聚合引發(fā)劑中光自由基引發(fā)劑可列舉DAROCURE 1173、IRGACURE 651、IRGACURE 184、IRGACURE 907(均為Ciba Specialty化學(xué)公司制造)。光聚合引發(fā)劑的含量對(duì)于所述紫外線(電子射線)固化性成分例如為0.5～5重量％程度。
還有，作為紫外線固化性材料，還可以使用含有環(huán)氧化合物和光陽(yáng)離子聚合催化劑的組合物。作為環(huán)氧化合物，優(yōu)選脂環(huán)式環(huán)氧化合物，尤其優(yōu)選分子內(nèi)具有兩個(gè)以上環(huán)氧基的物質(zhì)。脂環(huán)式環(huán)氧化合物優(yōu)選使用3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲基-3，4-環(huán)氧環(huán)己烷羧酸酯、雙(3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲基)己二酸酯、雙(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)己二酸酯、2-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基-5，5-螺-3，4-環(huán)氧)環(huán)己烷-間-二噁烷、雙(2，3-環(huán)氧環(huán)戊基)醚、乙烯環(huán)己烯二氧化物等中的一種以上。對(duì)于脂環(huán)式環(huán)氧化合物的環(huán)氧當(dāng)量不做特別限定，但從獲得良好固化性的角度考慮優(yōu)選60～300，尤其優(yōu)選100～200。
光陽(yáng)離子聚合催化劑可以使用已知的任意物質(zhì)，不做特別限定。例如優(yōu)選使用一種以上的金屬氟硼酸鹽及三氟化硼的絡(luò)合物、雙(全氟烷基磺酰)甲烷金屬鹽、芳基重氮鎓化合物、6B族元素的芳香族鎓鹽、5B族元素的芳香族鎓鹽、3B族～5B族元素的二羰基螯合物、硫代吡喃鎓鹽、具有MF6陰離子(這里M為P、As或Sb)的6B族元素、三芳基锍絡(luò)鹽、芳香族碘鎓絡(luò)鹽、芳香族锍絡(luò)鹽等，尤其優(yōu)選使用聚芳基锍絡(luò)鹽，含鹵素絡(luò)合離子的芳香族锍絡(luò)鹽或碘鎓鹽，3B族元素、5B族元素及6B族元素的芳香族鎓鹽的一種以上。光陽(yáng)離子聚合催化劑的含量對(duì)于所述紫外線固化性成分為0.5～5重量％程度。
作為用于該樹(shù)脂層的活性能量射線固化性材料，優(yōu)選具有3～500cp的粘度(25℃)。
形成樹(shù)脂層(7)時(shí)，用旋涂法在第1電介質(zhì)層(6)上涂布活性能量射線固化性材料即可。樹(shù)脂層(7)的厚度在固化后達(dá)到1～50μm程度即可。
接著，在未固化的樹(shù)脂層(7)上放置透光性薄板作為透光層(8)，然后照射紫外線等活性能量射線使樹(shù)脂層(7)固化，這樣粘接透光性薄板作為透光層(8)。作為透光性薄板，可使用具有選自50～300μm的期望厚度的聚碳酸酯薄板。形成透光層(8)時(shí)更具體來(lái)說(shuō)，在真空中(0.1大氣壓以下)把期望厚度的聚碳酸酯薄板放置到未固化的樹(shù)脂層(7)上，接著回到大氣壓氛圍，照射紫外線使樹(shù)脂層(7)固化。
另外，也可以不象上述那樣使用聚碳酸酯薄板，而是形成厚的樹(shù)脂層(7)，用它兼作透光層。此時(shí)，樹(shù)脂層(7)厚度為在固化后達(dá)到50～300μm程度。還有，用于樹(shù)脂層的活性能量射線固化性材料可以使用與前面所述相同的材料，但優(yōu)選具有1,000～10,000cp的粘度(25℃)。
在透光層(8)上涂布含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)所述(B)以外的活性能量射線固化性化合物的硬涂層用組合物，通過(guò)照射紫外線、電子射線、可見(jiàn)光等活性能量射線使組合物固化，形成硬涂層(9)。對(duì)硬涂層用組合物的各成分進(jìn)行說(shuō)明。
硬涂層用組合物中含有的活性能量射線固化性化合物(C)只要是具有選自(甲基)丙烯?；?、乙烯基及巰基中的至少一種活性基團(tuán)的化合物，就對(duì)其結(jié)構(gòu)不做特別限定。為了獲得作為硬涂層的充分的硬度，活性能量射線固化性化合物優(yōu)選含有在一個(gè)分子內(nèi)具有兩個(gè)以上優(yōu)選三個(gè)以上聚合性基團(tuán)的多官能團(tuán)單體或低聚物。如果過(guò)量使用多官能團(tuán)單體或低聚物，雖然硬度提高，但固化收縮增大，盤的翹曲增大，因此需要注意。
這種活性能量射線聚合性化合物(C)中，作為具有(甲基)丙烯?；幕衔?，可列舉1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、3-(甲基)丙烯酰氧甘油單(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸乙酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、酯丙烯酸酯等，但并不限定于此。
還有，具有乙烯基的化合物可列舉乙二醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯基醚、1，6-己二醇二乙烯基醚、三羥甲基丙烷二乙烯基醚、環(huán)氧乙烷改性氫醌二乙烯基醚、環(huán)氧乙烷改性雙酚A二乙烯基醚、季戊四醇三乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、二三羥甲基丙烷聚乙烯基醚等，但并不限定于此。
還有，具有巰基的化合物可列舉乙二醇雙(巰基乙醇酸酯)、乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(巰基乙醇酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(巰基乙酸酯)、季戊四醇四(巰基乙醇酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)等，但并不限定于此。
硬涂層用組合物中含有的活性能量射線固化性化合物(C)可只使用一種，也可以拼用兩種以上。
硬涂層用組合物中含有的無(wú)機(jī)微粒(A)為了確保硬涂層的透明性而平均粒徑在100nm以下，優(yōu)選在20nm以下。受膠體溶液制造方面的制約，無(wú)機(jī)微粒(A)的平均粒徑優(yōu)選在5nm以上。
(A)無(wú)機(jī)微粒是例如金屬(或準(zhǔn)金屬)氧化物的微粒、或者是金屬(或準(zhǔn)金屬)硫化物的微粒。無(wú)機(jī)微粒的金屬(或準(zhǔn)金屬)可列舉，諸如Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb等。還有，氧化物、硫化物以外還可以使用Se化物、Te化物、氮化物、碳化物等。無(wú)機(jī)微?？闪信e，二氧化硅(silica)、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦等微粒，優(yōu)選二氧化硅粒子。通過(guò)在硬涂層劑組合物中添加這些無(wú)機(jī)微粒，可進(jìn)一步提高硬涂層的耐磨性。
所述二氧化硅微粒中優(yōu)選使用，由具有活性能量射線反應(yīng)性基團(tuán)的水解性硅烷化合物進(jìn)行過(guò)表面改性的物質(zhì)。這種反應(yīng)性二氧化硅微粒通過(guò)固化硬涂層時(shí)的活性能量射線照射，發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，固定在聚合物基體中。這種反應(yīng)性二氧化硅微粒有例如日本特開(kāi)平9-100111號(hào)公報(bào)中記載的反應(yīng)性二氧化硅微粒，可在本發(fā)明中優(yōu)選使用。
硬涂層用組合物中含有的反應(yīng)性聚硅氧烷(B)，只要是能夠賦予硬涂層疏水性和/或潤(rùn)滑性，并且具有活性能量射線聚合性官能團(tuán)，則不做特別限定?？墒褂萌缇哂羞x自(甲基)丙烯?；?、乙烯基及巰基中的至少一種活性能量射線聚合性官能團(tuán)的聚硅氧烷化合物。
聚硅氧烷化合物可列舉包括具有聚硅氧烷系的取代基的部位和選自(甲基)丙烯?；?、乙烯基及巰基中的至少一種反應(yīng)性基團(tuán)的化合物，更具體來(lái)說(shuō)可列舉如下述式(1)至(3)所示化合物，但并不限定于此。
R-[Si(CH3)2O]n-R (1)R-[Si(CH3)2O]n-Si(CH3)3(2)(CH3)3SiO-[Si(CH3)2O]n-[Si(CH3)(R)O]m-Si(CH3)3(3)這里，R為含有選自(甲基)丙烯?；?、乙烯基及巰基中的至少一種反應(yīng)性基團(tuán)的取代基，n、m為聚合度。
反應(yīng)性聚硅氧烷(B)可只使用一種，也可拼用兩種以上。
通過(guò)在硬涂層用組合物中含有這種反應(yīng)性聚硅氧烷(B)，可以賦予硬涂層(9)表面以潤(rùn)滑性，減少硬涂層(9)表面發(fā)生擦傷。反應(yīng)性聚硅氧烷通過(guò)具有活性能量射線聚合性的官能團(tuán)，利用固化硬涂層時(shí)的活性能量射線照射，發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，固定在聚合物基體中。為可靠地進(jìn)行這種交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)性聚硅氧烷優(yōu)選在分子內(nèi)具有兩個(gè)以上反應(yīng)性基團(tuán)，更優(yōu)選在分子內(nèi)具有兩個(gè)以上(甲基)丙烯酰基?？色@得對(duì)各種保存條件和使用條件都具有非常優(yōu)異的耐擦傷性和耐磨性的介質(zhì)。
還有，反應(yīng)性聚硅氧烷的平均分子量?jī)?yōu)選1.0×102～1.5×104。如果平均分子量不足1.0×102，則無(wú)法獲得上述賦予潤(rùn)滑性的性能，而如果平均分子量超過(guò)1.5×104，則硬涂層用組合物中的相溶性下降，難以進(jìn)行均勻的涂布。
反應(yīng)性聚硅氧烷優(yōu)選為分子內(nèi)具有兩個(gè)以上反應(yīng)性基團(tuán)，并且每一個(gè)聚硅氧烷單元的化學(xué)式量在3000以下的化合物。還有，反應(yīng)性聚硅氧烷除了聚硅氧烷單元外還可以在分子內(nèi)具有聚醚或聚亞甲基等單元。
作為反應(yīng)性聚硅氧烷，在上述式(1)中優(yōu)選兩末端的R為(甲基)丙烯?；?，并且以-[Si(CH3)2O]n-表示的聚硅氧烷單元的化學(xué)式量在3000以下的化合物，更優(yōu)選兩末端R為(甲基)丙烯酰基，并且以-[Si(CH3)2O]n-表示的聚硅氧烷單元的化學(xué)式量在2000以下的化合物。
本發(fā)明中，所述硬涂層用組合物在以所述(A)、(B)及(C)的總和為基準(zhǔn)時(shí)優(yōu)選含有(A)無(wú)機(jī)微粒5重量％～80重量％、(B)反應(yīng)性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射線固化性化合物19重量％～94.99重量％。如果無(wú)機(jī)微粒(A)含量多于80重量％，則容易削弱硬涂層的膜強(qiáng)度，另一方面，如果不足5重量％，則削弱硬涂層的耐磨性提高效果。如果反應(yīng)性聚硅氧烷(B)含量多于1重量％，雖然潤(rùn)滑性提高，但硬涂層的硬度容易降低，另一方面，如果不足0.01重量％，則削弱潤(rùn)滑性提高效果。所述硬涂層用組合物的更優(yōu)選配合比例為以所述(A)、(B)及(C)的總和為基準(zhǔn)，含有(A)無(wú)機(jī)微粒10重量％～60重量％、(B)反應(yīng)性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射線固化性化合物39重量％～89.99重量％。
硬涂層用組合物可以含有已知的光聚合引發(fā)劑。光聚合引發(fā)劑在使用電子射線作為活性能量射線時(shí)并不特別需要，但使用紫外線時(shí)則需要。光聚合引發(fā)劑中光自由基引發(fā)劑可列舉DAROCURE 1173、IRGACURE 651、IRGACURE 184、IRGACURE 907(均為Ciba Specialty化學(xué)公司制造)。光聚合引發(fā)劑的含量在硬涂層用組合物中，對(duì)于(A)、(B)及(C)的總和為0.5～5重量％程度。
還有，硬涂層用組合物可以根據(jù)需要進(jìn)一步含有非反應(yīng)性稀釋有機(jī)溶劑、光聚合引發(fā)助劑、有機(jī)填料、聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、消泡劑、流平劑、顏料、硅化合物等。
本發(fā)明中，在透光層(8)上涂布所述硬涂層用組合物，形成未固化硬涂層，然后照射活性能量射線，使未固化層固化，作為硬涂層(9)。對(duì)于涂布方法不做特別限定，可以使用旋涂法、浸涂法、照相凹版印刷涂層法等各種涂布方法?；蛘呤?，在使用透光性薄板作為透光層(8)時(shí)，可在長(zhǎng)條狀透光性薄板坯料上事先用上述相同方法形成硬涂層(9)，把該坯料沖裁成盤形狀后，如上所述放置到未固化樹(shù)脂層(7)上，使樹(shù)脂層(7)固化。
所述硬涂層用組合物含有非反應(yīng)性稀釋有機(jī)溶劑時(shí)，涂布所述硬涂層用組合物以形成未固化硬涂層后，通過(guò)加熱干燥去除非反應(yīng)性有機(jī)溶劑，然后照射活性能量射線，使未固化層固化，作為硬涂層(9)。通過(guò)使用稀釋有機(jī)溶劑涂布硬涂層用組合物，并利用加熱干燥去除有機(jī)溶劑，反應(yīng)性聚硅氧烷容易在未固化硬涂層的表面附近更多地聚集，固化后的硬涂層(9)的表面附近將存在更多的聚硅氧烷，從而容易獲得更好的潤(rùn)滑性提高效果。此時(shí)加熱干燥的溫度優(yōu)選40℃～100℃。加熱干燥的時(shí)間為例如為30秒～8分鐘，優(yōu)選1分鐘～5分鐘，更優(yōu)選3分鐘～5分鐘。對(duì)于非反應(yīng)性稀釋有機(jī)溶劑不做特別限定，可使用丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚、乙二醇單甲基醚、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異丙醇等?；钚阅芰可渚€可從紫外線、電子射線、可見(jiàn)光等活性能量射線中適當(dāng)選擇使用，優(yōu)選紫外線或電子射線。固化后的硬涂層(9)的膜厚為0.5～5μm程度。
實(shí)施例下面，用實(shí)施例進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施例。
硬涂層用組合物的調(diào)制首先分別調(diào)制具有以下各組成的紫外線固化性材料的基材組合物(a)、(b)及(c)。
基材組合物(a)反應(yīng)性基團(tuán)改性膠體二氧化硅(分散介質(zhì)丙二醇單甲基醚乙酸酯、不揮發(fā)組分40重量％) 100重量份六丙烯酸二季戊四醇48重量份丙烯酸四氫糠酯12重量份丙二醇單甲基醚乙酸酯(非反應(yīng)性稀釋溶劑)40重量份IRGACURE 184(聚合引發(fā)劑) 5重量份基材組合物(b)丙烯酸苯氧乙酯35重量份1，6-己二醇二丙烯酸酯 45重量份三羥甲基丙烷三丙烯酸酯20重量份IRGACURE 184(聚合引發(fā)劑) 5重量份基材組合物(c)二環(huán)戊基丙烯酸酯 30重量份1，6-己二醇二丙烯酸酯 20重量份三丙烯酸季戊四醇酯25重量份四丙烯酸季戊四醇酯25重量份IRGACURE 184(聚合引發(fā)劑) 5重量份接著，在各基材組合物(a)、(b)及(c)中添加如表1所示反應(yīng)性聚硅氧烷，獲得硬涂層用組合物a-1、a-2、a-3、b-1、c-1。此時(shí)，對(duì)于基材組合物100重量份，反應(yīng)性聚硅氧烷的添加量均為0.25重量份。但是使用基材組合物(a)時(shí)，對(duì)于組合物(a)中不揮發(fā)組分100重量份，為0.25重量份。
表1硬涂層用組合物基材反應(yīng)性聚硅氧烷No. 組成X-24-8201a-1 組成(a)(單官能團(tuán)聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量為約2000，信越化學(xué)工業(yè)股份公司制造)X-22-164Aa-2 組成(a)(二官能團(tuán)聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量為約1900，信越化學(xué)工業(yè)股份公司制造)a-3 組成(a)無(wú)X-22-164Ab-1 組成(b)(二官能團(tuán)聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量為約1900，信越化學(xué)工業(yè)股份公司制造)X-22-164Ac-1 組成(c)(二官能團(tuán)聚硅氧烷甲基丙烯酸酯，分子量為約1900，信越化學(xué)工業(yè)股份公司制造)實(shí)施例1～2、比較例1～3用以下順序制作圖1所示層構(gòu)成的光記錄盤樣品。
在形成有溝槽的盤狀支撐基體(2)(聚碳酸酯制，直徑120mm，厚度1.2mm)的表面利用濺射法形成由Al98Pd1Cu1(原子比)構(gòu)成的厚度100nm的反射層(3)。所述溝槽的深度為，用波長(zhǎng)λ＝405nm時(shí)的光程表示為λ/6。溝槽記錄方式時(shí)的記錄磁道間距為0.32μm。
接著，在反射層(3)表面使用Al2O3靶利用濺射法形成厚度20nm的第2電介質(zhì)層(4)。在第2電介質(zhì)層(4)表面使用由相變材料構(gòu)成的合金靶利用濺射法形成厚度12nm的記錄層(5)。記錄層(5)的組成(原子比)為Sb74Te18(Ge7In1)。使用ZnS(80摩爾％)-SiO2(20摩爾％)靶利用濺射法在記錄層(5)表面上形成厚度130nm的第1電介質(zhì)層(6)。
接著，在第1電介質(zhì)層(6)表面上，用旋涂法涂布自由基聚合性紫外線固化性樹(shù)脂溶液(三菱RAYON公司制造，4×108E，溶劑乙酸丁酯)，形成固化后厚度為2.0μm的樹(shù)脂層(7)。
接著，在真空中(0.1大氣壓以下)將厚度100μm的聚碳酸酯薄板放置到樹(shù)脂層(7)上。作為所述聚碳酸酯薄板，使用根據(jù)流延法制造的帝人股份公司的PUREACE。接著，回到大氣壓氛圍中，通過(guò)照射紫外線使樹(shù)脂層(7)固化來(lái)粘接所述聚碳酸酯薄板，將其作為透光層(8)。
接著，在透光層(8)表面用旋涂法涂布各硬涂層用組合物a-1(實(shí)施例1)、a-2(實(shí)施例2)、a-3(比較例1)、b-1(比較例2)或c-1(比較例3)，照射紫外線使其固化，形成硬涂層(9)。固化后的硬涂層(9)的膜厚均為1.5μm。并且，使用硬涂層用組合物a-1、a-2或a-3時(shí)，在涂布后，紫外線照射前，在60℃加熱干燥3分鐘，以去除殘留在涂膜內(nèi)部的稀釋溶劑。這樣形成硬涂層(9)。
這樣分別制作光記錄盤樣品No.1(實(shí)施例1)、No.2(實(shí)施例2)、No.3(比較例1)、No.4(比較例2)及No.5(比較例3)。
比較例4除了未形成硬涂層(9)以外，其余與實(shí)施例1相同來(lái)制作光記錄盤樣品No.0。
評(píng)價(jià)對(duì)于實(shí)施例1～2及比較例1～4中制作的各光記錄盤樣品No.0～5進(jìn)行如下所述性能試驗(yàn)。
(1)盤面的翹曲量(翹起)對(duì)各盤樣品用CORES股份公司制造的機(jī)械精度測(cè)定儀DC-1010C測(cè)定盤半徑方向的翹曲角(度)。對(duì)初期的盤樣品及高溫高濕保存(溫度80℃、相對(duì)濕度85％、保存時(shí)間100小時(shí))后的盤樣品分別進(jìn)行測(cè)定。將結(jié)果示于表2。表2中把翹曲在透光層側(cè)為凹的情況表示為正值，相反情況表示為負(fù)值。
(2)光頭接觸時(shí)的耐磨性使用光盤評(píng)價(jià)裝置(PULSTEC股份公司制造，DDU1000)，按照以下順序進(jìn)行光頭接觸試驗(yàn)。即把光盤樣品放置在評(píng)價(jià)裝置的主軸電動(dòng)機(jī)上，使其硬涂層面朝上，調(diào)節(jié)光頭的高度，使光頭前端與光盤面間距成約0.5mm。接著，以2000rpm旋轉(zhuǎn)主軸電動(dòng)機(jī)，然后打開(kāi)聚焦伺服機(jī)(focusservo)，驅(qū)動(dòng)光頭的驅(qū)動(dòng)器。在該狀態(tài)下光頭前端以一定周期反復(fù)接觸光盤硬涂層表面。當(dāng)光頭前端接觸10次光盤硬涂層表面后關(guān)閉聚焦伺服機(jī)，取出光盤。然后，目測(cè)確認(rèn)光盤硬涂層表面有無(wú)擦傷。在各實(shí)施例及各比較例中，對(duì)5張光盤樣品進(jìn)行光頭接觸試驗(yàn)，用發(fā)生擦傷的樣品數(shù)目進(jìn)行耐擦傷性評(píng)價(jià)。并且，對(duì)于比較例4的光盤樣品，目測(cè)確認(rèn)透光層表面有無(wú)擦傷。
安裝到所述評(píng)價(jià)裝置的光頭，具有塑料制物鏡，并在其周圍安裝了由ABS樹(shù)脂構(gòu)成的圓盤狀物鏡保護(hù)板。該試驗(yàn)中接觸到硬涂層表面的就是該保護(hù)板。
(3)摩擦系數(shù)按照?qǐng)D2中簡(jiǎn)略表示的方法，測(cè)定光盤樣品硬涂層表面的摩擦系數(shù)。對(duì)初期的盤樣品、高溫高濕保存(溫度80℃、相對(duì)濕度85％、保存時(shí)間100小時(shí))后盤樣品、及高溫低濕保存(溫度80℃、相對(duì)濕度小于5％、保存時(shí)間100小時(shí))后盤樣品分別進(jìn)行測(cè)定。
參照?qǐng)D2，把光盤樣品(1)放置在主軸電動(dòng)機(jī)(21)上，使其硬涂層(9)面朝上。把切割成寬10mm、長(zhǎng)100mm長(zhǎng)方形的無(wú)紡布(22)(旭化成工業(yè)股份公司制造，Bemcot Lint Free CT-8)放置在光盤的硬涂層(9)表面，接著在無(wú)紡布(22)的一個(gè)端部(22a)放置砝碼(24)，施加0.1N/cm2的載荷。此時(shí)，安置成砝碼(24)的位置處于從盤中心朝半徑方向約40mm的位置，使無(wú)紡布(22)的長(zhǎng)度方向垂直于連接盤中心與砝碼(24)位置的半徑方向。把無(wú)紡布(22)的另一個(gè)端部(22b)固定在傳感器(transducer)(23)上，在該狀態(tài)以600rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)光盤(1)。用傳感器(23)檢測(cè)無(wú)紡布(22)產(chǎn)生的摩擦力，測(cè)定摩擦系數(shù)。
另外，比較例4的光盤樣品No.0為，透光層表面的耐磨性極低，在該條件測(cè)定時(shí)產(chǎn)生顯著摩擦痕。圖3表示了光盤樣品No.1～3的摩擦系數(shù)測(cè)定結(jié)果的圖表(累積旋轉(zhuǎn)數(shù)Vs摩擦系數(shù))。
將以上測(cè)定結(jié)果示于表2。
表2翹起耐擦傷性(發(fā)光盤樣品硬涂層用組(半徑方向，單位度)生擦傷的樣品No. 合物No. 高溫高濕保存初期 數(shù))后比較例4 No.0無(wú)0.090.03 5實(shí)施例1 No.1a-1 0.150.23 0實(shí)施例2 No.2a-2 0.100.24 0比較例1 No.3a-3 0.080.15 5比較例2 No.4b-1 0.150.21 3比較例3 No.5c-1 0.320.51 0從表2可以知道，光盤樣品No.1和No.2均為，其盤面翹曲在初期時(shí)就非常小，高溫高濕保存后也能夠維持小的狀態(tài)，實(shí)用性優(yōu)異。還有，光頭接觸試驗(yàn)中，5張樣品都沒(méi)有發(fā)生擦傷，初始耐擦傷性也非常優(yōu)異。
從圖3的摩擦系數(shù)測(cè)定結(jié)果來(lái)看，樣品No.1為，初期摩擦系數(shù)小，初期耐擦傷性即潤(rùn)滑性與樣品No.2相同為優(yōu)異，但與樣品No.2相比尤其在高溫低濕保存后摩擦系數(shù)稍微上升。這是因?yàn)?，樣品No.1使用了單官能團(tuán)聚硅氧烷丙烯酸酯，因此聚硅氧烷丙烯酸酯與基材無(wú)法進(jìn)行充分交聯(lián)，在高溫條件下未反應(yīng)聚硅氧烷丙烯酸酯發(fā)生分解或揮發(fā)，甚至發(fā)生向涂膜內(nèi)部滲透等，使硬涂層表面的聚硅氧烷密度減少。相對(duì)于此，樣品No.2使用反應(yīng)性高的二官能團(tuán)聚硅氧烷丙烯酸酯，因此聚硅氧烷丙烯酸酯與基材進(jìn)行充分交聯(lián)，即使在高溫條件下硬涂層表面的聚硅氧烷密度也沒(méi)有減少多少。因此，高溫低濕保存后摩擦系數(shù)也只增加了一點(diǎn)。因此認(rèn)為，樣品No.2在高溫保存后尤其在高溫低濕保存后也能夠維持良好的耐擦傷性。從該結(jié)果看，優(yōu)選使用二官能團(tuán)以上的多官能團(tuán)聚硅氧烷作為反應(yīng)性聚硅氧烷。
光盤樣品No.3為，在光頭接觸試驗(yàn)中5張樣品全部發(fā)生擦傷。樣品No.3雖然使用與樣品No.1和No.2相同的基材(a)形成高硬度硬涂層，但因硬涂層劑不含反應(yīng)性聚硅氧烷，所以硬涂層表面的潤(rùn)滑性不充分，其結(jié)果，發(fā)生擦傷。
光盤樣品No.4為，基材(b)自身的硬度不夠充分，即使通過(guò)添加反應(yīng)性聚硅氧烷來(lái)對(duì)硬涂層表面賦予潤(rùn)滑性，也在光頭接觸試驗(yàn)中有3張樣品發(fā)生擦傷。
光盤樣品No.5為，使用不含二氧化硅微粒的基材(c)抑制了光頭接觸試驗(yàn)中發(fā)生擦傷。但是，初期及高溫高濕保存后翹曲均大，無(wú)法用作光盤?；牡挠捕瓤梢酝ㄟ^(guò)提高基材中的多官能團(tuán)單體或多官能團(tuán)低聚物的配合比例來(lái)提高，但材料的固化收縮率顯著增大，其結(jié)果，翹起顯著惡化。
上述實(shí)施例中，表示了對(duì)相變型光盤賦予硬涂層的情況。但本發(fā)明并不局限于記錄層為相變型的光盤，還適用于再生專用型光盤、追記型光盤。因此，所述實(shí)施例只是其中個(gè)別例子，并不限定于此。進(jìn)一步，屬于權(quán)利要求范圍等同范圍內(nèi)的變更都屬于本發(fā)明范圍。
產(chǎn)業(yè)上的利用可能性根據(jù)本發(fā)明，可提供盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)。并且，根據(jù)本發(fā)明，還可以提供盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)的制造方法。
權(quán)利要求
1.一種光信息介質(zhì)，其中在支撐基體上具有至少含有記錄層或反射層的由單層或多層構(gòu)成的膜體，所述支撐基體側(cè)表面及所述膜體側(cè)表面中的至少一個(gè)表面是由含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物的固化物構(gòu)成的硬涂層形成。
2.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中(A)無(wú)機(jī)微粒是金屬(或準(zhǔn)金屬)氧化物的微粒、或者是金屬(或準(zhǔn)金屬)硫化物的微粒。
3.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中(A)無(wú)機(jī)微粒是二氧化硅微粒。
4.如權(quán)利要求3記載的光信息介質(zhì)，其中所述二氧化硅微粒被具有活性能量射線反應(yīng)性基團(tuán)的水解性硅烷化合物進(jìn)行過(guò)表面改性。
5.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中(B)反應(yīng)性聚硅氧烷具有選自(甲基)丙烯酰基、乙烯基及巰基中的至少一種反應(yīng)性基團(tuán)。
6.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中(B)反應(yīng)性聚硅氧烷在分子內(nèi)具有兩個(gè)以上(甲基)丙烯?；?br> 7.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中所述組合物在以所述(A)、(B)及(C)的總和為基準(zhǔn)時(shí)含有(A)無(wú)機(jī)微粒5重量％～80重量％、(B)反應(yīng)性聚硅氧烷0.01重量％～1重量％、(C)活性能量射線固化性化合物19重量％～94.99重量％。
8.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中所述組合物中進(jìn)一步含有光聚合引發(fā)劑。
9.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中從所述支撐基體側(cè)或所述膜體側(cè)入射光，進(jìn)行光學(xué)性記錄和/或再生。
10.如權(quán)利要求1記載的光信息介質(zhì)，其中在所述支撐基體側(cè)表面及所述膜體側(cè)表面中成為光入射側(cè)的表面由所述硬涂層形成。
11.一種光信息介質(zhì)的制造方法，其中在支撐基體上形成至少含有記錄層或反射層的由單層或多層構(gòu)成的膜體，在所述支撐基體的形成了所述膜體的側(cè)的相反側(cè)表面及所述膜體表面中的至少一個(gè)表面上，涂布含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物，通過(guò)照射活性能量射線使其固化來(lái)形成硬涂層。
12.如權(quán)利要求11記載的光信息介質(zhì)的制造方法，其中所述組合物進(jìn)一步含有非反應(yīng)性有機(jī)溶劑，涂布所述組合物后，利用加熱干燥去除非反應(yīng)性有機(jī)溶劑，然后通過(guò)照射活性能量射線使其固化來(lái)形成硬涂層。
全文摘要
提供盤面的翹曲非常小，并且耐擦傷性和耐磨性非常優(yōu)異的光信息介質(zhì)及其制造方法。在支撐基體2上具有至少含有記錄層5或反射層3的由單層或多層構(gòu)成的膜體，所述支撐基體側(cè)表面及所述膜體側(cè)表面中的至少一個(gè)表面由含有(A)平均粒徑100nm以下的無(wú)機(jī)微粒和(B)反應(yīng)性聚硅氧烷和(C)活性能量射線固化性化合物的組合物的固化物構(gòu)成的硬涂層9形成的光信息介質(zhì)1。
文檔編號(hào)G11B7/254GK1647177SQ0380834
公開(kāi)日2005年7月27日 申請(qǐng)日期2003年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月29日
發(fā)明者林田直樹(shù), 田中和志, 井原理惠 申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社