專利名稱：光記錄介質(zhì)制造用片材和光記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及追記型光盤或者重寫型光盤那樣的可寫入光記錄介質(zhì)、以及可制造這類光記錄介質(zhì)的光記錄介質(zhì)制造用片材，特別涉及即使在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，也可以正確地再現(xiàn)記錄信息的可寫入的光記錄介質(zhì)、以及可以制造這類光記錄介質(zhì)的光記錄介質(zhì)制造用片材。
背景技術(shù)：
作為用光進行記錄的可寫入光記錄介質(zhì)，可列舉出僅可進行一次記錄的追記型光盤，以及通過重復(fù)進行刪除和寫入而可進行多次記錄的重寫型光盤，近年來，通過縮短記錄激光波長并采用高NA透鏡，記錄容量的大容量化不斷進步。
以直徑尺寸12cm的每個單層的記錄容量為例，在使用波長635～660nm的激光和NA為0.60的物鏡的數(shù)字通用盤(DVD)中，可達到4.7GB的記錄容量，而在使用波長405nm的激光和NA為0.85的物鏡的藍光照射盤(Blu-ray Disc)中，可達到23GB以上的記錄容量。
追記型光盤一般有基板和在該基板上形成的可進行寫入的信息記錄層，在信息記錄層中使用有機染料材料或相變材料。
單面一層式的可寫入光記錄介質(zhì)一般由具有溝槽和島(land)構(gòu)成的凹凸圖形的基板、在該基板上形成的可重寫的信息記錄層、以及通過粘結(jié)層粘結(jié)到信息記錄層的保護膜構(gòu)成。可重寫的信息記錄層通常由反射膜、電介質(zhì)膜、相變膜和電介質(zhì)膜構(gòu)成。
作為保護膜和信息記錄層的粘結(jié)方法，已知在保護膜或信息記錄層上涂敷紫外線固化性樹脂而將保護膜和信息記錄層粘合的方法((日本)特開平10-283683號公報)，以及將具有剝離片材的丙烯酸系粘結(jié)劑層(粘結(jié)片材)粘貼在保護膜或信息記錄層上、通過將剝離片材剝離露出的丙烯酸系粘結(jié)劑層而將保護膜和信息記錄層粘合的方法(特開2000-67468號公報)。
此外，單面雙層式的可寫入光記錄介質(zhì)一般是采用如下方法(特開2000-36135號公報)等制造的在具有凹凸圖形的基板上形成第1信息記錄層(反射膜/電介質(zhì)膜/相變膜/電介質(zhì)膜)，在該第1信息記錄層上涂敷紫外線固化性樹脂后，用壓模(stamper)在紫外線固化性樹脂層上復(fù)制凹凸圖形，進而在紫外線固化性樹脂層上形成第2信息記錄層(反射膜(半透明膜)/電介質(zhì)膜/相變膜/電介質(zhì)膜)，通過粘結(jié)層(與單面一層式同樣)，在第2信息記錄層上粘結(jié)保護膜。
可是，在現(xiàn)有的可寫入光記錄介質(zhì)中，如果重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)，則有不能正確地再現(xiàn)記錄信息的問題。特別是在保護膜的粘結(jié)中使用丙烯酸系粘結(jié)劑時，這種問題特別顯著。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的問題而完成的，其目的在于，提供一種可寫入光記錄介質(zhì)和可以制造這種光記錄介質(zhì)的光記錄介質(zhì)制造用片材，即使在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，也可以正確地再現(xiàn)記錄信息。
為了實現(xiàn)上述目的，首先，本發(fā)明提供一種光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，作為與可寫入光記錄介質(zhì)中的信息記錄層相鄰的層，包括固化后的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下的固化性層(發(fā)明1)。
在使用這樣的本發(fā)明的光記錄介質(zhì)制造用片材制造的可寫入光記錄介質(zhì)中，即使在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，也可以正確地再現(xiàn)記錄信息。其理由如下。
即，隨著光記錄介質(zhì)的記錄密度升高，照射到信息記錄層的激光束的照射點尺寸變小，其中心部分的照射功率密度變大。其結(jié)果，產(chǎn)生溫度上升到必要以上或在降溫時需要時間等的現(xiàn)象，因這樣的現(xiàn)象造成的熱，使信息記錄層或位于信息記錄層附近的基板和粘結(jié)劑劣化，產(chǎn)生記錄信息的再現(xiàn)不良。但是，在使用本發(fā)明的光記錄介質(zhì)制造用片材的情況下，可抑制激光束的照射點附近的蓄熱，抑制上述熱造成的劣化。此外，用Gb-Sb-Te為代表的相變材料，可以抑制減小形成標記時的熔融區(qū)域，可降低交叉擦除。再有，上述熱造成的劣化狀態(tài)可以作為抖動值的變化來捕獲。
在上述發(fā)明(發(fā)明1)中，優(yōu)選所述固化性層的固化后的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上(發(fā)明2)。通過這樣規(guī)定固化性層的導(dǎo)熱系數(shù)，上述本發(fā)明的熱劣化抑制效果更好。
在上述發(fā)明(發(fā)明1、2)中，優(yōu)選所述信息記錄層是無機系材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體(發(fā)明3)，特別優(yōu)選所述信息記錄層是反射膜、電介質(zhì)膜、相變膜和電介質(zhì)膜的層合體(發(fā)明4)。在信息記錄層由這樣的材料構(gòu)成的情況下，更容易獲得上述本發(fā)明的熱劣化抑制效果。
再有，本說明書中的“反射膜”是反射全部激光或部分激光的膜，也包含半透明膜。
上述發(fā)明(發(fā)明1～4)的光記錄介質(zhì)制造用片材可以是將所述固化性層層合在保護層上形成的(發(fā)明5)。此外，上述發(fā)明(發(fā)明1～5)的光記錄介質(zhì)制造用片材的固化性層可以是壓模接收層(發(fā)明6)。
在上述發(fā)明(發(fā)明1～6)中，優(yōu)選所述固化性層的固化前的儲能彈性模量為103～106Pa，固化后的儲能彈性模量在106Pa以上(發(fā)明7)。
在上述發(fā)明(發(fā)明1～7)中，優(yōu)選所述固化性層以能量線固化性的材料作為主要成分(發(fā)明8)。優(yōu)選這種能量線固化性的材料是側(cè)鏈中有能量線固化性基的丙烯酸酯共聚物(發(fā)明9)，優(yōu)選能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率為0.1～20mol％(發(fā)明10)。這種情況下，優(yōu)選所述能量線固化性基是不飽和基，并且所述丙烯酸酯共聚物的重均分子量在100000以上(發(fā)明11)。
在上述發(fā)明(發(fā)明8)中，優(yōu)選所述能量線固化性的材料是側(cè)鏈中有能量線固化性基的丙烯酸酯共聚物與、能量線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物(發(fā)明12)。
第二，本發(fā)明提供一種可寫入光記錄介質(zhì)，其使用所述光記錄介質(zhì)制造用片材(發(fā)明1～12)來制造(發(fā)明13)。
第三，本發(fā)明提供一種可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，它包括信息記錄層；以及作為相鄰于所述信息記錄層的層的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下的層(發(fā)明14)。
在上述發(fā)明(發(fā)明14)中，優(yōu)選相鄰于所述信息記錄層的層的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上(發(fā)明15)。
在上述發(fā)明(發(fā)明14、15)中，所述可寫入光記錄介質(zhì)可以具有保護層，相鄰于所述信息記錄層的層是粘結(jié)所述信息記錄層和所述保護層的粘結(jié)層(發(fā)明16)，相鄰于所述信息記錄層的層可以是壓模接收層，在所述壓模接收層的至少單側(cè)上層合所述信息記錄層(發(fā)明17)。
在上述發(fā)明(發(fā)明14～17)中，優(yōu)選所述信息記錄層是無機系材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體(發(fā)明18)，特別優(yōu)選是反射膜、電介質(zhì)膜、相變膜和電介質(zhì)膜的層合體(發(fā)明19)。


圖1是本發(fā)明第1實施方式的光盤制造用片材的剖面圖。
圖2是表示使用了同一實施方式的光盤制造用片材的可寫入的光盤制造方法的一例的剖面圖。
圖3是本發(fā)明第2實施方式的光盤制造用片材的剖面圖。
圖4是表示使用了同一實施方式的光盤制造用片材的可寫入的光盤制造方法的一例的剖面圖。
圖5是本發(fā)明第3實施方式的光盤制造用片材的剖面圖。
圖6是表示使用了同一實施方式的光盤制造用片材的可寫入的光盤制造方法的一例的剖面圖。
具體實施例方式
以下，說明本發(fā)明的實施方式。
在第1實施方式中，說明用于形成作為可寫入光記錄介質(zhì)的光盤的保護片材的光盤制造用片材。圖1是本發(fā)明第1實施方式的光盤制造用片材的剖面圖，圖2(a)～圖2(d)是表示使用了該實施方式的光盤制造用片材的光盤制造方法的一例的剖面圖。
如圖1所示，第1實施方式的光盤制造用片材1由粘結(jié)劑層(固化性層)11、在粘結(jié)劑層11的一個面(圖1中的上面)上層合的保護片材(保護層)12、以及在粘結(jié)劑層11的另一面(圖1中下面)上層合的剝離片材13構(gòu)成。再有，保護片材12是光盤的保護層，剝離片材13在光盤制造用片材1的使用時被剝離。
粘結(jié)劑層11是用于粘結(jié)光盤基板2上形成的信息記錄層3(參照圖2)和保護片材12的，由固化后的80℃下的比熱容量為1.9J/g·℃以下的固化性粘結(jié)劑構(gòu)成。通過使粘結(jié)在信息記錄層3上的粘結(jié)劑層11具有這樣的比熱容量，可以抑制獲得的光盤D1的激光的熱產(chǎn)生的劣化，可以大幅度地提高重復(fù)特性(在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，可以正確地再現(xiàn)記錄信息的特性)。
優(yōu)選上述粘結(jié)劑層11固化后在80℃的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上。通過使粘結(jié)劑層11具有這樣的導(dǎo)熱系數(shù)，可以提高粘結(jié)劑層11的熱劣化抑制效果，使重復(fù)特性更良好。
優(yōu)選上述固化性的粘結(jié)劑在固化前顯示壓敏粘結(jié)性(粘結(jié)性)，而固化后顯示堅固的粘結(jié)性。具體地說，優(yōu)選粘結(jié)劑層11的固化前的儲能彈性模量為103～106Pa，特別優(yōu)選是104～5×105Pa，固化后的儲能彈性模量在106Pa以上，特別優(yōu)選是107～1010Pa。
再有，將固化前的儲能彈性模量的測定溫度設(shè)為與疊合(進行壓粘)光盤制造用片材1和光盤基板2的作業(yè)環(huán)境相同的溫度。一般地，光盤制造用片材1和光盤基板2在室溫下被疊合，所以在室溫下測定儲能彈性模量。另一方面，將固化后的儲能彈性模量的測定溫度設(shè)為與獲得的光盤的保管環(huán)境相同的溫度，即室溫。
如果粘結(jié)劑層11的固化前的儲能彈性模量在上述范圍內(nèi)，則通過將光盤制造用片材1壓粘在光盤基板2上，可以容易地粘結(jié)保護片材12和信息記錄層3。此外，如果粘結(jié)劑層11的固化后的儲能彈性模量在上述范圍內(nèi)，則可以可靠地粘結(jié)固定保護片材12和光盤基板2，維持獲得的光盤D1的強度和耐久性等的可靠性。
優(yōu)選粘結(jié)劑層11是以具有能量線固化性的聚合物成分為主要成分的粘結(jié)劑層，除此以外，也可以是以沒有能量線固化性的聚合物成分和能量線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物為主要成分的粘結(jié)劑層。
以下說明粘結(jié)劑層11以具有能量線固化性的聚合物成分為主要成分的情況。
優(yōu)選構(gòu)成粘結(jié)劑層11的具有能量線固化性的聚合物成分是在側(cè)鏈上具有能量線固化性基的丙烯酸酯共聚物。此外，優(yōu)選這種丙烯酸酯共聚物是將具有含有官能團的單體單元的丙烯酸系共聚物(a1)以及具有結(jié)合該官能團的取代基的含有不飽和基的化合物(a2)進行反應(yīng)獲得的、在側(cè)鏈上具有能量線固化性基的分子量100000以上的能量線固化性共聚物(A)。
這里，優(yōu)選能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率為0.1～20mol％，更好是5～15mol％。如果能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率低于0.1mol％，則不能獲得優(yōu)選的能量線固化性，而如果能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率超過20mol％，則隨著粘結(jié)劑層11的固化，有時由于體積收縮而在光盤上產(chǎn)生彎曲。
再有，能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率按照下式計算。
能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率＝(能量線固化性基的摩爾數(shù)/構(gòu)成丙烯酸系共聚體的單體的總摩爾數(shù))×100丙烯酸系共聚物(a1)由從含有官能團的單體衍生的構(gòu)成單元以及從(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物衍生的構(gòu)成單元構(gòu)成。這里，本說明書中的(甲基)丙烯酸酯單體是指丙烯酸酯單體和/或甲基丙烯酸酯單體。
丙烯酸系共聚物(a1)具有的含有官能團的單體是分子內(nèi)具有重合性的雙鍵和羥基、羧基、氨基、取代氨基、環(huán)氧基等的官能團的單體，優(yōu)選使用含有羥基的不飽和化合物、含有羧基的不飽和化合物。
作為含有這樣的官能團的單體的更具體例子，可列舉丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯等的含有羥基的(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸等的含有羧基的化合物，它們可單獨或兩種以上組合使用。
作為這種含有官能團的單體，優(yōu)選選擇在能量線固化型共聚物中存在羧基的單體。如果在能量線固化型共聚物中存在羧基，則粘結(jié)劑層11和信息記錄層的粘結(jié)力高，獲得的光盤D1的強度、耐久性提高。
能量線固化型共聚物中存在的羧基的量按單體換算，優(yōu)選為0.01～30mol％，更優(yōu)選是0.5～20mol％。再有，在羧基和后述的含有不飽和基的化合物(a2)產(chǎn)生反應(yīng)的情況下(含有官能團的單體為含有羧基的單體的情況)，根據(jù)(含有羧基的單體的摩爾數(shù))-(含有不飽和基的化合物的摩爾數(shù))計算出的值為羧基的含量。
作為構(gòu)成丙烯酸系共聚物(a1)的(甲基)丙烯酸酯單體，使用環(huán)烷基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、烷基的碳數(shù)為1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。在它們當(dāng)中，特別優(yōu)選使用烷基的碳數(shù)為1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸系共聚物(a1)通常含有3～100重量％、優(yōu)選5～40重量％、特別優(yōu)選10～30重量％的從上述含有官能團的單體衍生的構(gòu)成單元，通常含有0～97重量％、優(yōu)選60～95重量％、特別優(yōu)選70～90重量％的從(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物衍生的構(gòu)成單元。
丙烯酸系共聚物(a1)通過按常規(guī)方法將上述的含有官能團的單體和(甲基)丙烯酸酯單體或其衍生物進行共聚來獲得，但除了這些單體以外，也可以按少量(例如10重量％以下、更好在5重量％以下)的比例，共聚二甲基丙烯酰胺、甲酸乙烯酯、醋酸乙烯酯、苯乙烯等。
通過將上述具有含有官能團的單體單元的丙烯酸系共聚物(a1)和具有結(jié)合該官能團的取代基的含有不飽和基的化合物(a2)進行反應(yīng)，獲得能量線固化型共聚物(A)。
含有不飽和基的化合物(a2)具有的取代基，可根據(jù)丙烯酸系共聚物(a1)具有的含有官能團的單體單元的官能團的種類適當(dāng)選擇。例如，在官能團為羥基、氨基或取代氨基的情況下，作為取代基，優(yōu)選是異氰酸酯基或環(huán)氧基，在官能團為羧基的情況下，作為取代基，優(yōu)選是異氰酸酯基、吖丙啶基、環(huán)氧基或噁唑啉基，在官能團是環(huán)氧基的情況下，作為取代基，優(yōu)選是氨基、羧基或吖丙啶基。這樣的取代基在含有不飽和基的化合物(a2)的每個分子中平均包含一個。
此外，在含有不飽和基的化合物(a2)中，能量線聚合性的碳碳雙鍵在每個分子中包含1～5個，優(yōu)選1～2個。作為這樣的含有不飽和基的化合物(a2)的具體例，例如可列舉2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯、間異丙烯基-α，α-二甲基芐基異氰酸酯、甲基丙烯?；惽杷狨?、異氰酸烯丙基酯；通過二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物與(甲基)丙烯酸羥乙酯的反應(yīng)獲得的丙烯?；鶈萎惽杷狨セ衔?；通過二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物與多元醇化合物、(甲基)丙烯酸羥乙酯的反應(yīng)獲得的丙烯?；鶈萎惽杷狨セ衔?；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸、2-(1-吖丙啶基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑啉等。
含有不飽和基的化合物(a2)，相對于上述丙烯酸系共聚物(a1)的含有官能團的單體100當(dāng)量，通常以10～100當(dāng)量、優(yōu)選20～95當(dāng)量、特別優(yōu)選25～90當(dāng)量的比例使用。
在丙烯酸系共聚物(a1)和含有不飽和基的化合物(a2)的反應(yīng)中，可以根據(jù)官能團和取代基的組合，適當(dāng)選擇反應(yīng)的溫度、壓力、溶劑、時間、有無催化劑、催化劑的種類。由此，丙烯酸系共聚物(a1)中的側(cè)鏈上存在的官能團和含有不飽和基的化合物(a2)中的取代基產(chǎn)生反應(yīng)，不飽和基被導(dǎo)入到丙烯酸系共聚物(a1)中的側(cè)鏈上，獲得能量線固化型共聚物(A)。這種反應(yīng)中的官能團和取代基的反應(yīng)率通常在70％以上，優(yōu)選在80％以上，未反應(yīng)的官能團也可以殘留在能量線固化型共聚物(A)中。
優(yōu)選這樣獲得的能量線固化型共聚物(A)的重均分子量在100000以上，特別優(yōu)選150000～1500000，進一步優(yōu)選200000～1000000。
這里，在使用紫外線作為能量線的情況下，通過在上述能量線固化型共聚物(A)中添加光聚合引發(fā)劑(B)，可以減少聚合固化時間和光線照射量。
作為這樣的光聚合引發(fā)劑(B)，具體地說，可列舉二苯甲酮、苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、苯偶姻苯甲酸酯、苯偶姻苯甲酸甲酯、苯偶姻二甲基酮縮醇、2，4-二乙基噻噸酮、1-羥基環(huán)己基二苯甲酮、芐基二苯基硫醚、一硫化四甲基秋蘭姆、偶氮二異丁腈、芐基、聯(lián)芐基、丁二酮、β-氯蒽醌、(2，4，6-三甲基芐基二苯基)膦氧化物、2-苯并噻唑-N，N-二乙基二硫代氨基甲酸酯、低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}等。它們可以單獨使用，也可以同時使用兩種以上。對于100重量份的能量線固化型共聚物(A)(在摻合了后述的能量線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)的情況下，能量線固化型共聚物(A)和能量線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)的總量為100重量份)，光聚合引發(fā)劑(B)的用量優(yōu)選0.1～10重量份、特別是0.5～5重量份。
在上述粘結(jié)劑層11中，在能量線固化型共聚物(A)和光聚合引發(fā)劑(B)中也可以適當(dāng)摻合其他成分。作為其他成分，例如可列舉沒有能量線固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)、能量線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)、交聯(lián)劑(E)、其他添加劑(F)。
作為沒有能量線固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)，例如可列舉聚丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚碳酸酯、聚烯烴等，優(yōu)選重均分子量為3000～250萬的聚合物或低聚物。
作為能量線固化性的多官能單體或低聚物成分(D)，例如可列舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯低聚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯低聚(甲基)丙烯酸酯等。
作為交聯(lián)劑(E)，可以使用與能量線固化型共聚物(A)等具有的官能團有反應(yīng)性的多官能性化合物。作為這樣的多官能性化合物的例子，可以列舉異氰酸酯化合物、環(huán)氧化合物、胺化合物、三聚氰胺化合物、氮雜環(huán)丙烷化合物、肼化合物、醛化合物、噁唑啉化合物、金屬烷氧基化合物、金屬螯合化合物、金屬鹽、銨鹽、反應(yīng)性酚醛樹脂等。
作為其他添加劑(F)，例如可列舉紫外線吸收劑、防氧化劑、增粘劑、染料、偶合劑等。
通過將這些其他成分(C)～(F)摻合在粘結(jié)劑層11中，可改善固化前的粘結(jié)性和剝離性、固化后的強度、與其他層的粘結(jié)性、保存穩(wěn)定性等。這些其他成分的摻合量沒有特別限定，相對于100重量份的能量線固化型共聚物(A)，在0～150重量份的范圍內(nèi)適當(dāng)確定。
以下，說明粘結(jié)劑層11以沒有能量線固化性的聚合物成分和能量線固化性的多官能單體或低聚物的混合物作為主要成分的情況。
作為用于這樣的粘結(jié)劑層11的聚合物成分，例如可以使用與上述的丙烯酸系共聚物(a1)同樣的成分。這種丙烯酸系共聚物(a1)中，如果選擇具有羧基作為官能團的丙烯酸系共聚物，粘結(jié)劑層11和信息記錄層3的粘結(jié)力大，是優(yōu)選的。
此外，作為能量線固化性的多官能單體或低聚物，選擇與上述成分(D)相同的成分。聚合物成分和能量線固化性的多官能單體或低聚物的摻合比，相對于100重量份的聚合物成分，優(yōu)選多官能單體或低聚物為10～150重量份，特別優(yōu)選是25～100重量份。
在本粘結(jié)劑層11中，也可以摻合上述的其他添加劑(F)。作為上述其他添加劑(F)的摻合量，例如，相對于100重量份的能量線固化型聚合物(A)，優(yōu)選其他添加劑(F)的總量為0～50重量份，更好是0～20重量份。
這里，粘結(jié)劑層11的厚度根據(jù)光盤基板2上形成的凹凸圖形(島和溝槽)的深度來確定，但通常為1～100μm左右，更好為5～30μm左右。
本實施方式的保護片材12用于保護光盤D1的信息記錄層3，構(gòu)成光盤D1的光接收面。
作為保護片材12的材料，只要基本上是對于用于信息讀取的光的波長區(qū)域具有充分的透光性的材料就可以，但為了容易地制造光盤D1，優(yōu)選是剛性或柔軟性適度的材料，此外，為了保管光盤D1，優(yōu)選相對于溫度是穩(wěn)定的材料。作為這樣的材料，例如可以使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯等樹脂。
優(yōu)選保護片材12的線膨脹系數(shù)是高溫下不引起光盤翹曲的、與光盤基板2的線膨脹系數(shù)大致相同的系數(shù)。例如，在光盤基板2由聚碳酸酯樹脂構(gòu)成的情況下，優(yōu)選保護片材12也由相同的聚碳酸酯樹脂構(gòu)成。
保護片材12的厚度根據(jù)光盤D1的種類和光盤基板2的厚度等來確定，但通常為25～300μm左右，更好為50～200μm左右。
作為剝離片材13，可以使用以往公知的剝離片材，例如，可以使用將聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯等的樹脂膜用硅酮系剝離劑等進行剝離處理后所得的片材。
為了將平滑性賦予粘結(jié)劑層11，優(yōu)選剝離片材13的剝離處理后的一側(cè)(與粘結(jié)劑層11接觸的一側(cè))的表面粗糙度(Ra)在0.1μm以下。此外，剝離片材13的厚度通常為10～200μm左右，更好為20～100μm左右。
本實施方式的光盤制造用片材1如下獲得調(diào)制含有構(gòu)成粘結(jié)劑層11的材料和根據(jù)需要含有的溶劑的涂敷劑，通過輕觸輥涂機、逆向輥涂機、刮涂機、滾輪刮刀涂敷機(roll knife coater)、模涂機(die coater)等的涂敷機將其涂敷在保護片材12上并干燥，形成粘結(jié)劑層11后，在該粘結(jié)劑層11的表面上重疊剝離片材13的剝離處理面，將兩者層合，或者將上述涂敷劑涂敷在剝離片材13的剝離處理面上并干燥，形成粘結(jié)劑層11后，在該粘結(jié)劑層11的表面上層合保護片材12。
下面，說明使用上述光盤制造用片材1的光盤D1(單面一層式)的一例制造方法。
首先，如圖2(a)所示，制造具有由溝槽和島構(gòu)成的凹凸圖形的光盤基板2。這種光盤基板2通常由聚碳酸酯構(gòu)成，可通過注射成形等成形法進行成形。
在上述光盤基板2的凹凸圖形上，如圖2(b)所示，形成信息記錄層3。這種信息記錄層3通常由無機材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體構(gòu)成，特別是大多按從下向上的順序由反射膜31、電介質(zhì)膜32、相變膜33和電介質(zhì)膜32’構(gòu)成的層合體構(gòu)成。這些膜可通過濺射等方式來形成。
作為反射膜31的材料，例如可以使用Al、Ag、Au、Cu、Ta、W等金屬或它們的合金，例如添加了Cr、Pt、Nd等的Al-Cr、Ag-Pt-Cu、Ag-Nd等。反射膜31的厚度通常為3～200nm左右。
作為電介質(zhì)膜32和電介質(zhì)膜32’的材料，例如可使用SiO2、ZnS-SiO2、Si-SiO2、TiO2、ZnO、MgO等構(gòu)成的單一材料或?qū)⑵浣M合得到的材料。電介質(zhì)膜32和電介質(zhì)膜32’的厚度通常為20～200nm左右。
作為相變膜33的材料，例如可使用Ge-Te系、Ge-Te-Sb系、Ge-Sn-Te系等的硫?qū)僭叵岛辖鸨∧?、Sb-Te共晶系薄膜等。相變膜33的厚度通常為5～20nm左右。
信息記錄層3也可以是從下向上由反射膜和染料膜構(gòu)成的層合體。作為染料膜的染料，例如可列舉聚甲炔系染料、蒽醌系染料、花青染料、酞菁系染料等。染料膜通過旋轉(zhuǎn)涂敷法等來形成，厚度通常為20～2000nm左右。
在本實施方式中，特別是在信息記錄層3包含上述相變膜的情況下，容易獲得粘結(jié)劑層11產(chǎn)生的光盤熱劣化抑制效果。
接著，如圖2(c)所示，剝離除去光盤制造用片材1的剝離片材13，露出粘結(jié)劑層(固化性層)11，如圖2(d)所示，將粘結(jié)劑層11壓粘在光盤基板2上的信息記錄層3表面上。
在這種狀態(tài)下，使用能量線照射裝置，從保護片材(保護層)12側(cè)或光盤基板2側(cè)對粘結(jié)劑層11照射能量線，使粘結(jié)劑層11固化。
作為能量線，通常使用紫外線、電子線等。能量線的照射量因能量線的種類而異，例如在紫外線的情況下，優(yōu)選光量為100～500mJ/cm2左右，在電子線的情況下，優(yōu)選在10～1000krad左右。
在這樣獲得的光盤D1中，由于鄰接信息記錄層3的粘結(jié)劑層11的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下，所以光盤D1的熱造成的劣化被抑制，與以往的追記型或重寫型光盤比較，重復(fù)特性良好。
在第2實施方式中，說明包括復(fù)制壓模的凹凸圖形的壓模接收層的光盤制造用片材。圖3是本發(fā)明第2實施方式的光盤制造用片材的剖面圖，圖4(a)～圖4(g)是表示使用該實施方式的光盤制造用片材的光盤的一例制造方法的剖面圖。
如圖3所示，第2實施方式的光盤制造用片材4由壓模接收層(固化性層)41、層合在壓模接收層41兩面的剝離片材42、42’構(gòu)成。其中，剝離片材42、42’在光盤制造用片材4使用時被剝離。
壓模接收層41是復(fù)制了形成在壓模上的凹凸圖形、構(gòu)成島和溝槽的層，并且是形成或粘結(jié)了信息記錄層3A、3B的層。該壓模接收層41由固化后的80℃下的比熱容量為1.9J/g·℃以下的固化性材料(高分子材料)構(gòu)成。通過使鄰接信息記錄層3A、3B的壓模接收層41具有這樣的比熱容量，可以抑制獲得的光盤D2的激光的熱造成的惡化，可以大幅度地提高重復(fù)特性。
優(yōu)選上述壓模接收層41固化后的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上。通過使壓模接收層41具有這樣的導(dǎo)熱系數(shù)，可以進一步提高上述重復(fù)特性。
作為構(gòu)成壓模接收層41的固化性的高分子材料，可以使用與構(gòu)成上述第1實施方式的光盤制造用片材1的粘結(jié)劑層11的粘結(jié)劑相同的粘結(jié)劑，而壓模接收層41需要維持已復(fù)制的凹凸圖形的形狀，所以優(yōu)選固化后的儲能彈性模量在108Pa以上，更好為108～1011Pa。此外，在形成信息記錄層3B時壓模接收層41的表面溫度上升，所以優(yōu)選玻璃轉(zhuǎn)變溫度在80℃以上。
壓模接收層41的厚度根據(jù)要形成的凹凸圖形(島和溝槽)的深度來確定，但通常為5～100μm左右，更好為5～60μm左右。
作為剝離片材42、42’，可以使用與上述第1實施方式的光盤制造用片材1的剝離片材13相同的剝離片材，但在剝離片材42、42’中，優(yōu)選先剝離的一方為輕剝離類型的剝離片材，后剝離的一方為重剝離類型的剝離片材。
本實施方式的光盤制造用片材4如下獲得調(diào)制含有構(gòu)成壓模接收層41的材料和根據(jù)需要使用的溶劑的涂敷劑，通過輕觸輥涂機、逆向輥涂機、刮涂機、滾輪刮刀涂敷機、模涂機等的涂敷機，將其涂敷在剝離片材42的剝離處理面上并進行干燥，形成壓模接收層41后，在該壓模接收層41的表面上重疊另一片剝離片材42’的剝離處理面，并將兩者層合。
下面，說明使用上述光盤制造用片材4和第1實施方式的光盤制造用片材1的光盤D2(單面雙層式)的一例制造方法。
首先，如圖4(a)～圖4(b)所示，制造具有由溝槽和島構(gòu)成的凹凸圖形的光盤基板2，在該光盤基板2的凹凸圖形上形成第1信息記錄層3A。至此，可與上述第1實施方式的光盤D1的制造方法同樣地進行。
接著，如圖4(c)所示，將光盤制造用片材4的剝離片材42’剝離除去，露出壓模接收層41，如圖4(d)所示，將壓模接收層(固化性層)41壓粘在光盤基板2上的信息記錄層3A表面上。然后，如圖4(d)所示，將層合在壓模接收層41上的剝離片材42剝離除去，露出壓模接收層41。
接著，如圖4(e)所示，將壓模S壓粘在露出的壓模接收層41的表面上，將壓模S的凹凸圖形復(fù)制在壓模接收層41上。在這種狀態(tài)下，使用能量線照射裝置，從壓模S側(cè)或光盤基板2側(cè)對壓模接收層41照射能量線，使壓模接收層41固化。
壓模S由鎳合金等的金屬材料或降冰片烯樹脂等的透明樹脂材料構(gòu)成。再有，圖4(e)所示的壓模S的形狀為板狀，但不限于此，也可以是滾筒狀。
在壓模接收層41固化后，將壓模S與壓模接收層41分離。這樣，在將壓模S的凹凸圖形復(fù)制、固定在壓模接收層41上，形成島和溝槽后，接著，如圖4(f)所示，在壓模接收層41的凹凸圖形上，形成第2信息記錄層3B。該第2信息記錄層3B通常由無機材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體構(gòu)成，特別是大多以從下到上的順序由反射膜(半透明膜)34、電介質(zhì)膜32、相變膜33和電介質(zhì)膜32’構(gòu)成的層合體構(gòu)成。此外，有時還在反射膜(半透明膜)34的下側(cè)形成電介質(zhì)膜。這些膜可以通過濺射等方式形成。
作為反射膜(半透明膜)34的材料，例如可使用Al、Ag、Au、Cu、Ta、W等金屬或其合金，例如添加了Cr、Pt、Nd等的Al-Cr、Ag-Pt-Cu、Ag-Nd等。反射膜(半透明膜)34的厚度通常為3～20nm左右。反射膜(半透明膜)34以外的膜的材料與構(gòu)成第1信息記錄層3A、即上述第1實施方式中的光盤D1的信息記錄層3的膜的材料相同。
在本實施方式中，特別是在信息記錄層3A、3B由上述材料構(gòu)成的情況下，容易獲得利用壓模接收層41和粘結(jié)劑層11的光盤的熱劣化抑制效果。
最后，如圖4(g)所示，將上述第1實施方式的光盤制造用片材1的剝離片材13剝離除去，露出粘結(jié)劑層11，將該粘結(jié)劑層11壓粘在信息記錄層3B表面上。
在這種狀態(tài)下，使用能量線照射裝置，從保護片材12側(cè)或光盤基板2側(cè)對粘結(jié)劑層11照射能量線，使粘結(jié)劑層11固化。
在這樣獲得的光盤D2中，鄰接信息記錄層3A、3B的壓模接收層41和粘結(jié)在信息記錄層3B上的粘結(jié)劑層11的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下，所以光盤D2的激光的熱造成的惡化被抑制，與以往的追記型或重寫型光盤比較，重復(fù)特性優(yōu)良。
在第3實施方式中，作為用于形成可寫入光盤中的保護片材的光盤制造用片材，說明包括復(fù)制了壓模的凹凸圖形的壓模接收層的光盤制造用片材和將兩層信息記錄層相互粘結(jié)的光盤制造用片材。圖5(a)、圖5(b)是本發(fā)明第3實施方式的光盤制造用片材的剖面圖，圖6(a)～圖6(e)是表示使用了該實施方式的光盤制造用片材的一例光盤制造方法的剖面圖。
如圖5(a)所示，本實施方式的第1光盤制造用片材5由壓模接收層(固化性層)51、層合在壓模接收層51的一個面(圖5中上面)上的保護片材(保護層)52、以及層合在壓模接收層51的另一面(圖5中下面)上的剝離片材53構(gòu)成。其中，剝離片材53在光盤制造用片材5使用時被剝離。
作為壓模接收層51，可以使用與上述第2實施方式的光盤制造用片材4的壓模接收層41同樣的壓模接收層。而作為保護片材52和剝離片材53，可以使用與上述第1實施方式的光盤制造用片材1的保護片材12和剝離片材13同樣的保護片材和剝離片材。
這樣的光盤制造用片材5可以按照與上述第1實施方式的光盤制造用片材1同樣的方法來制造。
另一方面，如圖5(b)所示，本實施方式的第2光盤制造用片材6由粘結(jié)劑層61、層合在粘結(jié)劑層61兩面上的剝離片材62、62’構(gòu)成。其中，剝離片材62、62’在光盤制造用片材6使用時被剝離。
作為粘結(jié)劑層61，可以使用與上述實施方式1的光盤制造用片材1的粘結(jié)劑層11同樣的粘結(jié)劑層。而作為剝離片材62、62’，可以使用與上述第2實施方式的光盤制造用片材4的剝離片材42、42’同樣的剝離片材。
這樣的光盤制造用片材6可按照與上述第2實施方式的光盤制造用片材4同樣的方法來制造。
下面，說明使用上述第1光盤制造用片材5和第2光盤制造用片材6的光盤D3(單面雙層式)的一例制造方法。
首先，如圖6(a)～圖6(b)所示，將第1光盤制造用片材5的剝離片材53剝離除去，將露出的壓模接收層(固化性層)51壓粘在壓模S上，將壓模S的凹凸圖形復(fù)制在壓模接收層51上。在這種狀態(tài)下，使用能量線照射裝置，從壓模S側(cè)或保護片材52側(cè)對壓模接收層51照射能量線，使壓模接收層51固化。
在壓模接收層51固化后，將壓模S與壓模接收層51分離。這樣，將壓模S的凹凸圖形復(fù)制、固定在壓模接收層51上，形成島和溝槽后，接著，如圖6(c)所示，在壓模接收層51的凹凸圖形上，形成第2信息記錄層3B。該第2信息記錄層3B通常由無機材料構(gòu)成的膜或由該膜的層合體構(gòu)成，特別是大多以圖6中從上到下的順序由電介質(zhì)膜32’、相變膜33、電介質(zhì)膜32和反射膜(半透明膜)34構(gòu)成的層合體構(gòu)成。此外，有時還在反射膜(半透明膜)34的上側(cè)形成電介質(zhì)膜。這些膜可以通過濺射等方式形成。各膜的材料與構(gòu)成上述第2實施方式中的光盤D2的信息記錄層3B的膜的材料相同。
另一方面，如圖6(d)所示，使用第2光盤制造用片材6，與第2實施方式同樣，制作由光盤基板2、信息記錄層3A、粘結(jié)劑層(固化性層)61、剝離片材62構(gòu)成的層合體(參照圖4(a)～圖4(d))。
如圖6(e)所示，將剝離片材62從上述層合體中剝離，露出粘結(jié)劑層61后，將兩層合體壓粘，以使該粘結(jié)劑層61和形成了上述第2信息記錄層3B的層合體(保護片材52+壓模接收層51+信息記錄層3B)的第2信息記錄層3B重疊。
然后，使用能量線照射裝置，從保護片材52側(cè)或光盤基板2側(cè)對粘結(jié)劑層61照射能量線，使粘結(jié)劑層61固化。
在這樣獲得的光盤D3中，粘結(jié)在信息記錄層3A、3B上的粘結(jié)劑層61和鄰接信息記錄層3B的壓模接收層51的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下，所以光盤D3的激光的熱產(chǎn)生的劣化被抑制，與以往的追記型或重寫型光盤比較，重復(fù)特性優(yōu)良。
上述光盤的制造方法僅是一例，本實施方式的利用光盤制造用片材的光盤制造方法不限于這些制造方法。
以上說明的實施方式是為了容易理解本發(fā)明，而不是用于限定本發(fā)明。因此，上述實施方式中公開的各要素還包含屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍的所有設(shè)計變更或等價物。
例如，第2實施方式的光盤制造用片材D2的粘結(jié)劑層11也可以由公知的粘結(jié)劑構(gòu)成，而實施例3的光盤制造用片材D3的壓模接收層51也可以由公知的固化性材料構(gòu)成。
此外，也可省略光盤制造用片材1、4、5、6中的剝離片材13、42、42’、53、62、62’。
以下，通過實施例更具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明的范圍不限于這些實施例。
使80重量份的丙烯酸正丁酯和20重量份的丙烯酸在醋酸乙酯/丁酮混合溶劑(重量比50∶50)中反應(yīng)，得到丙烯酸系共聚物溶液(固含量為35重量％)。
在上述丙烯酸系共聚物溶液中，添加2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯，以使其相對于共聚物中100當(dāng)量的丙烯酸達到30當(dāng)量，在氮氣氛中40℃下反應(yīng)48小時，獲得作為能量線固化性基的甲基丙烯?；钠骄鶄?cè)鏈導(dǎo)入率為9.2mol％、重均分子量(Mw)為約85萬的能量線固化型共聚物。
相時于得到的能量線固化型共聚物溶液的固態(tài)成分100重量份，添加作為光聚合引發(fā)劑的3.0重量份的低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}(lamberti spa社制，ESACUER KIP150)、以及作為交聯(lián)劑的0.4重量份的金屬螫合化合物(Kawaken Fine Chemicals Co.，Ltd制，ARUMIKIRETOD)，將固含量調(diào)整為約25重量％，形成粘結(jié)劑層用涂敷劑。
在用硅酮樹脂剝離處理了聚對苯二甲酸乙二酯膜的單面的剝離片材(LINTEC Corp.制，SP-PET3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剝離處理面上，通過刮刀涂敷機涂敷得到的粘結(jié)劑層用涂敷劑，并在90℃下干燥1分鐘，以使其干燥膜厚為22μm，形成粘結(jié)劑層。
將該粘結(jié)劑層和作為保護片材的聚碳酸酯膜(帝人社制，Pure-AceC110-78，厚度78μm)貼合，將其作為光盤制造用片材A。
相對于與實施例1同樣得到的能量線固化型共聚物溶液的固態(tài)成分100重量份，添加作為光聚合引發(fā)劑的4.0重量份的低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}(lamberti spa社制，ESACUER KIP150)、能量線固化性多官能單體和能量線固化性多官能低聚物構(gòu)成的組合物100重量份(大日精化社制，Seika-Beam14-29B)、以及多異氰酸酯構(gòu)成的交聯(lián)劑1.2重量份(Toyo InkManufacturing Co.，Ltd.制，Oribain BPS-8515)，將固含量調(diào)整為約40重量％，形成壓模接收層用涂敷劑。
另一方面，準備將聚對苯二甲酸乙二酯膜的單面用重剝離型的硅酮樹脂進行了剝離處理的重剝離型剝離片材(LINTEC Corp.制，SP-PET3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)、將聚對苯二甲酸乙二酯膜的單面用輕剝離型的硅酮樹脂進行了剝離處理的輕剝離型剝離片材(LINTEC Corp.制，SP-PET38GS，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)。
在上述重剝離型剝離片材的剝離處理面上，通過刮刀涂敷機涂敷上述壓模接收層用涂敷劑，并在90℃下干燥1分鐘，以使其干燥膜厚為22μm，形成粘結(jié)劑層。在該壓模接收層的表面上層合上述輕剝離型剝離片材，將其作為光盤制造用片材B。
相對于與實施例1同樣得到的能量線固化型共聚物溶液的固態(tài)成分100重量份，添加作為光聚合引發(fā)劑的5.0重量份的1-羥基環(huán)己基二苯甲酮(CibaSpecialty Chemicals Inc.制，Irgacure 184)、作為能量線固化性的多官能單體的100重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥社制，KAYARAD DPHA)、以及作為交聯(lián)劑的0.7重量份的金屬螯合化合物(Kawaken Fine Chemicals Co.，Ltd.制，ARUMIKIRETO D)，將固含量調(diào)整為約40重量％，形成壓模接收層用涂敷劑。
使用得到的壓模接收層用涂敷劑，按照與實施例2同樣的方法獲得光盤制造用片材C。
使75重量份的丙烯酸正丁酯、22重量份的丙烯酸乙酯、3重量份的丙烯酸、0.5重量份的丙烯酸2-羥乙酯在醋酸乙酯溶劑中反應(yīng)，獲得重均分子量(Mw)約為80萬的丙烯酸系共聚物溶液(固含量30重量％)。
相對于上述丙烯酸系共聚物溶液的固態(tài)成分100重量份，添加作為交聯(lián)劑的0.6重量份的金屬螯合化合物(Kawaken Fine Chemicals Co.，Ltd.制，ARUMIKIRETO D)，將固含量調(diào)整為約25重量％，形成粘結(jié)劑層用涂敷劑。
使用得到的粘結(jié)劑層用涂敷劑，按照與實施例1同樣的方法得到光盤制造用片材D。
相對于與實施例1同樣得到的能量線固化型共聚物溶液的固態(tài)成分100重量份，添加作為光聚合引發(fā)劑的4.0重量份的低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}(lamberti spa社制，ESACUER KIP150)、100重量份的能量線固化性二官能環(huán)氧丙烯酸酯低聚物(日本化藥社制，KAYARADUX-3204)、以及多異氰酸酯構(gòu)成的變聯(lián)劑1.2重量份(Toyo Ink ManufacturingCo.，Ltd.制，Oribain BPS-8515)，將固含量調(diào)整為約40重量％，形成壓模接收層用涂敷劑。
使用得到的壓模接收層用涂敷劑，按照與實施例2同樣的方法，獲得光盤制造用片材E。
使80重量份的丙烯酸正丁酯和20重量份的丙烯酸在醋酸乙酯/丁酮混合溶劑(重量比50∶50)中反應(yīng)，得到重均分子量約為85萬的丙烯酸系共聚物溶液(固含量為30重量％)。
相對于上述丙烯酸系共聚物溶液的100重量份的固態(tài)成分，添加作為光聚合引發(fā)劑的5.0重量份的1-羥基環(huán)己基二苯甲酮(Ciba Specialty Chemicals Inc.制，Irgacure 184)、作為能量線固化性的多官能單體的100重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥社制，KAYARAD DPHA)、以及作為交聯(lián)劑的0.7重量份的金屬螯合化合物(Kawaken Fine Chemicals Co.，Ltd.制，ARUMIKIRETO D)，將固含量調(diào)整為約40重量％，形成壓模接收層用涂敷劑。
使用得到的壓模接收層用涂敷劑，按照與實施例2同樣的方法獲得光盤制造用片材F。
使用粘彈性測定裝置(Rheometrics社制，裝置名稱DYNAMICANALYZER RAD II)測定實施例1～3和比較例1～3中制造的光盤制造用片材A～F的粘結(jié)劑層或壓模接收層的固化前的儲能彈性模量在1Hz、25℃的值。其結(jié)果示于表1。
此外，對于上述粘結(jié)劑層或壓模接收層照射紫外線(使用LINTEC株式會社制、裝置名稱Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度310mW/cm2，光量300mJ/cm2)，使用粘彈性測定裝置(Orientech株式會社制，裝置名稱Rheovibron DDV-II-EP)測定固化后的粘結(jié)劑層或壓模接收層的儲能彈性模量在3.5Hz、25℃的值。其結(jié)果示于表1。
而且，根據(jù)JIS K7123，使用差示掃描熱量計(DSCPerkin-Elmer社制，Pyrisl)，按升溫速度20℃/min來測定各光盤制造用片材A～F中固化的粘結(jié)劑層或壓模接收層的比熱容量。其結(jié)果示于表1。
使用由實施例1～3和比較例1～3獲得的粘結(jié)劑層用涂敷劑或壓模接收層用涂敷劑，通過與實施例2同樣的方法，在兩張剝離片材間形成厚度20μm的固化性層。對于得到的層合體，與試驗例1同樣照射紫外線，在使固化性層固化后，將層合體切成50mm×50mm的尺寸，將其作為試樣。
分別測定上述試樣和剝離片材的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)，根據(jù)這些導(dǎo)熱系數(shù)的值，計算固化性層的固化后的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)。導(dǎo)熱系數(shù)的測定方法是將各試樣或剝離片材五張進行層合，使用導(dǎo)熱系數(shù)測定裝置(AGUNE制，ARC-TC-1型)，按照溫度傾斜法來進行。再有，在層合的各試樣或各剝離片材之間，為了排除空氣的影響，涂敷高導(dǎo)熱性潤滑脂。結(jié)果示于表1。
將在單面?zhèn)刃纬砷g距0.32μm的導(dǎo)向溝、厚度1.1mm、外徑120mm、內(nèi)徑15mm的聚碳酸酯制的光盤基板通過注射成形進行成形。在該光盤基板的形成了導(dǎo)向溝的一側(cè)的面上，通過濺射裝置依次形成Ag和Au的合金構(gòu)成的反射膜、Zn-SiO2構(gòu)成的電介質(zhì)膜、Ge-Sb-Te(2∶2∶5)構(gòu)成的相變膜和Zn-SiO2構(gòu)成的電介質(zhì)膜，獲得信息記錄層。
在將實施例1中制造的光盤制造用片材A通過預(yù)先沖切加工切割成與上述光盤基板同樣的形狀后，將剝離片材剝離，將露出的粘結(jié)劑層與上述光盤基板上的信息記錄層(電介質(zhì)膜)進行層合，以29N的壓力壓粘。
接著，從保護片材側(cè)照射紫外線(使用LINTEC株式會社制、裝置名稱Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度310mW/cm2，光量300mJ/cm2)，使粘結(jié)劑層固化而得到重寫型光盤A。
與制造例1同樣，形成光盤基板并形成信息記錄層。
在將實施例2中制造的光盤制造用片材B通過預(yù)先沖切加工切割成與上述光盤基板同樣的形狀后，將輕剝離型剝離片材剝離，將露出的壓模接收層與上述光盤基板上的信息記錄層(電介質(zhì)膜)進行層合，以29N的壓力壓粘。
接著，將重剝離型剝離片材與壓模接收層剝離，將樹脂(日本ゼオン社制，ゼオノア)制的壓模放在露出的壓模接收層上，，在29N的壓力下壓粘，將壓模的凹凸圖形復(fù)制在壓模接收層上。接著，從光盤基板側(cè)照射紫外線(使用LINTEC株式會社制、裝置名稱Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度310mW/cm2，光量300mJ/cm2)，使壓模接收層固化，固定所述凹凸圖形。
在將壓模與壓模接收層分離后，在壓模接收層的表面上，通過濺射裝置依次形成Zn-SiO2構(gòu)成的電介質(zhì)膜、Ag和Au的合金構(gòu)成的半透明膜、Zn-SiO2構(gòu)成的電介質(zhì)膜、Ge-Sb-Te(2∶2∶5)構(gòu)成的相變膜和Zn-SiO2構(gòu)成的電介質(zhì)膜，獲得半透明的信息記錄層。
另一方面，在將實施例1制造的光盤制造用片材A預(yù)先通過沖切加工切割成與上述光盤基板同樣的形狀后，將剝離片材剝離，層合在上述電介質(zhì)膜上，以29N的壓力進行壓粘。
接著，從保護片材側(cè)照射紫外線(使用LINTEC株式會社制、裝置名稱Adwill RAD-2000m/8。照射條件照度310mW/cm2，光量300mJ/cm2)，將粘結(jié)劑層固化，獲得重寫型光盤B。
除了使用實施例3制造的光盤制造用片材C來取代實施例2制造的光盤制造用片材B以外，與制造例2同樣制造重寫型光盤C。
除了使用比較例1制造的光盤制造用片材D來取代實施例1制造的光盤制造用片材A以外，與制造例1同樣制造重寫型光盤D。
除了使用比較例2制造的光盤制造用片材E來取代實施例2制造的光盤制造用片材B以外，與制造例2同樣制造重寫型光盤E。
除了使用比較例3制造的光盤制造用片材F來取代實施例2制造的光盤制造用片材B以外，與制造例2同樣制造重寫型光盤F。
對于制造例1～6獲得的重寫型光盤A～F，測定進行重寫時的抖動值。測定條件如下。
激光波長405nm物鏡數(shù)值孔徑0.85線速度5m/s調(diào)制方式(1-7)調(diào)制表1表示在上述測定條件下進行從100次到2000次重寫時的抖動上升率(ΔJ)。


從表1可知，粘結(jié)劑層或壓模接收層的固化后的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下的情況，抖動上升率小，重復(fù)記錄特性優(yōu)良。
根據(jù)本發(fā)明，即使在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，也可獲得能夠正確地再現(xiàn)記錄信息的光記錄介質(zhì)。即，本發(fā)明適用于重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的光記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，作為與可寫入光記錄介質(zhì)中的信息記錄層相鄰的層，具有固化后的80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下的固化性層。
2.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述固化性層的固化后的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上。
3.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述信息記錄層是無機材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體。
4.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述信息記錄層是反射膜、電介質(zhì)膜、相變膜和電介質(zhì)膜的層合體。
5.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述固化性層層合在保護層上。
6.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述固化性層是壓模接收層。
7.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述固化性層的固化前的儲能彈性模量為103～106Pa，固化后的儲能彈性模量在106Pa以上。
8.如權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述固化性層以能量線固化性的材料作為主要成分。
9.如權(quán)利要求8所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述能量線固化性的材料是側(cè)鏈上有能量線固化性基的丙烯酸酯共聚物。
10.如權(quán)利要求9所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述能量線固化性基的平均側(cè)鏈導(dǎo)入率為0.1～20mol％。
11.如權(quán)利要求9所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述能量線固化性基是不飽和基，并且所述丙烯酸酯共聚物的重均分子量在100000以上。
12.如權(quán)利要求8所述的光記錄介質(zhì)制造用片材，其特征在于，所述能量線固化性的材料是側(cè)鏈上有能量線固化性基的丙烯酸酯共聚物與、能量線固化性的多官能單體和/或低聚物的混合物。
13.一種可寫入光記錄介質(zhì)，其是使用權(quán)利要求1～12任一項所述的光記錄介質(zhì)制造用片材制造的。
14.一種可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，它具有信息記錄層；以及與所述信息記錄層相鄰的、80℃下的比熱容量在1.9J/g·℃以下的層。
15.如權(quán)利要求14所述的可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，與所述信息記錄層相鄰的層的80℃下的導(dǎo)熱系數(shù)在0.19W/m·K以上。
16.如權(quán)利要求14所述的可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，具有保護層，與所述信息記錄層相鄰的層是粘結(jié)所述信息記錄層和所述保護層的粘結(jié)層。
17.如權(quán)利要求14所述的可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，與所述信息記錄層相鄰的層是壓模接收層，在所述壓模接收層的至少單側(cè)上層合所述信息記錄層。
18.如權(quán)利要求14所述的可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述信息記錄層是無機材料構(gòu)成的膜或該膜的層合體。
19.如權(quán)利要求14所述的可寫入光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述信息記錄層是反射膜、電介質(zhì)膜、相變膜和電介質(zhì)膜的層合體。
全文摘要
提供一種光記錄介質(zhì)制造用片材。將固化后80℃下的比熱容量為1.9J/g·℃以下的粘結(jié)劑層(11)和包括保護片材(12)的光盤制造用片材(1)層合在光記錄介質(zhì)基板(2)上形成的信息記錄層(3)(反射膜(31)、電介質(zhì)膜(32)、相變膜(33)和電介質(zhì)膜(32′)的層合體)上。根據(jù)這樣的光記錄介質(zhì)制造用片材，即使在重復(fù)進行信息的記錄、刪除或再現(xiàn)的情況下，也可以正確地再現(xiàn)記錄信息。
文檔編號G11B7/24GK1571046SQ20041007146
公開日2005年1月26日 申請日期2004年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月18日
發(fā)明者山崎剛, 行本智美, 宮田壯, 加藤一也, 久保田新 申請人:琳得科株式會社, 索尼株式會社