專利名稱：光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請涉及光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動裝置。具體而言，涉及具有用于物鏡的驅(qū)動裝置的光學(xué)拾取器，其中可移動塊相對于固定塊在聚焦、跟蹤和傾斜三個方向上移動；還涉及具有光學(xué)拾取器的盤驅(qū)動裝置。
背景技術(shù)：
盤驅(qū)動裝置記錄和/或復(fù)制例如光盤等盤狀記錄介質(zhì)的信息信號。這種盤驅(qū)動裝置設(shè)置有光學(xué)拾取器，該光學(xué)拾取器在盤狀記錄介質(zhì)的徑向上移動，以將激光照射到上面。
光學(xué)拾取器設(shè)置有物鏡驅(qū)動裝置，且通過所述物鏡驅(qū)動裝置，由可移動塊保持的物鏡沿聚焦方向移動，或沿跟蹤方向移動，以聚集經(jīng)由物鏡照射在盤狀記錄介質(zhì)上的激光光斑聚集在其記錄道上。聚焦方向是這樣的方向，其中由物鏡驅(qū)動裝置的可移動塊保持的物鏡借助于聚焦調(diào)整沿其向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面移動，且跟蹤方向大致為盤狀記錄介質(zhì)的徑向，其中物鏡沿該方向移動以跟蹤調(diào)整。
光學(xué)拾取器的實施已經(jīng)實現(xiàn)了通過物鏡驅(qū)動裝置進(jìn)行的聚焦調(diào)整和跟蹤調(diào)整。近來，已經(jīng)開發(fā)出一種物鏡驅(qū)動裝置，也稱為三軸向致動器，除了聚焦調(diào)整和跟蹤調(diào)整的雙軸向調(diào)整，通過允許可移動塊相對于盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面傾斜，它實現(xiàn)對轉(zhuǎn)動的盤狀記錄介質(zhì)的表面平面偏差的調(diào)整，以改善激光光斑相對于記錄道的隨動特征。這樣，利用成為三軸向致動器的物鏡驅(qū)動器，可移動塊沿聚焦方向、跟蹤方向、和沿傾斜方向移動，其中該傾斜方向是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向。
至今，已經(jīng)開發(fā)出以下類型的裝置作為物鏡驅(qū)動裝置(稱為三軸向致動器)。
例如，保持物鏡的可移動塊經(jīng)由支承彈簧在固定塊上可移動地承載，用于使可移動塊相對于固定塊傾斜的傾斜線圈設(shè)置到可移動塊上，且面對傾斜線圈設(shè)置的傾斜磁體設(shè)置到固定塊上。其中傾斜線圈設(shè)置到可移動塊上的裝置類型稱為移動線圈型裝置。
利用移動的線圈型物鏡驅(qū)動裝置，需要將用于供應(yīng)驅(qū)動電流給用于聚焦調(diào)整的聚焦線圈、用于跟蹤調(diào)整的跟蹤線圈、和用于傾斜調(diào)整的傾斜線圈設(shè)置到每兩個支承彈簧上，以使可移動塊由帶有總數(shù)為六個支承彈簧的固定塊承載。
另一方面，利用類型不同于移動線圈型裝置的三軸向致動器，保持物鏡的可移動塊經(jīng)由支承彈簧由固定塊可移動地支承，同時用于使可移動塊相對于固定塊傾斜的傾斜線圈設(shè)置到固定塊上，且面向傾斜線圈設(shè)置的傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上(例如，參看專利出版物1(日本公開專利出版物2000-222755))。其中傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上的裝置類型稱為移動磁體型裝置。
利用其中傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上的移動磁體型物鏡驅(qū)動器，可移動塊的重量變得大于移動線圈型裝置的重量。然而，移動磁體型裝置不需要支承彈簧來供應(yīng)驅(qū)動電流給傾斜線圈，從而與移動線圈型裝置相比，是相當(dāng)好的，因為可減少部件部分的數(shù)量和可便于裝配操作。

發(fā)明內(nèi)容
利用在專利出版物1中描述的物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置到可移動塊上的傾斜磁體具有單個N級和單個S級，同時設(shè)置到固定塊上的傾斜線圈具有相應(yīng)于聚焦方向的繞組芯方向，從而在繞組成方形管形式的傾斜線圈的約四分之一中流動的驅(qū)動電流和磁體的磁通量之間的協(xié)作下，可移動塊沿傾斜方向移動。因此，用于傾斜調(diào)整的傾斜線圈的部分較小，從而裝置靈敏度降低。
為了防止靈敏度降低，有必要使用具有高磁力的磁體，或供應(yīng)大的驅(qū)動電流給傾斜線圈。然而，這增加了物鏡驅(qū)動裝置的制造成本或功耗。
此外，應(yīng)將傾斜線圈設(shè)置為使得繞組芯圈方向相應(yīng)于聚焦方向，其中相應(yīng)地增加沿切線方向安裝傾斜線圈的空間，且以阻止尺寸減少的方式，物鏡驅(qū)動裝置沿切線方向的尺寸增加。此外，可移動件的支承狀態(tài)往往不穩(wěn)定。
利用物鏡驅(qū)動裝置，從光源發(fā)射的激光經(jīng)由設(shè)置在之間有可移動塊的盤狀記錄介質(zhì)的相對側(cè)上的提升(uplift)鏡傳導(dǎo)到物鏡。在這種情形下，如果有例如線圈或磁體等此行電路圍繞物鏡設(shè)置，則從光源發(fā)射一邊入射在提升鏡上的激光的光學(xué)路徑需要設(shè)置在磁路下面，結(jié)果是，與減少其厚度的需求相比，物鏡驅(qū)動裝置厚度增加。具體而言，在設(shè)置到移動電話裝置中的光學(xué)拾取器中，其中對減少厚度有高要求，防止厚度減少是嚴(yán)重的問題。
為了克服上述問題，理想的是提供一種靈敏度提高且尺寸和厚度減少的物鏡驅(qū)動裝置。
為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動裝置，其中物鏡驅(qū)動裝置包括固定板，設(shè)置在可移動基體上；固定塊，設(shè)置在固定板上，并緊固到可移動基體；可移動塊，用于保持物鏡，且沿聚焦方向(是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向)和沿傾斜方向(是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向)相對于固定塊工作；多個支承彈簧，相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，使得可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，使得可移動塊沿傾斜方向移動。第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置。這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開。第二磁路也包括朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線。這對傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上，且這對傾斜線圈設(shè)置到固定塊上，同時物鏡和第二磁路沿切線方向設(shè)置在第一磁路的兩側(cè)上。
因此，利用根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動裝置，可增加用于傾斜調(diào)整的傾斜線圈的部分。
本發(fā)明也提供了一種光學(xué)拾取器，該光學(xué)拾取器包括可移動基體，沿盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動，裝載到盤臺上；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在可移動基體上。物鏡驅(qū)動裝置包括固定板，設(shè)置在可移動基體上；固定塊，設(shè)置在固定板上，并緊固到可移動基體；可移動塊，用于保持物鏡，且沿聚焦方向(是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向)、沿跟蹤方向(是盤狀記錄介質(zhì)的徑向)、和沿傾斜方向(是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向)相對于固定塊工作；多個支承彈簧，相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，使得可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，使得可移動塊沿傾斜方向移動。第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置。這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開。第二磁路也包括朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線。這對傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上，而這對傾斜線圈設(shè)置到固定塊上。物鏡和第二磁路沿切線方向設(shè)置在第一磁路的兩側(cè)上。
由于傾斜線圈設(shè)置在沿切線方向延伸的繞組芯方向上，所以可增加可用于沿傾斜方向在可移動塊中產(chǎn)生推力的傾斜線圈的部分，從而提高可移動塊在傾斜調(diào)整時的靈敏度。
并且，由于可移動塊靈敏度提高，所以不必使用具有更強(qiáng)的磁力的磁體，同時供應(yīng)給傾斜線圈的驅(qū)動電路可以更小，結(jié)果是，可降低物鏡驅(qū)動裝置的功耗以及制造成本。
另外，由于傾斜線圈的繞組芯方向不是聚焦方向，所以沿切線方向的傾斜線圈安裝空間可更小，因此，可減少沿切線方向的物鏡驅(qū)動裝置的尺寸。
由于物鏡和第二磁路設(shè)置在沿切線方向的相對側(cè)上，同時第一磁路位于其間，所以可將提升鏡設(shè)置在與第一磁路相同的高度水平上，因此，可相應(yīng)地減少物鏡驅(qū)動裝置的厚度。這種厚度減少在用于移動設(shè)備的光學(xué)拾取器中是特別理想的。
并且，由于傾斜磁體和傾斜線圈分別設(shè)置到可移動塊和固定塊上，所以可省卻用于供應(yīng)電流給傾斜線圈的支承彈簧，從而減少部件部分的數(shù)量，并簡化物鏡驅(qū)動裝置的裝配工作。
由于通過在沿切線方向的傾斜磁體的相對側(cè)上彎曲固定板的部分提供了磁軛，同時傾斜線圈位于其間，所以不必提供專用的分離斜軛，同時用于緊固固定塊和斜軛的部分可共同使用，從而減少了部件部分的數(shù)量。
由于后軛設(shè)置在傾斜磁體與其朝向傾斜線圈的表面相對的表面上，所以可能提高可移動塊在傾斜調(diào)整時的靈敏度。
另一方面，可減少傾斜磁體的雜散磁通，且第二磁路往往不受第一磁路影響，同時可防止可移動塊在雜散磁通的作用下相對于固定塊傾斜。
本發(fā)明也提供了一種盤驅(qū)動裝置，該盤驅(qū)動裝置包括盤臺，用于在上面裝載盤狀記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取器，用于經(jīng)由物鏡發(fā)射激光到裝載在盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)。光學(xué)拾取器包括可移動基體，沿盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動，裝載到盤臺上；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在可移動基體上。物鏡驅(qū)動裝置包括固定板，設(shè)置在可移動基體上；固定塊，設(shè)置在固定板上，并緊固到可移動基體；以及可移動塊，用于保持物鏡，且沿聚焦方向(是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向)、沿跟蹤方向(是盤狀記錄介質(zhì)的徑向)、和沿傾斜方向(是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向)相對于固定塊工作。物鏡驅(qū)動裝置包括多個支承彈簧，相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，使得可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，使得可移動塊沿傾斜方向移動。第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置。這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開。第二磁路也包括朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線。這對傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上，且這對傾斜線圈設(shè)置到固定塊上。物鏡和第二磁路沿切線方向設(shè)置在第一磁路的兩側(cè)上。
由于傾斜線圈設(shè)置在相應(yīng)于切線方向的繞組芯方向上，所以用于沿傾斜方向在可移動塊中產(chǎn)生推力的傾斜線圈的部分較大，從而提高可移動塊在傾斜調(diào)整時的靈敏度。
并且，由于可移動塊靈敏度提高，所以不必使用具有更強(qiáng)的磁力的磁體，同時可減少供應(yīng)給傾斜線圈的驅(qū)動電路，結(jié)果是，可降低物鏡驅(qū)動裝置的功耗以及制造成本。
另外，由于傾斜線圈的繞組芯方向不是聚焦方向，所以沿切線方向的傾斜線圈安裝空間可更小，因此，可減少沿切線方向的物鏡驅(qū)動裝置的尺寸。
由于物鏡和第二磁路設(shè)置在沿切線方向的相對側(cè)上，同時第一磁路位于其間，所以可將提升鏡設(shè)置在與第一磁路相同的高度水平上，因此，可相應(yīng)地減少物鏡驅(qū)動裝置的厚度。這種厚度減少在用于移動設(shè)備的光學(xué)拾取器中是特別理想的。
此外，由于傾斜磁體和傾斜線圈分別設(shè)置到可移動塊和固定塊上，所以可省卻用于供應(yīng)電流給傾斜線圈的支承彈簧，從而減少部件部分的數(shù)量，并簡化物鏡驅(qū)動裝置的裝配工作。
由于通過在沿切線方向的傾斜磁體的相對側(cè)上彎曲固定板的部分提供了磁軛，同時傾斜線圈位于其間，所以不必提供專用的分離斜軛，同時用于緊固固定塊和斜軛的部分可共同使用，從而減少了部件部分的數(shù)量。
由于后軛設(shè)置在傾斜磁體與其朝向傾斜線圈的表面相對的表面上，所以可能提高可移動塊在傾斜調(diào)整時的靈敏度。
另一方面，可減少傾斜磁體的雜散磁通，且第二磁路不易受第一磁路影響，同時可防止可移動塊在雜散磁通的作用下相對于固定塊傾斜。


圖1結(jié)合圖2和圖12示出實施本發(fā)明的最佳方式，具體而言是本發(fā)明的盤驅(qū)動裝置的截面圖。
圖2是示出物鏡驅(qū)動裝置的部分分解的放大的透視圖。
圖3是物鏡驅(qū)動裝置的放大透視圖。
圖4是示出動力推進(jìn)底板已經(jīng)從其分開的物鏡驅(qū)動裝置的放大透視圖。
圖5是示出從與圖3的觀看方向不同的方向觀看時的物鏡驅(qū)動裝置的放大透視圖。
圖6是示出固定塊的放大的部件分解透視圖。
圖7是示出從與圖3的觀看方向不同的方向觀看時的物鏡驅(qū)動裝置的放大透視圖，其中其部分去除。
圖8是示出第一磁路和第二磁路的放大透視圖。
圖9是示出物鏡驅(qū)動裝置的放大的示意性側(cè)視圖。
圖10是示出在沒有提供后軛的情形下的磁力方向的示意圖。
圖11是說明在沒有提供后軛的情形下可能發(fā)生的操作的示意圖。
圖12是示出在提供后軛的情形下的磁力方向的示意圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在將參看

根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器和盤驅(qū)動裝置的最佳方式。
如圖1中所示，盤驅(qū)動裝置1包括外殼2中的相應(yīng)部件和單元。在外殼中形成盤入口(未示出)。
在外殼2內(nèi)，安裝有底盤(未示出)。盤臺3緊固到安裝在底盤上的主軸電機(jī)的電機(jī)軸。
在底盤上，安裝有彼此平行延伸的導(dǎo)軸4、4，同時安裝有通過進(jìn)給螺桿轉(zhuǎn)動的導(dǎo)螺桿5(未示出)。
光學(xué)拾取器6包括可移動基體7、設(shè)置在可移動基體7上的光學(xué)器件、和設(shè)置在可移動基體7上的物鏡驅(qū)動裝置8?？梢苿踊w7的末端裝配有軸承7a、7b，軸承7a、7b由導(dǎo)軸4、4可滑動地支承。
螺母件(未示出)設(shè)置在可移動基體7上。當(dāng)導(dǎo)螺桿5通過進(jìn)給電動機(jī)轉(zhuǎn)動時，螺母件在與導(dǎo)螺桿5的轉(zhuǎn)動方向一致的方向上進(jìn)給，以使光學(xué)拾取器6沿將要裝載到盤臺3上的盤狀記錄介質(zhì)100的徑向移動。
物鏡驅(qū)動裝置8包括基體件9、固定板10、固定塊11、和相對于固定塊11工作的可移動塊12(參看圖2和3)。
基體件9舉例來說由SPCC(不銹鋼冷軋薄板)或硅鋼片形成，且如圖2中所示，由緊固到可移動基體7的基體部分9a和從與之垂直的基體部分9a彎曲的磁軛部分9b、9b組成。
彼此面對的磁軛9b、9b的表面裝配有磁體13、13。
固定板10相對于基體件9沿切線方向(向著后部)分開設(shè)置，并緊固到可移動基體7。固定板10由例如SPCC(不銹鋼冷軋薄板)或硅鋼等磁性金屬材料板形成，并由緊固到可移動基體7的板基體10a和斜軛10b、10c組成，斜軛10b、10c從板基體10a的前端部彎曲，且沿盤狀記錄介質(zhì)100的徑向(RAD)彼此隔開。
固定塊11緊固到固定板10的板基體10a。如圖4和5中所示，在固定塊11的背面的左端和右端上，總共設(shè)置有四個端子11a、11a，...，這些端子彼此成豎直隔開的關(guān)系。
固定塊11的下端設(shè)置有尾銷(terminal pin)11b、11b，這些尾銷從其背面向著后部凸出(參看圖4)。這些尾銷11b、11b在左右方向上隔開設(shè)置。
在固定塊11的前表面上，形成有向前突出的定位接線柱11c、11c，這些接線柱在左右方向上彼此隔開(參看圖6)。
在固定塊11的后表面上，安裝有中繼基板14(參看圖4)。中繼基板14由基本部分14a和在左右方向上從基本部分14a凸出的四個連接部分14b、14b，...組成。中繼基板14的連接部分14b、14b，...的最前部分別與端子11a、11a，...連接。
一對傾斜線圈16、16安裝到固定塊11的前表面的左右兩側(cè)上，也就是說，傾斜線圈沿盤狀記錄介質(zhì)100的徑向隔開(參看圖3和6)。通過將這些傾斜線圈16、16裝配在設(shè)置在固定塊11的前表面上的定位接線柱11c、11c上，而將其安裝到固定塊11上。因此，通過將定位接線柱11c、11c設(shè)置到固定塊11上，可易于將傾斜線圈16、16安裝到固定塊11的適當(dāng)位置上。
傾斜線圈16、16基本上被形成為方管形狀，具有一薄壁厚度，被裝配到固定塊11，使得其繞組芯的方向與前后方向一致，也就是說，與上述切線方向一致。傾斜線圈16、16設(shè)置有上下部16a、16a、...，用于沿著傾斜方向產(chǎn)生對移動塊12的推力。另外，傾斜方向是盤狀記錄介質(zhì)100從其預(yù)期平面偏離的方向(圖3中用R示出的方向)，也就是，盤狀記錄介質(zhì)關(guān)于沿著切線方向延伸的軸線的旋轉(zhuǎn)方向。
通過纏繞設(shè)置到固定塊11的背面上的尾銷11b、11b，裝配傾斜線圈16、16的一端(見圖4)。
中繼基板14安裝到固定塊11的后表面，電源基板17固定連接至中繼基板14，電源基板17反過來連接至電源電路，未示出(見圖4和圖5)。電源基板17例如是柔性印刷電路板，包括四個連接部(線)17a、17a、...和兩個連接部(線)17b、17b。連接線17a、17a、...通過例如焊料18、18、...分別連接至中繼基板14的連接線14b、14b、...，而連接線17b、17b通過例如焊料19、19、...連接至裝配至尾銷11b、11b的傾斜線圈16、16的一端。因此，來自電源電路的用于進(jìn)行傾斜調(diào)整的驅(qū)動電流經(jīng)由電源基板17的連接線17b、17b供應(yīng)給傾斜線圈16、16。
以這種方式，傾斜線圈16、16的一端纏繞尾銷11b、11b，傾斜線圈16、16的一端通過焊料19、19固定至連接線17b、17b，因此，電源基板17可以非常容易地固定至傾斜線圈16、16，從而簡化了將電源基板17連接至傾斜線圈16、16的操作，并提高了連接可靠性。
垂直延伸的磁軛開口11d、11d(見圖6和圖7)朝著固定塊11的前向端形成，磁軛開口中設(shè)置有從下方導(dǎo)入的固定板10的斜軛10b、10b。斜軛10b、10b直接設(shè)置在傾斜線圈16、16的后面。
支承彈簧20、20、...的后端(見圖3和4)連接至固定塊11的端子11a、11a、...。這些支承彈簧20、20、...經(jīng)由端子11a、11a、...及中繼基板14的連接線14b、14b、...連接至電源基板17的連接線17a、17a、...。支承彈簧20、20、...從固定塊11向前凸出。
可移動塊12包括可移動的保持器21和保持在其上的物鏡22(見圖3至5)。
可移動的保持器21與透鏡裝配單元23及裝配至透鏡裝配單元23的后側(cè)的線圈保持器24一體形成。
透鏡裝配單元23形成有垂直延伸的通口23a(見圖7)，物鏡22安裝在通口23a之上。
線圈保持器24被形成為垂直穿孔的基本上為矩形的框架，聚焦線圈25和跟蹤線圈26、26保持在形成在穿孔上的線圈保持器24內(nèi)。
聚焦線圈25用于使得可移動塊12沿著聚焦方向移動，也就是，在朝向和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)100的方向上(圖3中的方向F)。跟蹤線圈26、26用于使得可移動塊12沿著跟蹤方向移動，也就是，在基本上沿著盤狀記錄介質(zhì)100的半徑的方向上(圖3中的方向T)。
聚焦線圈25和跟蹤線圈26、26中每個均為大致的方形管形式，聚焦線圈25具有在上下方向(聚焦方向)延伸的線圈芯，跟蹤線圈26、26具有在前后方向(切線方向)延伸的線圈芯。跟蹤線圈26、26在聚焦線圈25的前側(cè)彼此隔開設(shè)置。
聚焦線圈25和跟蹤線圈26、26的末端連接至設(shè)置在可移動保持器2 1的兩個側(cè)面的連接端子21a、21a、...。連接端子21a、21a、...連接至支承彈簧20、20、...的前向端。因此，可移動塊12通過支承彈簧20、20、...連接并維持為中空狀態(tài)。
在物鏡驅(qū)動裝置8中，如果可移動塊12相對于固定塊11通過如上所述的支承彈簧20、20、...維持為中空狀態(tài)，可移動塊12在聚焦方向的移動是上下方向，可移動塊12由于其自重向下移動，支承彈簧20、20、...彎曲，使得支承彈簧20、20、...的前端處于比其后端更低的位置。使用物鏡驅(qū)動裝置8，可移動塊12因其自重向下移動的位置被設(shè)置為沿著可移動塊12的聚焦方向的中間位置。因此，在沿著聚焦方向的中間位置，傾斜磁體29、29的上下方向的中間，也就是，在磁極中間的中間線M1與傾斜線圈16、16的上下方向的中間M2一致。
考慮其自身重量的因素，通過將可移動塊12的位置設(shè)定為其沿著聚焦方向的中間位置，可移動塊12的傾斜特性的改變伴隨著聚焦移動，在上下方向上對稱，因此保證物鏡驅(qū)動裝置8的傾斜移動的可靠性。
另外，萬一物鏡驅(qū)動裝置8被用于聚焦方向不是上下方向的狀態(tài)，其滿足在供應(yīng)給作為聚焦伺服的聚焦線圈25被提供給可移動塊12的驅(qū)動電流為零的情況下，可移動塊12的位置被設(shè)定為可移動塊12沿著聚焦方向的中間位置。
支承彈簧20、20、...由電源電路經(jīng)由電源基板17的連接線17a、17a、...并經(jīng)由中繼基板14的連接線14b、14b、...供應(yīng)驅(qū)動電流，以進(jìn)行聚焦調(diào)整或進(jìn)行跟蹤調(diào)整。因此，支承彈簧20、20、...中的每兩個用作電源元件，用于供應(yīng)電流給聚焦線圈25和跟蹤線圈26、26。
聚焦線圈25的前向側(cè)和跟蹤線圈26、26的前向及后向側(cè)與一對磁體13、13關(guān)聯(lián)，固定至軛部9b、9b(參看圖8)。通過以這種方式設(shè)置磁體13、13，通過磁體13、軛部9b、9b、聚焦線圈25并通過跟蹤線圈26、26形成第一磁線圈27，用于使得可移動塊12在聚焦方向或在跟蹤方向移動。
在可移動保持器21的線圈保持器24的后側(cè)，存在處于垂直層疊狀態(tài)的裝配的后軛28、28和傾斜磁體29、29，后軛在左右方向與磁體隔開(參看圖2和3)。傾斜磁體29、29被磁化為沿著聚焦方向的N極29a、29a和與N極分開的S極29b、29b，如圖2所示。
傾斜磁體29、29被設(shè)置為面向裝配在固定臺11的前向表面(參看圖8)。傾斜磁體29、29設(shè)置為面對傾斜線圈16、16，以這種方式，通過傾斜磁體29、29、后軛28、28、傾斜線圈16、16和斜軛10b、10b形成第二磁路30，用于沿著傾斜方向移動可移動塊12。
當(dāng)從電源電路通過電源基板17、中繼基板14、和支承彈簧20、20、...將驅(qū)動電流供應(yīng)給聚焦線圈25或跟蹤線圈26、26時，可移動塊12在聚焦方向(圖3中的方向F)或在跟蹤方向(圖3中的方向T)移動，取決于驅(qū)動電流方向和磁體13、13以及軛部9b、9b中產(chǎn)生的磁通量的方向。
此外，當(dāng)驅(qū)動電流從電源電路通過電源基板17供應(yīng)給傾斜線圈16、16時，借助驅(qū)動電流和后軛28、28和傾斜磁體29、29和斜軛10b、10b產(chǎn)生的磁通量的方向，在傾斜方向(圖3中的方向R)移動可移動塊12。應(yīng)當(dāng)注意，在驅(qū)動電流施加給傾斜線圈16、16的情況下，借助在可移動塊的左右側(cè)上的相對方向(上下方向)產(chǎn)生的推力，通過沿著傾斜方向移動的可移動塊影響傾斜調(diào)節(jié)。
當(dāng)可移動塊12在聚焦方向、跟蹤方向，或在傾斜方向移動時，可使得支承彈簧20、20彈性變形。
提升鏡31設(shè)置在裝配至可移動支持器21的物鏡22的下方(參看圖9)。
在上述盤驅(qū)動裝置1中，如果盤臺3隨著主軸電機(jī)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)(未示出)，則在光學(xué)拾取器6通過記錄和/或復(fù)制盤狀記錄介質(zhì)100沿著盤狀記錄介質(zhì)100的半徑移動的同時，裝配在盤臺3上的盤狀記錄介質(zhì)100作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。
如果在記錄和/或復(fù)制操作期間驅(qū)動電流供應(yīng)給聚焦線圈25，物鏡驅(qū)動裝置8的可移動塊12沿著圖3中的聚焦方向F-F相對于固定塊11移動，通過執(zhí)行聚焦調(diào)節(jié)，使得光源射出的和經(jīng)過物鏡22照射的激光的光斑(未示出)基本上垂直聚集，克服盤狀記錄介質(zhì)100的彎曲。
當(dāng)驅(qū)動電流供給跟蹤線圈26、26時，物鏡驅(qū)動裝置8的可移動塊12沿著跟蹤方向T-T相對于固定塊11移動，如圖3所示，通過執(zhí)行聚焦調(diào)節(jié)，使得光源射出的和經(jīng)過物鏡22照射的激光的光斑聚集到盤狀記錄介質(zhì)100的記錄道上。
當(dāng)驅(qū)動電流供應(yīng)給傾斜線圈16、16時，物鏡驅(qū)動裝置8的可移動塊12沿著跟蹤方向R-R相對于固定塊11移動，如圖3所示，通過執(zhí)行傾斜調(diào)節(jié)，使得光源射出的和經(jīng)過物鏡22照射的激光的光斑聚集到盤狀記錄介質(zhì)100的記錄道上。
利用如上所述的光學(xué)拾取器6，其中提供具有N極29a、29a和沿著聚焦方向與N極分離的S極29b、29b的傾斜磁體29、29，傾斜線圈16、16的纏繞鐵心的方向是切線方向，整個傾斜線圈16、16中的約一半部分16a、16a、...可被用作沿著可移動塊12產(chǎn)生推力的部分，從而在傾斜調(diào)整的同時改善了可移動塊12的敏感度。
因為可移動塊12的敏感度可被改善，所以沒有必要使用具有相當(dāng)強(qiáng)磁力的磁體，同時，沒有必要供應(yīng)強(qiáng)驅(qū)動電流給傾斜線圈16、16，從而減低了物鏡驅(qū)動裝置8的制造成本和功率消耗。
另外，由于傾斜線圈16、16的繞組芯的方向不是聚焦方向，沿著切線方向用于傾斜線圈16、16的較小裝配空間是足夠的，減小了物鏡驅(qū)動裝置的尺寸。
并且，利用物鏡驅(qū)動裝置8，物鏡22和用于傾斜調(diào)整的第二磁路30在沿著用于進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和跟蹤調(diào)節(jié)的第一磁路27的切線方向的相對側(cè)設(shè)置，提升鏡31可以處于和第一磁路27相同的高度水平，因此，物鏡驅(qū)動裝置8可相應(yīng)地減小厚度。厚度的減小特別適于用于便攜裝置的光學(xué)拾取器。
采用物鏡驅(qū)動裝置8，其中傾斜磁體29、29提供至可移動塊12，傾斜線圈16、16被提供至固定塊11，沒有必要設(shè)置用于提供動力給傾斜線圈16、16的支撐彈簧，相應(yīng)地減少了元件部件的數(shù)量，簡化了物鏡驅(qū)動裝置8的裝配工藝。
另外，采用物鏡驅(qū)動裝置8，用于緊固固定臺11的固定板10被彎曲，以形成斜軛10b、10b，沒有必要提供專用的斜軛，作為用于緊固固定塊11的元件的板基體10a和斜軛10b、10b可以共用，進(jìn)一步減少了元件部件的數(shù)量。
采用物鏡驅(qū)動裝置8，后軛28、28被設(shè)置在傾斜磁體29、29的與其面向傾斜線圈16、16的表面相對的表面上。
結(jié)果是在進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)的同時改善了可移動塊12的敏感度。
除了設(shè)置后軛28、28之外，假定相關(guān)部件產(chǎn)生的磁力方向的關(guān)系如圖10所示，則向著第一磁路27吸引傾斜磁體29、29的上部，同時，其下部被第一磁路27排斥。因此，傾斜磁體29、29受到向下運(yùn)動力P的作用，使得可移動塊12向下移動以影響聚焦操作。
物鏡驅(qū)動裝置8設(shè)置有成對傾斜磁體29、29以及沿著記錄道方向(圖11中示出的方向T)與成對傾斜磁體分開設(shè)置的成對傾斜線圈16、16，使得在通過跟蹤操作已經(jīng)將移動塊12沿著跟蹤方向移動的情況下，傾斜磁體29、29和第一磁路27之間的位置關(guān)系發(fā)生改變，使得在傾斜磁體29、29受到第一磁路27的影響的情況下，作用于傾斜磁體29、29左側(cè)的移動力不同于作用于右側(cè)的移動力。在這種情況下，擔(dān)心可移動塊12在圖11所示的R示出的方向傾斜，使得通過物鏡22照射的激光的光軸在盤狀記錄介質(zhì)100上傾斜。
另外，在物鏡驅(qū)動裝置8中，如果由于制造公差使得支承彈簧20、20左右側(cè)的彈力不同，基體件9沿著跟蹤方向的位置通常被調(diào)節(jié)成使得可移動塊12在聚焦移動期間的R方向的傾斜將被優(yōu)化(零)。在這種情況下，傾斜磁體29、29和第一磁路27之間的位置關(guān)系可再次改變，如上所述，使得作用于傾斜磁體29、29的左側(cè)的移動力不同于作用于右側(cè)的作用力，使得移動塊12可在如圖11所示的R方向傾斜。
然而，采用如上所述的物鏡驅(qū)動裝置8，其中后軛28、28被設(shè)置在傾斜磁體29、29的與其面向傾斜線圈16、16的表面相對的表面上，如圖12所示降低來自傾斜磁體29、29的雜散磁通量，以使第二磁路30不易受第一磁路27的影響，因此可能防止盤狀記錄介質(zhì)100在R方向上傾斜。
物鏡驅(qū)動裝置8不必設(shè)置有后軛28、28。在此情形下，利用在非使用狀態(tài)(其中沒有驅(qū)動電流供給聚焦線圈25)中在傾斜磁體29、29中沿向著基體件9(朝下)的方向產(chǎn)生的移動力，而不依賴于可移動塊12使用期間的姿勢，物鏡22可保持與盤狀記錄介質(zhì)100隔開，從而可防止盤狀記錄介質(zhì)100與物鏡22接觸。
在前述中，分別將聚焦和跟蹤方向假定為上下方向和左右方向。這僅僅出于說明目的，本發(fā)明并不限于這些特定方向。
應(yīng)當(dāng)注意，作為本發(fā)明的最佳實施例示出的特定形狀和相應(yīng)部件的結(jié)構(gòu)僅僅是示范性的，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受到這些示范性形狀或結(jié)構(gòu)的限制。
也就是說，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，各種變化、組合、子組合和改變均可根據(jù)設(shè)計要求和其他因素而發(fā)生，本發(fā)明的保護(hù)范圍僅受所附的權(quán)利要求或等價物的限定。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾取器，具有可移動基體，沿著裝載在盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在所述可移動基體上；其中，所述物鏡驅(qū)動裝置包括固定板，設(shè)置在所述可移動基體上；固定塊，設(shè)置在所述固定板上，并緊固至所述可移動基體；可移動塊，用于保持所述物鏡，且沿聚焦方向、沿跟蹤方向、和沿傾斜方向相對于固定塊工作，其中，所述聚焦方向是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟蹤方向是盤狀記錄介質(zhì)的徑向，所述傾斜方向是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向；多個支承彈簧，用于相對于所述固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，用于使所述可移動塊沿所述聚焦方向或沿所述跟蹤方向移動；以及第二磁路，用于使所述可移動塊沿傾斜方向移動；所述第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置，這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開，朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線；這對傾斜磁體設(shè)置到所述可移動塊上；這對傾斜線圈設(shè)置到所述固定塊上；所述物鏡和所述第二磁路沿切線方向設(shè)置在所述第一磁路的兩側(cè)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述光學(xué)拾取器，其中通過沿著切線方向在所述傾斜磁體的相對側(cè)上彎曲所述固定板的一部分，同時使傾斜線圈位于其間，形成斜軛。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述光學(xué)拾取器，其中后軛設(shè)置在與傾斜磁體朝向傾斜線圈的表面相對的傾斜磁體表面上。
4.一種光學(xué)拾取器，具有可移動基體，沿著裝載在盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在所述可移動基體上；其中，所述物鏡驅(qū)動裝置包括固定塊，緊固至所述可移動基體；可移動塊，用于保持所述物鏡，且沿聚焦方向、沿跟蹤方向、和沿傾斜方向相對于固定塊工作，其中，所述聚焦方向是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟蹤方向是盤狀記錄介質(zhì)的徑向，所述傾斜方向是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向；多個支承彈簧，用于相對于所述固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，用于使所述可移動塊沿所述聚焦方向或沿所述跟蹤方向移動；以及第二磁路，用于使所述可移動塊沿傾斜方向移動；所述第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置，這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開，以及朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線；這對傾斜磁體設(shè)置到所述可移動塊上；這對傾斜線圈設(shè)置到所述固定塊上；后軛，設(shè)置在與所述傾斜磁體面向所述傾斜線圈的表面相對的傾斜磁體表面上。
5.一種盤驅(qū)動裝置，所述盤驅(qū)動裝置包括盤臺，用于在上面裝載盤狀記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取器，用于經(jīng)由物鏡發(fā)射激光到裝載在盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)，光學(xué)拾取器包括可移動基體，沿裝載到盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在可移動基體上，其中，物鏡驅(qū)動裝置包括固定板，設(shè)置在可移動基體上；固定塊，設(shè)置在固定板上，并緊固到可移動基體；可移動塊，用于保持所述物鏡，且沿聚焦方向、沿跟蹤方向、和沿傾斜方向相對于固定塊工作，其中，所述聚焦方向是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟蹤方向是盤狀記錄介質(zhì)的徑向，所述傾斜方向是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向；多個支承彈簧，用于相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，用于使可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，用于使可移動塊沿傾斜方向移動；所述第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置，這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開，以及朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線；這對傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上；這對傾斜線圈設(shè)置到固定塊上；所述物鏡和所述第二磁路沿切線方向設(shè)置在所述第一磁路的兩側(cè)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤驅(qū)動裝置，其中通過沿著切線方向在所述傾斜磁體的相對側(cè)上彎曲所述固定板的一部分，同時使傾斜線圈位于其間，設(shè)置斜軛。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤驅(qū)動裝置，其中后軛設(shè)置在與所述傾斜磁體朝向所述傾斜線圈的表面相對的傾斜磁體表面上。
8.一種盤驅(qū)動裝置，所述盤驅(qū)動裝置包括盤臺，用于在上面裝載盤狀記錄介質(zhì)；以及光學(xué)拾取器，用于經(jīng)由物鏡發(fā)射激光到裝載在盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)，光學(xué)拾取器包括可移動基體，沿裝載到盤臺上的盤狀記錄介質(zhì)的徑向移動；以及物鏡驅(qū)動裝置，設(shè)置在所述可移動基體上，其中，所述物鏡驅(qū)動裝置包括固定塊，緊固到所述可移動基體；可移動塊，用于保持所述物鏡，且沿聚焦方向、沿跟蹤方向、和沿傾斜方向相對于固定塊工作，其中，所述聚焦方向是向著和遠(yuǎn)離盤狀記錄介質(zhì)的記錄表面的方向，所述跟蹤方向是盤狀記錄介質(zhì)的徑向，所述傾斜方向是圍繞沿垂直于盤狀記錄介質(zhì)的徑向的切線方向延伸的軸線的方向；多個支承彈簧，用于相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，用于使可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，用于使可移動塊沿傾斜方向移動；所述第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置，這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開，以及朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有對應(yīng)于切線方向的繞組線方向的軸線；這對傾斜磁體設(shè)置到可移動塊上；這對傾斜線圈設(shè)置到固定塊上；后軛，設(shè)置在與所述傾斜磁體朝向所述傾斜線圈的表面相對的傾斜磁體表面上。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種提高敏感度、減小尺寸和厚度的物鏡驅(qū)動裝置，為此目的，物鏡驅(qū)動裝置包括固定塊，安置在設(shè)置在可移動基體上的固定板上；可移動塊，用于保持物鏡，且沿聚焦方向、沿跟蹤方向、和沿傾斜方向相對于固定塊工作；多個支承彈簧，相對于固定塊可移動地支承可移動塊；第一磁路，使得可移動塊沿聚焦方向或沿跟蹤方向移動；以及第二磁路，使得可移動塊沿傾斜方向移動。第二磁路包括一對傾斜磁體，每個磁體都磁化有兩極，以使N極和S極沿聚焦方向設(shè)置，這對傾斜磁體沿徑向彼此隔開，朝向這對傾斜磁體設(shè)置的一對傾斜線圈，每個傾斜線圈都具有沿著切線方向的繞組線方向的軸線。傾斜磁體和傾斜線圈分別設(shè)置到可移動塊和固定塊上。物鏡和第二磁路沿切線方向設(shè)置在第一磁路的兩側(cè)上。
文檔編號G11B7/09GK1684162SQ20051006416
公開日2005年10月19日 申請日期2005年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月13日
發(fā)明者大熊英生, 堀口宗之, 花岡淳裕 申請人:索尼株式會社