專利名稱：光學(xué)讀寫頭及其致動裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明光學(xué)儲存媒體的照射光束有關(guān)，特別是關(guān)于一種光學(xué)讀寫頭的物鏡致動裝置。
背景技術(shù)：
當(dāng)光盤片(Compact Disc)放置于光驅(qū)內(nèi)時，光驅(qū)的光學(xué)讀寫頭會沿著導(dǎo)軌移動以讀寫光盤片數(shù)據(jù)，再傳輸至主機(jī)端的芯片組進(jìn)行信號處理。在這個過程中，由于光盤片處于快速旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，加以光盤片本身并非完美的圓盤型態(tài)，因此光盤片上的數(shù)據(jù)軌會出現(xiàn)偏擺的現(xiàn)象，因此光學(xué)讀寫頭必須具備一個快速反應(yīng)的致動器，以快速地移動光學(xué)讀寫頭的物鏡，以聚焦在預(yù)定讀寫的資料軌上。
為了使物鏡能夠精準(zhǔn)地聚焦于光盤片上預(yù)定讀寫的數(shù)據(jù)軌上，光學(xué)讀寫頭必須產(chǎn)生三種做動模式(一)聚焦精準(zhǔn)地控制讀取頭的物鏡與光盤片表面的距離，使激光束聚焦的焦點(diǎn)落在數(shù)據(jù)軌上；(二)循軌平移物鏡，使激光束的焦點(diǎn)落在數(shù)據(jù)軌的中央，而不會超出數(shù)據(jù)軌外部，或是落在相鄰的數(shù)據(jù)軌；(三)傾斜由于光盤片變形產(chǎn)生的像差會使激光束的焦點(diǎn)位移，因此必須通過傾斜物鏡，改變激光束的入射角度，以調(diào)整變形所產(chǎn)生的像差。
圖1及圖2所示為傳統(tǒng)的光學(xué)讀寫頭致動器架構(gòu)，其于承載物鏡1a的物鏡承座1b的周圍設(shè)置多個循軌線圈1c及聚焦線圈1d，將物鏡承座1b利用銅線1e支撐懸浮于一基座1f上。此一基座1f上更設(shè)有二軛鐵1g，用來固定二磁鐵1h，使物鏡承座1b位于二磁鐵1h之間。通過銅線1e通電進(jìn)入循軌線圈1c及聚焦線圈1d，因勞倫斯力(Lorentz Force)，所以可以通過電流方向的改變線圈出力方向，使循軌線圈1c及聚焦線圈1d而帶動物鏡承座1b進(jìn)行直線位移的循軌、聚焦動作，或是對物鏡承座1b產(chǎn)生一力偶而進(jìn)行傾斜動作。
然而，此種設(shè)計獨(dú)立設(shè)置各線圈，不易進(jìn)行小型化，同時也不容易進(jìn)行組裝，容易在組裝過程中使線圈受損，而影響其制造良率。此外，線圈獨(dú)立設(shè)置的狀態(tài)下，會降低致動裝置的整體剛性，進(jìn)而使其敏感度、響應(yīng)頻寬受到限制。
為此，許多設(shè)計便采取了線圈基板的設(shè)置，將各線圈整合于線圈基板的表面上，通過此一線圈基板來提升整體剛性，同時也使得零件數(shù)減少較為容易組裝。同時磁鐵也改成被及化成多個扇區(qū)的多極磁鐵，如此一來更進(jìn)一步地減少零件數(shù)目。例如美國專利US6493158、US6587284及US6791772等案。于US6791772號專利案中，各線圈需要呈現(xiàn)交錯重迭配置，因此使得線圈基板的厚度提升，亦增加線圈基板的制作難度。US6493158及US6587284中，為使各線圈發(fā)揮不同作用，使得多極磁鐵的扇區(qū)分割數(shù)多，各扇區(qū)之間的劃分接口長度短，因而使得線圈的有效作用區(qū)縮小，降低線圈效率及出力，因而使得敏感度降低。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上的問題，本發(fā)明的主要目的在于提供一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，可提高敏感度、結(jié)構(gòu)剛性及響應(yīng)頻寬，并使組裝更為簡單。
為了達(dá)成上述的目的，一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，包括有一基座，一平行懸浮裝置，設(shè)于基座上，用以支撐一物鏡承座懸浮于基座上方，此物鏡承座用以承載一物鏡。
二多極磁鐵，設(shè)于基座上，各多極磁鐵分別具有多個扇區(qū)。二線圈基板，固定于物鏡承座，且各線圈基板位于二多極磁鐵之間，其中各線圈基板分別具有一循軌線圈、一聚焦線圈及一傾斜線圈，與各多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后出力，并通過該電流的方向的改變而改變出力方向，推動物鏡承座位移或是傾斜。
本發(fā)明的線圈基板并不限定于相同形式的對稱配置，亦可采與不同形式而形成不對稱的配置。多極磁鐵亦可采取不同形式的配置，甚至可采取單一多極磁鐵同時與二線圈基板同時發(fā)生交互作用，以帶動物鏡承座位移或是傾斜。
此外，二線圈基板并不需要同時具備各種形式線圈，可將不同作用的線圈分配在不同的線圈基板上，例如本發(fā)明一實(shí)施例中，其中一線圈基板僅具備循軌線圈及聚焦線圈，而于另一線圈基板再設(shè)置循軌線圈、聚焦線圈及傾斜線圈。
此外，本發(fā)明的聚焦線圈及傾斜線圈具備可交換性，可設(shè)置相同的線圈后，通過輸入電流的控制，使其成為聚焦線圈或是傾斜線圈，當(dāng)然亦可通過同一組線圈同時作為聚焦線圈或是傾斜線圈。
本發(fā)明的效果在于，將多個線圈包含聚焦線圈、循軌線圈及傾斜線圈設(shè)于線圈基板的同一平面上，配合多極磁鐵的配置，來進(jìn)行聚焦、循軌及傾斜等運(yùn)動。由于各線圈不互相重迭，可使結(jié)構(gòu)更緊密，組裝步驟簡單，提高光學(xué)讀寫頭致動器的敏感度、結(jié)構(gòu)剛性及頻寬。且將各線圈不重迭交錯的設(shè)計，也可以使多極磁鐵的扇區(qū)分割形式簡化，降低多極磁鐵的配制成本。同時通過適當(dāng)?shù)亩鄻O磁鐵扇區(qū)分割，可以提升線圈的有效作用區(qū)域大小，使線圈效率及出力提高。
以下在實(shí)施方式中詳細(xì)敘述本發(fā)明的詳細(xì)特征以及優(yōu)點(diǎn)，其內(nèi)容足以使任何熟悉本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員了解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，且根據(jù)本說明書所公開的內(nèi)容、權(quán)利要求書及附圖，任何熟悉本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可輕易地理解本發(fā)明相關(guān)的目的及優(yōu)點(diǎn)。
以上的關(guān)于本發(fā)明內(nèi)容的說明及以下的實(shí)施方式的說明用以示范與解釋本發(fā)明的原理，并且提供本發(fā)明的權(quán)利要求書更進(jìn)一步的解釋。


圖1為公知技術(shù)的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置的分解立體圖；圖2為公知技術(shù)的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置的外觀立體圖；圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置的外觀立體圖；圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例的部分組件分解立體圖；圖5為本發(fā)明第一實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)劃分示意圖；圖6為本發(fā)明第一實(shí)施例中線圈基板上的循軌線圈、聚焦線圈及傾斜線圈的劃分示意圖；圖7為本發(fā)明第一實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖8及圖9為本發(fā)明第一實(shí)施例中循軌線圈與多極磁鐵交互作用的示意圖；圖10及圖11為本發(fā)明第一實(shí)施例中聚焦線圈與多極磁鐵交互作用的示意圖；
圖12及圖13為本發(fā)明第一實(shí)施例中物鏡承座、線圈基板及多極磁鐵130的側(cè)面示意圖，揭示傾斜線圈與多極磁鐵的交互作用；圖14為本發(fā)明第二實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)劃分示意圖；圖15為本發(fā)明第二實(shí)施例中線圈基板上的循軌線圈、聚焦線圈2及傾斜線圈的劃分示意圖；圖16為本發(fā)明第二實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖17為本發(fā)明第三實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)劃分示意圖；圖18為本發(fā)明第三實(shí)施例中線圈基板上的循軌線圈、聚焦線圈及傾斜線圈的劃分示意19為本發(fā)明第三實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖20為本發(fā)明第四實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)劃分示意圖；圖21為本發(fā)明第四實(shí)施例中線圈基板上的循軌線圈、聚焦線圈及傾斜線圈的劃分示意圖；圖22為本發(fā)明第四實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖23為本發(fā)明第五實(shí)施例的外觀立體圖；圖24為本發(fā)明第五實(shí)施例的部分組件分解立體圖；圖25為本發(fā)明第五實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)劃分示意圖；圖26為本發(fā)明第五實(shí)施例中第一線圈基板上的二循軌線圈及聚焦線圈的劃分示意圖；圖27為本發(fā)明第五實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及第一線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖28為本發(fā)明第五實(shí)施例中第二線圈基板上的二循軌線圈、聚焦線圈及二傾斜線圈的劃分示意圖；圖29為本發(fā)明第五實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及第二線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖30為本發(fā)明第六實(shí)施例中第一線圈基板上的循軌線圈、聚焦線圈及二傾斜線圈的劃分示意圖；
圖31為本發(fā)明第六實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及第一線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖；圖32為本發(fā)明第六實(shí)施例中第二線圈基板上的二循軌線圈、聚焦線圈及二傾斜線圈的劃分示意圖；圖33為第六實(shí)施例中多極磁鐵的扇區(qū)及第二線圈基板上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
其中，附圖標(biāo)記公知技術(shù)1a 物鏡 1b 物鏡承座1c 循軌線圈 1d 聚焦線圈1e 銅線 1f 基座1g 軛鐵 1h 磁鐵第一實(shí)施例111物鏡承座 112物鏡120線圈基板 121循軌線圈121a 有效線圈區(qū)域 122聚焦線圈122a 有效線圈區(qū)域 123傾斜線圈123a 有效線圈區(qū)域 130多極磁鐵131第一扇區(qū) 132第二扇區(qū)133第三扇區(qū) 140軛鐵150平行懸吊裝置 151銅線152固定座 160基座F 聚焦方向 T 循軌方向R 基板法線方向 a1 電流a2 電流 a3 電流a4 電流第二實(shí)施例220線圈基板221循軌線圈 221a 有效線圈區(qū)域222聚焦線圈 223傾斜線圈
230 多極磁鐵 231第一扇區(qū)232 第二扇區(qū) 233第三扇區(qū)234 第四扇 F 聚焦方向T 循軌方向第三實(shí)施例320 線圈基板 321a 有效線圈區(qū)域322a有效線圈區(qū)域 323a 有效線圈區(qū)域321 循軌線圈 322聚焦線圈323 傾斜線圈 330多極磁鐵331 第一扇區(qū) 332第二扇區(qū)333 第三扇區(qū) F 聚焦方向T 循軌方向第四實(shí)施例420 線圈基板 421a 有效線圈區(qū)域421 循軌線圈 422聚焦線圈423 傾斜線圈 430多極磁鐵431 第一扇區(qū) 432第二扇區(qū)433 第三扇區(qū) F 聚焦方向T 循軌方向第五實(shí)施例511 物鏡承座511a容置部 512物鏡520 第一線圈基板 521循軌線圈521a有效線圈區(qū)域 522聚焦線圈522a有效線圈區(qū)域 523傾斜線圈523a有效線圈區(qū)域 530第二線圈基板531 循軌線圈 531a 有效線圈區(qū)域532 聚焦線圈 532a 有效線圈區(qū)域533 傾斜線圈 533a 有效線圈區(qū)域540 多極磁鐵 541第一扇區(qū)
542第二扇區(qū)550軛鐵560平行懸吊系統(tǒng)561銅線562固定座 570基座F 聚焦方向T 循軌方向R 基板法線方向第六實(shí)施例；620第一線圈基板621a 有效線圈區(qū)域622a 有效線圈區(qū)域623a 有效線圈區(qū)域621循軌線圈622聚焦線圈623傾斜線圈630第二線圈基板631循軌線圈631a 有效線圈區(qū)域632聚焦線圈632a 有效線圈區(qū)域633傾斜線圈633a 有效線圈區(qū)域640多極磁鐵641第一扇區(qū)642第二扇區(qū)F 聚焦方向T 循軌方向具體實(shí)施方式
為使對本發(fā)明的目的、構(gòu)造、特征、及其功能有進(jìn)一步的了解，配合實(shí)施例詳細(xì)說明如下。
圖3、圖4為本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置的外觀立體圖及部分組件分解立體圖。如圖所示，此一光學(xué)讀寫頭及其致動裝置包含有物鏡承座111、物鏡112、線圈基板120、二多極磁鐵130、二軛鐵140、平行懸吊裝置150及基座160。為方便說明，附圖中預(yù)先定義出一沿上下方向延伸的聚焦方向F，平行于線圈基板120的循軌方向T，與聚焦方向F及循軌方向T垂直的基板法線方向R。
物鏡112以平行于T-R平面的姿態(tài)置于物鏡承座111上，可隨著物鏡承座111作動，而產(chǎn)生聚焦、循軌及傾斜等動作。
線圈基板120固定于物鏡承座111的二側(cè)，線圈基板120上設(shè)有多個平面線圈，分別為循軌線圈121、聚焦線圈122及傾斜線圈123，分別對應(yīng)于多極磁鐵130上的不同扇區(qū)。
平行懸吊裝置150包含有多個銅線151及一固定座152，其中各銅線151穿過物鏡承座111的兩側(cè)，使其一端連接固定座152上，用以接收電力輸入，而另一端分別與線圈基板120的不同線圈電氣導(dǎo)通，將電力傳送至線圈，可產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用，再利用控制電流方向使循軌線圈121、聚焦線圈122及傾斜線圈123出力方向改變。固定座152設(shè)于基座160的一側(cè)，使銅線150可支撐物鏡承座111，而平行懸浮于基座160上方。
二軛鐵140設(shè)于基座160的兩側(cè)，各多極磁鐵130分別固定于二軛鐵140的內(nèi)側(cè)面，并使物鏡承座111及線圈基板120位于二多極磁鐵130之間，同時使二線圈基板120分別對應(yīng)于二多極磁鐵130。通過平行懸吊裝置150的支撐，將物鏡承座111連同線圈基板120及物鏡112懸浮于基座160之上。此時只要對線圈基板120上的循軌線圈121、聚焦線圈122及傾斜線圈123輸入電流，即可與多極磁鐵130的不同扇區(qū)交互作用而產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)，而讓線圈基板120受到勞倫斯力(Lorentz Force)帶動，產(chǎn)生上下、水平及傾斜擺動等位移動作，以帶動物鏡承座111進(jìn)行上下、水平及傾斜擺動等位移動作。
圖5為多極磁鐵130的扇區(qū)劃分示意圖，圖6為線圈基板120上的循軌線圈121、聚焦線圈122及傾斜線圈123的劃分示意圖，圖7為多極磁鐵130的扇區(qū)及線圈基板120上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
如圖5、圖6及圖7所示，循軌線圈121、聚焦線圈122及傾斜線圈123以平行于線圈基板120表面的方向(平行于T-F平面)纏繞，其中循軌線圈121呈現(xiàn)長橢圓形或長矩形，于聚焦方向F的長度大于循軌方向T的長度。聚焦線圈122及傾斜線圈123也是以平行于線圈基板120的方向(平行于T-F平面)纏繞，且聚焦線圈122環(huán)繞于傾斜線圈123的外周圍。
多極磁鐵130具有多個扇區(qū)，且相鄰二扇區(qū)被磁化為不同磁極。多極磁鐵130包含有第一扇區(qū)131、第二扇區(qū)132及第三扇區(qū)133，其中第一扇區(qū)131呈現(xiàn)長矩形，于聚焦方向F的長度大于循軌方向T的長度，第二扇區(qū)132呈現(xiàn)L字形，分別朝聚焦方向F與循軌方向T延伸，其中第一扇區(qū)131與第二扇區(qū)132于聚焦方向F延伸的部分鄰接，且第一扇區(qū)131與第二扇區(qū)132的劃分接口平行于聚焦方向F，分別被磁化為S極及N極。第二扇區(qū)132于循軌方向T延伸的部分位于多極磁鐵130的上半部，第三扇區(qū)133位于此一延伸部分的下方，使劃分接口平行于循軌方向T，其中第三扇區(qū)133被磁化為S極。
如圖7所示，循軌線圈121的有效線圈區(qū)域121a與第一扇區(qū)131及第二扇區(qū)132重迭，通電進(jìn)入循軌線圈121，即可產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向來改變循軌線圈121出力方向，即可利用勞倫斯力(Lorentz Force)作用推動線圈基板120位移。
如圖8所示，當(dāng)循軌線圈121被通入一電流a1時，因勞倫斯力(LorentzForce)作用，因此使循軌線圈121出力帶動線圈基板120沿著循軌方向T向右移動，而同時帶動物鏡承座111及物鏡112向右移動。
如圖9所示，當(dāng)循軌線圈121被通入一反向電流a2時，循軌線圈121就會產(chǎn)生反向的勞倫斯力(Lorentz Force)，因而帶動線圈基板120沿著循軌方向T向左移動，而同時帶動物鏡承座111及物鏡112向左移動。
如圖7所示，聚焦線圈122的有效線圈區(qū)域132a與第二扇區(qū)132及第三扇區(qū)133于循軌方向T鄰接的部分重迭，通電進(jìn)入聚焦線圈122，使其產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。因勞倫斯力(Lorentz Force)的作用，所以控制電流方向可以來改變聚焦線圈122出力的方向，即可利用勞倫斯力(LorentzForce)推動線圈基板120沿著聚焦方向F位移。
如圖10所示，當(dāng)聚焦線圈122被通入一電流a3時，因勞倫斯力(LorentzForce)作用，因此使聚焦線圈122出力，因而帶動線圈基板120沿著聚焦方向F向下移動，而同時帶動物鏡承座111及物鏡112向下移動。
如圖11所示，當(dāng)聚焦線圈122被通入一反向電流a4時，因勞倫斯力(Lorentz Force)作用，因此使聚焦線圈122產(chǎn)生反方向出力，因而帶動線圈基板120沿著聚焦方向F向上移動，而同時帶動物鏡承座111及物鏡112向上移動。
圖12及圖13為物鏡承座111、線圈基板120及多極磁鐵130的側(cè)面示意圖。如圖所示，進(jìn)行傾斜動作時，由二線圈基板120互相配合，分別受到向上及向下的外力，即可形成力偶，而帶動物鏡承座111傾斜。于本實(shí)施例中，二多極磁鐵130為相同形式，以互相對稱的型態(tài)設(shè)置于物鏡承座111的二側(cè)，但上下方向相反，亦即，由側(cè)面觀察，一多極磁鐵130采取第二扇區(qū)132在下、第三扇區(qū)133在上的配置，另一多極磁鐵130則采取第二扇區(qū)132在上、第三扇區(qū)133在下的配置。而二線圈基板120亦采取左右對稱的型態(tài)配置，傾斜線圈123的有效線圈區(qū)域與第二扇區(qū)132及第三扇區(qū)133互相重迭，如此一來，當(dāng)二傾斜線圈123通入相同方向的電流時，二傾斜線圈123出力方向會分別向上及向下，而帶動物鏡承座111產(chǎn)生傾斜擺動的位移。實(shí)際上，聚焦線圈122及傾斜線圈123可以任意互換改變其作用，通過出力形式的不同，來改變其作用。亦即，當(dāng)線圈出力方向相同時，就可以使物鏡承座111直線位移，而沿著聚焦方向F移動，當(dāng)位于物鏡承座111二側(cè)的線圈出力方向不同時，即可形成力偶作用，而帶動物鏡承座111傾斜擺動。
如圖14、圖15及圖16所示，為本發(fā)明第二實(shí)施例所提供的一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，揭示另一種多極磁鐵及線圈基板對應(yīng)型態(tài)。其中圖14為多極磁鐵230的扇區(qū)劃分示意圖，圖15為線圈基板220上的循軌線圈221、聚焦線圈222及傾斜線圈223的劃分示意圖，圖16為多極磁鐵230的扇區(qū)及線圈基板220上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
其中多極磁鐵230被劃分為第一扇區(qū)231、第二扇區(qū)232、第三扇區(qū)233及第四扇區(qū)234，其中第一扇區(qū)231及第四扇區(qū)234位于多極磁鐵230的二二邊緣，且皆與第二扇區(qū)232鄰接，第一扇區(qū)231與第二扇區(qū)232之間的劃分接口平行于聚焦方向F，第四扇區(qū)234與第二扇區(qū)232的劃分接口亦平行于聚焦方向F。而第二扇區(qū)232呈現(xiàn)開口朝上的U字形，使第三扇區(qū)233被第二扇區(qū)232半包圍，且至少有一劃分接口平行于循軌方向T。
線圈基板220具有一循軌線圈221、一聚焦線圈222及二傾斜線圈223，循軌線圈221呈現(xiàn)長橢圓形或是長矩形，于聚焦方向F上的長度大于在循軌方向T上的長度，其位置靠近線圈基板220的一側(cè)邊。聚焦線圈222可為矩形、圓形、長矩形或是長橢圓形，位于線圈基板220的中段位置。二傾斜線圈223的位置靠近線圈基板220的另一側(cè)邊緣，沿著聚焦方向F上下并列。
循軌線圈221及聚焦線圈222的作動方式大致與第一實(shí)施例相同。其中，循軌線圈221的有效線圈區(qū)域221a與第一扇區(qū)231及第二扇區(qū)232重迭，通電進(jìn)入循軌線圈221，使其產(chǎn)生勞倫斯力推動線圈基板220沿著循軌方向T位移。聚焦線圈222的有效線圈區(qū)域222與第二扇區(qū)232及第三扇區(qū)233重迭，通電進(jìn)入聚焦線圈222，即可產(chǎn)生出力而推動線圈基板220沿著聚焦方向F位移。
傾斜線圈223的作動方式與第一實(shí)施例不同，于本實(shí)施例中，各線圈基板220分別具有二傾斜線圈223，皆與第二扇區(qū)232及第四扇區(qū)234重迭。而作動時，二傾斜線圈223通入不同方向的電流，而使各傾斜線圈223產(chǎn)生不同方向出力的勞倫斯力，，使得傾斜線圈223于聚焦方向F的受力不同，利用二傾斜線圈223產(chǎn)生不同方向的水平出力，而產(chǎn)生一力偶而驅(qū)動物鏡承座(圖未示)產(chǎn)生傾斜擺動。通過二傾斜線圈223的設(shè)置，可使物鏡承座傾斜角度更大，反應(yīng)速度更快。
如圖17、圖18及圖19所示，為本發(fā)明第三實(shí)施例所提供的一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，揭示另一種多極磁鐵及線圈基板對應(yīng)型態(tài)。其中圖17為多極磁鐵330的扇區(qū)劃分示意圖，圖18為線圈基板320上的循軌線圈321、聚焦線圈322及傾斜線圈323的劃分示意圖，圖19為多極磁鐵330的扇區(qū)及線圈基板320上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
其中多極磁鐵330被劃分為第一扇區(qū)331、第二扇區(qū)332及二第三扇區(qū)333，其中第一扇區(qū)331的位置靠近多極磁鐵330的一側(cè)邊緣，且與第二扇區(qū)332鄰接，使第一扇區(qū)331與第二扇區(qū)332之間的劃分接口平行于聚焦方向F。第二扇區(qū)332呈現(xiàn)T字形，具有一沿著循軌方向T延伸的長形區(qū)域。二第三扇區(qū)333為沿著循軌方向T延伸的長形區(qū)域，分別位于第二扇區(qū)332沿循軌方向T延伸區(qū)域的上方與下方，且第二扇區(qū)332與二第三扇區(qū)333之間的劃分接口平行于循軌方向T。
循軌線圈321大致與第一實(shí)施例相同，其有效線圈區(qū)域321a與第一扇區(qū)331及第二扇區(qū)332重迭，通電進(jìn)入循軌線圈321，可使線圈基板320產(chǎn)生沿著循軌方向T的出力。
本實(shí)施例中，各線圈基板320分別設(shè)有二聚焦線圈322，二聚焦線圈322其中之一的有效線圈區(qū)域332a與第二扇區(qū)332及一第三扇區(qū)333重迭，另一聚焦線圈322的有效線圈區(qū)域322a與第二扇區(qū)332及另一第三扇區(qū)333重迭，分別對二聚焦線圈322通入不同方向的電流，可與第二扇區(qū)332及第三扇區(qū)333產(chǎn)生交互作用形成勞倫斯力(Lorentz Force)，由于二聚焦線圈322對應(yīng)的第二扇區(qū)332、第三扇區(qū)333的相對位置相反，因此二聚焦線圈322朝向多極磁鐵330的極性不同時，會使得二聚焦線圈322產(chǎn)生不同方向的出力，而分別沿著聚焦方向F向上及向下出力。
本實(shí)施例中，各線圈基板320分別設(shè)有二傾斜線圈323，傾斜線圈323之一的有效線圈323a區(qū)域與第二扇區(qū)332及一第三扇區(qū)333重迭，另一傾斜線圈323的有效線圈區(qū)域323a與第二扇區(qū)332及另一第三扇區(qū)333重迭。進(jìn)行傾斜擺動時，二傾斜線圈323通入不同方向的電流，由于二傾斜線圈323對應(yīng)的第二扇區(qū)332、第三扇區(qū)333的相對位置相反，因此使二傾斜線圈323出力方向相同，而推動線圈基板320沿著聚焦方向F上下位移。此時只要讓位于物鏡承座(圖未示)二側(cè)的線圈基板320承受不同方向的受力，即可對物鏡承座產(chǎn)生一力偶作用，而使物鏡承座連同物鏡(圖未示)傾斜擺動。
如圖20、圖21及圖22所示，為本發(fā)明第四實(shí)施例所提供的一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，揭示另一種多極磁鐵及線圈基板對應(yīng)型態(tài)。其中圖20為多極磁鐵430的扇區(qū)劃分示意圖，圖21為線圈基板420上的循軌線圈421、聚焦線圈422及傾斜線圈423的劃分示意圖，圖22為多極磁鐵430的扇區(qū)及線圈基板420上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
其中多極磁鐵430被劃分為第一扇區(qū)431、第二扇區(qū)432及四第三扇區(qū)433，其中第一扇區(qū)431及第二扇區(qū)432皆呈現(xiàn)橫置的T字形，第一扇區(qū)431被磁化為S極，第二扇區(qū)432被磁化為N極。第一扇區(qū)431具有長形區(qū)域，沿著循軌方向T朝左側(cè)延伸，第二扇區(qū)432具有一長形區(qū)域，沿著循軌方向T朝右側(cè)延伸。第一扇區(qū)431與第二扇區(qū)432于多極磁鐵430的中段區(qū)域互相鄰接，且第一扇區(qū)431與第二扇區(qū)432鄰接部分，沿著聚焦方向F往上、下延伸，而使得第一扇區(qū)431與第二扇區(qū)432之間的劃分接口平行于聚焦方向F。
第三扇區(qū)433分別位于多極磁鐵的四個角落，位于附圖左側(cè)的二第三扇區(qū)433與第一扇區(qū)431互相鄰接，具有至少一劃分接口平行于循軌方向T，且被磁化為N極。位于附圖右側(cè)的二第三扇區(qū)433則與第二扇區(qū)432互相鄰接，具有至少一劃分接口平行于循軌方向T，而被磁化為S極。
線圈基板420具有一循軌線圈421及四聚焦線圈422，其中循軌線圈421位于線圈基板420的中段，對應(yīng)于多極磁鐵430的中段，使得循軌線圈421的有效線圈區(qū)域421a與第一扇區(qū)431、第二扇區(qū)432重迭。通電進(jìn)入循軌線圈421，可使循軌線圈421產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用，而推動線圈基板420沿著循軌方向T位移。
四聚焦線圈422位于線圈基板420的四個角落，位于附圖左側(cè)的二聚焦線圈422，與第一扇區(qū)431、第三扇區(qū)433的交會區(qū)域重迭，位于附圖右側(cè)的二聚焦線圈422，與第二扇區(qū)432、第三扇區(qū)433的交會區(qū)域重迭，通過通入電流的安排，可使聚焦線圈422帶動線圈基板420沿著聚焦方向F上下位移。當(dāng)要使物鏡承座(圖未示)沿著聚焦方向F上下位移時，使位于物鏡承座二側(cè)的線圈基板420于聚焦方向F受力方向相同，即可使物鏡承座沿著聚焦方向F上下位移。當(dāng)要使物鏡承座傾斜擺動時，使位于物鏡承座二側(cè)的線圈基板420于聚焦方向F的受力相反，就可以對物鏡承座產(chǎn)生一力偶，而使其傾斜擺動。
于本發(fā)明中，聚焦線圈與傾斜線圈可互換，或是通過同一組線圈，配合位于物鏡承座兩側(cè)的受力方向變化，即可產(chǎn)生直線受力或是力偶。以第四實(shí)施例為例，位于二線圈基板的聚焦線圈可以同時承受相同方向的受力，而帶動物鏡承座于聚焦方向F移動，也可以承受相反方向受力而產(chǎn)生一力偶，使物鏡承座傾斜擺動。亦可將四聚焦線圈分組，其二仍作為帶動物鏡承座進(jìn)行聚焦，另二聚焦線圈作為傾斜線圈，帶動物鏡承座傾斜擺動。
前述第一、第二、第三及第四實(shí)施例的多極磁鐵及平面線圈配置，采與對稱的型態(tài)，亦即二多極磁鐵及平面線圈都是相同的型態(tài)。但平面線圈或是多極磁鐵亦可為不同型態(tài)的組合，而呈現(xiàn)不對稱的型態(tài)。
如圖23及圖24所示，為本發(fā)明第五實(shí)施例所提供的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，包含有物鏡承座511、物鏡512、第一線圈基板520、第二線圈基板530、二多極磁鐵540、二軛鐵550、平行懸吊系統(tǒng)560及基座570。為方便說明，附圖中預(yù)先定義出一沿上下方向延伸的聚焦方向F，平行于線圈基板的循軌方向T，與聚焦方向F及循軌方向T垂直的基板法線方向R。
物鏡512以平行于T-R平面的姿態(tài)置于物鏡承座511上，可隨著物鏡承座511作動，而產(chǎn)生聚焦、循軌及傾斜等動作。
物鏡承座511具有一中空的容置部511a，第一線圈基板520及第二線圈基板530固定于此一容置部511a中。
第一線圈基板520上設(shè)有多個平面線圈，分別為二循軌線圈521及一聚焦線圈522，分別對應(yīng)于多極磁鐵540上的不同扇區(qū)。
第二線圈基板530上設(shè)有多個平面線圈，分別為二循軌線圈521、一聚焦線圈522及二傾斜線圈523，分別對應(yīng)于另一多極磁鐵540上的不同扇區(qū)。
平行懸吊裝置560包含有多個銅線561及一固定座562，其中各銅線561穿過物鏡承座511的兩側(cè)，使其一端連接固定座562上，用以接收電力輸入，而另一端分別連接于連接至不同線圈，將電力傳送至線圈，以產(chǎn)生磁力線。固定座562設(shè)于基座570的一側(cè)，使銅線562可支撐該物鏡承座511，而平行懸浮于基座570上方。
二軛鐵550設(shè)于基座570的頂面的中央，恰可位于該物鏡承座511的容置部511a中，各多極磁鐵540分別固定于二軛鐵550的內(nèi)側(cè)面，而第一線圈基板520及第二線圈基板530為互相抵靠，同時被夾置于二多極磁鐵540之間，而使各線圈對應(yīng)于二多極磁鐵540。由于第一線圈基板520及第二線圈基板530為互相抵靠，因此可僅采用一個多極磁鐵540，即可同時對第一線圈基板520及第二線圈基板530產(chǎn)生作用。
通過平行懸吊裝置560的支撐，將物鏡承座511連同第一線圈基板520、第二線圈基板530及物鏡512懸浮于基座570之上。此時只要對第一線圈基板520、第二線圈基板530上的各線圈輸入電流，與多極磁鐵540的不同扇區(qū)產(chǎn)生交互作用而產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)，就可以通過線圈出力方向的配置，讓第一線圈基板520、第二線圈基板530受到磁力驅(qū)動，產(chǎn)生上下、水平及傾斜擺動等位移動作。
如圖25、圖26及圖27所示，其中圖25為多極磁鐵540的扇區(qū)劃分示意圖，圖26為第一線圈基板520上的二循軌線圈521及聚焦線圈522的劃分示意圖，圖27為多極磁鐵540的扇區(qū)及第一線圈基板520上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
第一線圈基板520的二循軌線圈521及聚焦線圈522以平行于第一線圈基板520表面的方向(平行于T-F平面)纏繞，可為單層纏繞，亦可為多層纏繞。其中循軌線圈521呈現(xiàn)長橢圓形或長矩形，于聚焦方向F的長度大于循軌方向T的長度，其等位置分別靠近第一線圈基板520的二側(cè)邊緣。聚焦線圈522也是以平行于第一線圈基板520的方向(平行于T-F平面)纏繞，其位置大致位于第一線圈基板520的中央。
多極磁鐵540具有第一扇區(qū)541及第二扇區(qū)542，第一扇區(qū)541及第二扇區(qū)542分別位于多極磁鐵540的下半部及上半部，且第一扇區(qū)541具有一沿聚焦方向F延伸的長形區(qū)域，延伸至第二扇區(qū)542的一側(cè)邊。第二扇區(qū)542亦具有一沿聚焦方向F延伸的長形區(qū)域，延伸至第一扇區(qū)541的一側(cè)邊。使得第一扇區(qū)541與第二扇區(qū)542之間具有一平行于循軌方向T的劃分接口，及二平行于聚焦方向F的劃分接口。
如圖27所示，第一線圈基板520的循軌線圈521的有效線圈區(qū)域521a與第一扇區(qū)541及第二扇區(qū)542于循軌方向T的劃分接口重迭，通電進(jìn)入循軌線圈521，因勞倫斯力(Lorentz Force)作用，所以可控制電流方向來改變循軌線圈521出力方向，而推動第一線圈基板520位移。
如圖27所示，第一線圈基板520的聚焦線圈522的有效線圈區(qū)域522a與第二扇區(qū)542及第三扇區(qū)543于循軌方向T鄰接的部分重迭，通電進(jìn)入聚焦線圈522，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用，使聚焦線圈522出力。利用控制電流方向來改變聚焦線圈52的出力方向，即可推動第一線圈基板520沿著聚焦方向F位移。
如圖28及圖29所示，其中圖29為第二線圈基板530上的二循軌線圈531、聚焦線圈532及二傾斜線圈533的劃分示意圖，圖28為多極磁鐵540的扇區(qū)及第二線圈基板530上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
第二線圈基板530的二循軌線圈531的位置靠近第二線圈基板530的一側(cè)邊緣。聚焦線圈532的位置大致位于第二線圈基板530的中央。二傾斜線圈530的位置則靠近第二線圈基板530的另一側(cè)邊。
如圖28所示，第二線圈基板530的二循軌線圈531的有效線圈區(qū)域531a與第一扇區(qū)541及第二扇區(qū)542于循軌方向T的劃分接口重迭，通電進(jìn)入循軌線圈541，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向可改變循軌線圈541出力方向，即可以循軌線圈541產(chǎn)生的勞倫斯力(Lorentz Force)推動第二線圈基板530于循軌方向T位移。
如圖28所示，第二線圈基板530的聚焦線圈532的有效線圈區(qū)域532a與第二扇區(qū)542及第三扇區(qū)543于循軌方向T鄰接的部分重迭，通電進(jìn)入聚焦線圈532，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向可改變聚焦線圈532的出力方向，即可利用聚焦線圈532的勞倫斯力(Lorentz Force)推動第二線圈基板530沿著聚焦方向F位移。
如圖28所示，第二線圈基板530的二傾斜線圈533的有效線圈區(qū)域533a與第一扇區(qū)541及第二扇區(qū)542于循軌方向T的劃分接口重迭，通電進(jìn)入循軌線圈543，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向可改變循軌線圈543的出力方向，即使利用聚焦線圈532的勞倫斯力(Lorentz Force)推動第二線圈基板530于循軌方向T受力。
當(dāng)要使物鏡承座511產(chǎn)生于聚焦方向F的位移時，通電進(jìn)入第一線圈基板520及第二線圈基板530的聚焦線圈522、532，使二聚焦線圈522、532產(chǎn)生沿聚焦方向F的出力，而使第一線圈基板520及第二線圈基板530于聚焦方向F承受相同方向的受力，而帶動物鏡承座511于聚焦方向F上下位移。
當(dāng)要使物鏡承座511產(chǎn)生于循軌方向F的位移時，通電進(jìn)入第一線圈基板520及第二線圈基板530的循軌線圈521、531，使二循軌線圈521、531產(chǎn)生沿循軌方向F的出力，而使第一線圈基板520及第二線圈基板530于循軌方向F承受相同方向的受力，而帶動物鏡承座于聚焦方向F上下位移。
當(dāng)要使物鏡承座511傾斜擺動時，通入不同方向的電流進(jìn)入第二線圈基板530的傾斜線圈531中，使二傾斜線圈531于聚焦方向F的出力方向相反，因而產(chǎn)生一力偶轉(zhuǎn)動第二線圈基板530。由于第二線圈基板530的位置大致被固定于物鏡承座511的中央，因此可以順利地帶動物鏡承座511傾斜擺動。
第一線圈基板與與第二線圈基板可為任意型式的結(jié)合，同時可將不同作用的線圈任意配置于各線圈基板上。甚至只需要一個線圈基板，將其位置配置于物鏡承座的中心位置，即可通過線圈基板與多極磁鐵產(chǎn)生的直線推動力及力偶，來帶動物鏡承座進(jìn)行循軌、聚焦及傾斜等動作。
如圖30、圖31、圖32及圖33所示，為本發(fā)明第六實(shí)施例所提供的一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，揭示另一種多極磁鐵及線圈基板對應(yīng)型態(tài)。其中圖30為第一線圈基板620上的循軌線圈621、聚焦線圈622及二傾斜線圈623的劃分示意圖，圖31為多極磁鐵640的扇區(qū)及第一線圈基板620上各線圈互相對應(yīng)的示意圖，圖32為第二線圈基板630上的二循軌線圈631、聚焦線圈632及二傾斜線圈633的劃分示意圖，圖33為多極磁鐵640的扇區(qū)及第二線圈基板630上各線圈互相對應(yīng)的示意圖。
如圖32及圖33所示，第二線圈基板630的形式，以及與多極磁鐵640各扇區(qū)的對應(yīng)，大致與第五實(shí)施例相同，于此不再贅述，以下僅針對第一線圈基板620進(jìn)行說明。
如圖30所示，第一線圈基板620的循軌線圈621呈現(xiàn)長橢圓形或長矩形，于聚焦方向F的長度大于循軌方向T的長度，其位置靠近第一線圈基板620的一側(cè)邊緣。聚焦線圈622的位置大致位于第一線圈基板620的中央。二傾斜線圈620的位置則靠近第一線圈基板620的另一側(cè)邊。
如圖31所示，多極磁鐵640具有第一扇區(qū)641及第二扇區(qū)642，第一扇區(qū)641及第二扇區(qū)642分別位于多極磁鐵640的下半部及上半部，且第一扇區(qū)641具有一沿聚焦方向F延伸的長形區(qū)域，延伸至第二扇區(qū)642的一側(cè)邊。第二扇區(qū)642亦具有一沿聚焦方向F延伸的長形區(qū)域，延伸至第一扇區(qū)641的一側(cè)邊。使得第一扇區(qū)641與第二扇區(qū)642之間具有一平行于循軌方向T的劃分接口，及二平行于聚焦方向F的劃分接口。
如圖31所示，第一線圈基板620的循軌線圈621的有效線圈區(qū)域621a與第一扇區(qū)641及第二扇區(qū)642于循軌方向T的劃分接口重迭，通電進(jìn)入循軌線圈631，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向可改變循軌線圈621的出力方向，即可利用循軌線圈621的勞倫斯力(Lorentz Force)，推動第一線圈基板620于循軌方向T位移。
第一線圈基板620的聚焦線圈622的有效線圈區(qū)域622a與第二扇區(qū)642及第三扇區(qū)643于循軌方向T鄰接的部分重迭，通電進(jìn)入聚焦線圈622，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。利用控制電流方向可改變聚焦線圈622的出力方向，即可利用聚焦線圈622的勞倫斯力(Lorentz Force)，推動第一線圈基板620于聚焦方向F位移。
第一線圈基板620的二傾斜線圈623的有效線圈區(qū)域623a與第一扇區(qū)641及第二扇區(qū)642于循軌方向T的劃分接口重迭，通電進(jìn)入循軌線圈623，產(chǎn)生勞倫斯力(Lorentz Force)作用。通入不同方向的電流進(jìn)入第一線圈基板620之二傾斜線圈623中，使二傾斜線圈623于循軌方向T的出力方向相反，因而產(chǎn)生一力偶轉(zhuǎn)動第一線圈基板620。由于第一線圈基板620的位置大致被固定于物鏡承座(圖未示)的中央，因此可以順利地帶動物鏡承座傾斜擺動。
第一線圈基板620可單獨(dú)驅(qū)動物鏡承座，亦可與第二線圈基板630共同使物鏡承座作動，其等之搭配型態(tài)并不限定于第五、第六實(shí)施例的組合，可為各種型態(tài)的線圈基板組合。
當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明做出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，包含有一基座；一物鏡承座，懸浮于該基座上方，該物鏡承座具有一中空的容置部；一物鏡，置于該物鏡承座上；至少一多極磁鐵，設(shè)于該基座上，各該多極磁鐵分別具有多個扇區(qū)，且該多極磁鐵位于該物鏡承座的容置部；及二線圈基板，固定于該物鏡承座的容置部中，并對應(yīng)于該多極磁鐵之間，其中各該線圈基板分別具有一循軌線圈、一聚焦線圈及一傾斜線圈，與該多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后產(chǎn)生出力，并通過該電流的方向的改變而改變出力方向，而推動該物鏡承座位移或是傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，更包含有二軛鐵，固定于該基座上，該多極磁鐵固定于該等軛鐵之一的內(nèi)側(cè)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該線圈基板為互相抵靠。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該循軌線圈、該聚焦線圈及該傾斜線圈分別與該多極磁鐵上的相鄰二扇區(qū)重迭。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該循軌線圈、該聚焦線圈及該傾斜線圈以平行于線圈基板表面的方向纏繞。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該聚焦線圈環(huán)繞于該傾斜線圈的外周圍。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵包含有一第一扇區(qū)、一第二扇區(qū)及一第三扇區(qū)，其中該循軌線圈與該第一扇區(qū)與該第二扇區(qū)重迭，該聚焦線圈與第二扇區(qū)與第三扇區(qū)重迭，該傾斜線圈與該第二扇區(qū)與該第三扇區(qū)重迭。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵具有一第一扇區(qū)、一第二扇區(qū)、一第三扇區(qū)及一第四扇區(qū)，其中該第一扇區(qū)及該第四扇區(qū)位于該多極磁鐵的二邊緣，與該第二扇區(qū)鄰接；該第三扇區(qū)被第二扇區(qū)半包圍；又該線圈基板具有一循軌線圈、一聚焦線圈及二傾斜線圈，該循軌線圈與第一扇區(qū)及第二扇區(qū)重迭；該聚焦線圈與第二扇區(qū)及第三扇區(qū)重迭；各該傾斜線圈皆與該第二扇區(qū)及該第四扇區(qū)重迭。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵具有一第一扇區(qū)、一第二扇區(qū)及二第三扇區(qū)，又，該線圈基板具有一循軌線圈、二聚焦線圈及二傾斜線圈，其中該循軌線圈與該第一扇區(qū)及該第二扇區(qū)重迭；各該聚焦線圈其中的一該第二扇區(qū)及該第三扇區(qū)的一重迭，另一該聚焦線圈與第二扇區(qū)及另一第三扇區(qū)重迭。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該第一扇區(qū)的位置靠近該多極磁鐵的一側(cè)邊緣，且與該第二扇區(qū)鄰接，該第二扇區(qū)呈現(xiàn)T字形，具有一延伸的長形區(qū)域；該二第三扇區(qū)分別位于該第二扇區(qū)延伸的長形區(qū)域的上方與下方。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該線圈基板的傾斜線圈可產(chǎn)生不同方向的出力，借以對該物鏡承座產(chǎn)生一力偶。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該線圈基板具有二傾斜線圈，該二傾斜線圈可產(chǎn)生不同方向的出力，借以對該物鏡承座產(chǎn)生一力偶。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該二多極磁鐵具有不同型態(tài)的扇區(qū)劃分型態(tài)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該二線圈基板的該循軌線圈、該傾斜線圈及該傾斜線圈具有不同的型態(tài)及配置。
15.一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，包括有一基座；一物鏡承座，懸浮于該基座上方；一物鏡，置于該物鏡承座上；二多極磁鐵，設(shè)于該基座上，各該多極磁鐵分別具有多個扇區(qū)；及二線圈基板，固定于該物鏡承座，且各該線圈基板位于該二多極磁鐵之間，其中各該線圈基板分別具有至少一循軌線圈及多個傾斜線圈，與各該多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后產(chǎn)生出力，并通過該電流的方向的改變而改變出力方向，而推動該物鏡承座位移或是傾斜。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，更包含有二軛鐵，固定于該基座上，各該多極磁鐵分別固定于各該軛鐵的內(nèi)側(cè)面。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該線圈基板固定于該物鏡承座的二側(cè)，且該物鏡承座及各該線圈基板位于該二多極磁鐵之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該循軌線圈、該聚焦線圈及該傾斜線圈分別與各該多極磁鐵上的相鄰二扇區(qū)重迭。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該循軌線圈及各該聚焦線圈以平行于該線圈基板表面的方向纏繞。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵相鄰的扇區(qū)被磁化為不同磁極。
21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該聚焦線圈可產(chǎn)生不同方向的出力，借以對物鏡承座產(chǎn)生一力偶。
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該線圈基板的聚焦線圈可產(chǎn)生不同方向的出力，借以對該物鏡承座產(chǎn)生一力偶。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該二多極磁鐵具有不同型態(tài)的扇區(qū)劃分型態(tài)。
24.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該二線圈基板的該循軌線圈及各該傾斜線圈具有不同的型態(tài)及配置。
25.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該多極磁鐵具有一第一扇區(qū)、一第二扇區(qū)及四第三扇區(qū)，該循軌線圈與第一扇區(qū)及第二扇區(qū)重迭；各該聚焦線圈之二與該第一扇區(qū)及該第三扇區(qū)之二重迭，另二聚焦線圈與該第二扇區(qū)及另二該第三扇區(qū)重迭。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該第一扇區(qū)及第二扇區(qū)皆呈現(xiàn)橫置的T字形，且該第一扇區(qū)具有長形區(qū)域朝該多極磁鐵的一側(cè)延伸，該第二扇區(qū)具有一長形區(qū)域，朝該多極磁鐵的一側(cè)延伸，該第一扇區(qū)與該第二扇區(qū)于該多極磁鐵的中段區(qū)域互相鄰接；又，各該第三扇區(qū)分別位于該多極磁鐵的四個角落，分別與第一扇區(qū)與第二扇區(qū)鄰接。
27.一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，包括有一基座；一物鏡承座，懸浮于該基座上方；一物鏡，置于該物鏡承座上；至少一多極磁鐵，設(shè)于該基座上，該多極磁鐵具有多個扇區(qū)；一第一線圈基板，固定于該物鏡承座，具有一循軌線圈及一聚焦線圈，與該多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后產(chǎn)生一磁力線與各該扇區(qū)產(chǎn)生交互作用，而推動該物鏡承座位移；及一第二線圈基板，固定于該物鏡承座，具有一循軌線圈及一聚焦線圈及多個傾斜線圈，與該多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后產(chǎn)生出力，并通過該電流的方向的改變而改變出力方向，而推動該物鏡承座位移或是傾斜。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，更包含有二軛鐵，固定于該基座上，該多極磁鐵固定于各該軛鐵其中之一的內(nèi)側(cè)面。
29.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀取裝置，其特征在于，各該線圈基板固定于該物鏡承座的中段位置。
30.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該循軌線圈、各該聚焦線圈及各該傾斜線圈分別與該多極磁鐵上的相鄰二扇區(qū)重迭。
31.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該循軌線圈、各該聚焦線圈及各該傾斜線圈以平行于該線圈基板表面的方向纏繞。
32.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵相鄰的扇區(qū)被磁化為不同磁極。
33.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，各該傾斜線圈可產(chǎn)生不同方向的出力，借以對該物鏡承座產(chǎn)生一力偶。
34.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該多極磁鐵具有一第一扇區(qū)及一第二扇區(qū)，該第一扇區(qū)及該第二扇區(qū)分別位于該多極磁鐵的下半部及上半部，且該第一扇區(qū)具有一延伸至該第二扇區(qū)一側(cè)邊的長形區(qū)域，該第二扇區(qū)亦具有一延伸至該第一扇區(qū)一側(cè)邊的長形區(qū)域。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該第一線圈基板的該聚焦線圈及該循軌線圈與該第一扇區(qū)及該第二扇區(qū)的不同劃分接口重迭。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，其特征在于，該第二線圈基板的各該循軌線圈、該聚焦線圈及各該傾斜線圈與該第一扇區(qū)及該第二扇區(qū)的不同劃分接口重迭。
37.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)讀取致動裝置，其特征在于，該第二線圈的各該循軌線圈及各該傾斜線圈為可互換。
全文摘要
一種光學(xué)讀寫頭及其致動裝置，包括有一基座；一物鏡承座，懸浮于基座上方；一物鏡，置于物鏡承座上；二多極磁鐵，設(shè)于基座上，各多極磁鐵分別具有多個扇區(qū)；二線圈基板，固定于物鏡承座，且各線圈基板位于該二多極磁鐵之間，其中各線圈基板分別具有一循軌線圈、一聚焦線圈及一傾斜線圈，與各多極磁鐵上的不同扇區(qū)重迭，而可被通電后產(chǎn)生勞倫斯力(LorentzForce)，而推動該物鏡承座位移或是傾斜。
文檔編號G11B7/095GK1992012SQ20051013298
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月31日
發(fā)明者黃俊杰, 黃友謙, 朱朝居, 柯朝元, 吳智誠, 黃戴廷 申請人:財團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院