專利名稱：一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有磁讀裝置的磁頭定位技術(shù)，特別是一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
眾所周知，磁頭是磁讀裝置(如計算機(jī)硬盤)的重要部件， 一旦磁頭損壞，整個磁讀裝置就將報廢。因此，無論是設(shè)計還是使用中，均需要提供一些保護(hù)磁頭的方案和結(jié)構(gòu)。在實(shí)際使用過程中，磁頭的損壞主要由兩種原因造成
1、 磁頭過度使用后或長時間使用后的損壞。這種情況幾乎是無法避免的，人們只能通過合理的使用習(xí)慣并結(jié)合科學(xué)的設(shè)備維護(hù)手段來進(jìn)一步延長磁頭的使用壽命。
2、 磁頭在使用中與磁介質(zhì)發(fā)生撞擊造成磁頭損壞。這種情況主要發(fā)生在當(dāng)磁讀裝置開始使用時，磁頭通過下行機(jī)構(gòu)靠近磁介質(zhì)時，由于定位不準(zhǔn)造成磁頭與磁介質(zhì)發(fā)生劇烈的碰撞而造成磁頭損壞。雖然現(xiàn)有技術(shù)中的一些設(shè)備可以預(yù)先設(shè)置較為精確的磁頭下行位置，但由于磁介質(zhì)的厚度不同、使用環(huán)境的不同，磁頭與磁介質(zhì)撞擊損壞的情況仍然難于避免。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機(jī)構(gòu)，主要解決現(xiàn)有裝置中磁頭在下行時容易與磁介質(zhì)發(fā)生撞擊，造成磁頭損壞的技術(shù)問題，通過本方法和機(jī)構(gòu)可以大大降低磁頭損壞的幾率，延長磁讀裝置的使用壽命。
為解決上述問題，本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的
一種磁頭下行至工作位置的定位方法，其特征在于在磁頭開始由下行電機(jī)驅(qū)動往工作位置下行移動時，先將一定位框架推到磁頭下方且磁頭仍然不斷下移；當(dāng)?shù)竭_(dá)工作位置時，定位框架往上退回并露出磁頭同時讓下行電機(jī)停止下行。
一種磁頭下行至工作位置的定位機(jī)構(gòu)，用于實(shí)現(xiàn)如上所述的方法，其特征在于它包括由控制單元驅(qū)動的下行電機(jī)、與下行電機(jī)連接的框架、框架下端連接磁頭；該框架兩側(cè)豎直向下延伸二根平行的導(dǎo)柱，該導(dǎo)柱上設(shè)有滑槽；該磁頭外圍設(shè)有一定位框架，該定位框架下端為定位面、上端兩側(cè)具有延伸入滑槽的導(dǎo)桿，該導(dǎo)桿下端與滑槽下端之間設(shè)置由控制單元控制伸縮的伸縮機(jī)構(gòu)；該定位框架與框架之間設(shè)有啟動裝置，該啟動裝置用于在定位框架下行至工作位置時通過控制單元驅(qū)動定位框架退回露出磁頭同時控制下行電機(jī)停止運(yùn)行。
所述的磁頭下行至工作位置的定位機(jī)構(gòu)，其特征在于該啟動裝置為設(shè)置在框架上的一對紅外發(fā)射、接收裝置和設(shè)置在定位框架上的具有透孔的擋板，當(dāng)定位框架到達(dá)工作位置時，該透孔恰可使紅外發(fā)射信被接收。


圖l是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明中控制系統(tǒng)框圖。圖3是本發(fā)明的使用狀態(tài)示意圖。
圖中
l一下行電機(jī)；
2 —框架；
21、 22 —導(dǎo)柱；
211、 221—滑槽；
3—磁頭；
4 —定位框架；
41一定位面；
42 —導(dǎo)桿；
5—控制單元；
51—伸縮機(jī)構(gòu)；
52 —啟動裝置。
具體實(shí)施例方式
請參閱圖K2，本發(fā)明公開了一種磁頭下行至工作位置的定位機(jī)構(gòu)。如圖所示它包括由控制單元5驅(qū)動的下行電機(jī)1、與下行電機(jī)1連接
的框架2、框架2下端連接磁頭3;該框架2兩側(cè)豎直向下延伸二根平行的導(dǎo)柱21、 22，該導(dǎo)柱21、 22上設(shè)有滑槽211、 221;該磁頭3外圍設(shè)有一定位框架4，該定位框架4下端為定位面41、上端兩側(cè)具有延伸入滑槽211、 221的導(dǎo)桿42，該導(dǎo)桿42下端與滑槽2U、 221下端之間設(shè)置由控制單元5控制伸縮的伸縮機(jī)構(gòu)51;該定位框架4與框架2之間設(shè)有啟動裝置52，該啟動裝置52用于在定位框架4下行至工作位置時通過控制單元5驅(qū)動定位框架4退回露出磁頭同時控制下行電機(jī)停止運(yùn)行。
該機(jī)構(gòu)在進(jìn)行磁頭定位時，按照如下步驟進(jìn)行
1、 控制單元發(fā)送指令驅(qū)動下行電機(jī)使框架(磁頭)下行，同時驅(qū)
動伸縮機(jī)構(gòu)使定位框架推至磁頭下方；
2、 框架(磁頭)繼續(xù)下行，而定位框架在接觸到工作面后與框架下行方向作反方向運(yùn)動；
3、 當(dāng)框架(磁頭)下行至工作位置時，恰好觸發(fā)啟動裝置，該啟動裝置通過控制單元驅(qū)動伸縮機(jī)構(gòu)使定位框架退回磁頭上方并露出磁頭，同時控制下行電機(jī)停止運(yùn)行。
由此可見，通過上述機(jī)構(gòu)和定位控制流程，本發(fā)明可以完全避免磁頭在下行到工作位置時與磁介質(zhì)產(chǎn)生劇烈碰撞，以致于造成磁頭損壞的情況。
該啟動裝置可以是設(shè)置與定位框架和框架之間的按鈕結(jié)構(gòu)，也就是當(dāng)框架下移到工作面時，恰可觸發(fā)按鈕。
該啟動裝置52還可以是設(shè)置在框架2上的一對紅外發(fā)射、接收裝置和設(shè)置在定位框架4上的具有透孔的擋板，當(dāng)定位框架4到達(dá)工作位置時，該透孔恰可使紅外發(fā)射信號被接收。
綜上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用來限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。即凡依本發(fā)明申請專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化與修飾，都應(yīng)為本發(fā)明的技術(shù)范疇。
權(quán)利要求
1、一種磁頭下行至工作位置的定位方法，其特征在于在磁頭開始由下行電機(jī)驅(qū)動往工作位置下行移動時，先將一定位框架推到磁頭下方且磁頭仍然不斷下移；當(dāng)?shù)竭_(dá)工作位置時，定位框架往上退回并露出磁頭同時讓下行電機(jī)停止下行。
2、 一種磁頭下行至工作位置的定位機(jī)構(gòu)，用于實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求 1所述的方法，其特征在于它包括由控制單元(5)驅(qū)動的下行電 機(jī)(1)、與下行電機(jī)(1)連接的框架(2)、框架(2)下端連接磁頭(3) ;該框架(2)兩側(cè)豎直向下延伸二根平行的導(dǎo)柱(21、 22)，該 導(dǎo)柱(21、 22)上設(shè)有滑槽(211、 221);該磁頭(3)外圍設(shè)有一定 位框架(4)，該定位框架(4)下端為定位面(41)、上端兩側(cè)具有延 伸入滑槽(211、 221)的導(dǎo)桿(42)，該導(dǎo)桿(42)下端與滑槽(211、 221)下端之間設(shè)置由控制單元(5)控制伸縮的伸縮機(jī)構(gòu)(51);該 定位框架(4)與框架(2)之間設(shè)有啟動裝置(52)，該啟動裝置(52) 用于在定位框架(4)下行至工作位置時通過控制單元(5)驅(qū)動定位 框架(4)退回露出磁頭同時控制下行電機(jī)停止運(yùn)行。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁頭下行至工作位置的定位機(jī)構(gòu)，其 特征在于該啟動裝置(52)為設(shè)置在框架(2)上的一對紅外發(fā)射、 接收裝置和設(shè)置在定位框架(4)上的具有透孔的擋板，當(dāng)定位框架(4) 到達(dá)工作位置時，該透孔恰可使紅外發(fā)射信號被接收。
全文摘要
本發(fā)明涉及具有磁讀裝置的磁頭定位技術(shù)，特別是一種磁頭下行至工作位置的定位方法和定位機(jī)構(gòu)。在磁頭開始由下行電機(jī)驅(qū)動往工作位置下行移動時，先將一定位框架推到磁頭下方且磁頭仍然不斷下移；當(dāng)?shù)竭_(dá)工作位置時，定位框架往上退回并露出磁頭同時讓下行電機(jī)停止下行。它主要解決現(xiàn)有裝置中磁頭在下行時容易與磁介質(zhì)發(fā)生撞擊，造成磁頭損壞的技術(shù)問題，通過本方法和機(jī)構(gòu)可以大大降低磁頭損壞的幾率，延長磁讀裝置的使用壽命。
文檔編號G11B5/55GK101499285SQ200810033438
公開日2009年8月5日 申請日期2008年2月1日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月1日
發(fā)明者陳曉波, 敏 項(xiàng) 申請人:上海市閔行中學(xué);項(xiàng) 敏