專利名稱：磁盤驅(qū)動器懸架的制作方法
磁盤驅(qū)動器懸架
背景技術：
本發(fā)明涉及用在設有底盤以用作記錄介質(zhì)的信息處理設備中的磁盤驅(qū)動 器懸架。
用于在磁盤上記錄數(shù)據(jù)和從磁盤讀取數(shù)據(jù)的硬盤驅(qū)動器(HDD)包括可 圍繞樞軸轉(zhuǎn)動的承載件。該承載件通過定位電動機圍繞樞軸轉(zhuǎn)動。該承載件設 有臂(致動臂)、設置在臂的遠端部上的懸架、安裝在懸架的遠端部上的浮塊等。
該懸架設有包括基板、負載梁、設置在負載梁上方的撓曲件等。浮塊安裝 在形成在撓曲件的一部分上的舌部上。在負載梁的遠端部分處形成有凹窩或隆 起。凹窩朝向浮塊凸出，使其遠端鄰靠舌部。因此，浮塊由凹窩可擺動地支承。 當磁盤旋轉(zhuǎn)時，浮塊輕輕地在磁盤的表面上飛行，在磁盤和浮塊之間形成空氣 軸承。
這樣構造的懸架設有用于抑制舌部過度運動的裝置。在例如日本專利公開 第2002-133807中所揭示的磁盤驅(qū)動器懸架中，在負載梁的遠端部分上設有用 于限制撓曲件運動的限制件。
常規(guī)限制件包括一對臂部分、彎曲部分、保持部分等。臂部分分別從負載 梁的遠端部分的相對側(cè)向前延伸。彎曲部分從臂部分的相應遠端沿負載梁的厚 度基本上以直角彎曲。保持部分分別從彎曲部分的相應遠端向后延伸并分別與 撓曲件的支承部分相對。當舌部遠離凹窩移動時，限制件的保持部分鄰靠撓曲 件的支承部分，由此限制撓曲件擺動。
通過在負載梁的側(cè)部等上形成用于限制件形式的突起并使突起彎曲成預 定形狀而形成常規(guī)懸架的限制件。因此，常規(guī)懸架經(jīng)受限制件的質(zhì)量以及負載 梁的質(zhì)量，并且增加負載梁的質(zhì)量。如果用于限制件的突起形成為從負載梁的 一部分突出，那么，負載梁的構造(金屬板)還會不可避免地由于加上了突起 而擴大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種磁盤驅(qū)動器懸架，即使使用限制件也能夠抑制負 載梁的質(zhì)量的增加，并可防止負載梁的構造的擴大。
本發(fā)明是一種磁盤驅(qū)動器懸架，其包括負載梁；撓曲件，其設置在負載梁 上并包括其上安裝有浮塊的舌部； 一對彎曲邊緣部分，其通過將沿負載梁的相 對側(cè)邊緣延伸的區(qū)域沿負載梁的厚度方向彎曲而形成；凹窩，其支承舌部以進 行擺動；以及限制件，其抑制舌部的運動。限制件包括臂部分和保持部分，所 述保持部分形成在臂部分的遠端上并與舌部的各相對側(cè)上的支承部分相對，由 此限制舌部移動遠離凹窩。通過使沿負載梁的各相對側(cè)邊緣的設有各彎曲邊緣 部分的區(qū)域的一部分沿與彎曲邊緣部分的方向相反的方向彎曲而形成限制件 的臂部分和保持部分。
根據(jù)該設置，通過使用沿負載梁的各相對側(cè)邊緣延伸的區(qū)域上形成彎曲邊 緣部分的一部分而形成限制件。因此，不會由于限制件而增加負載梁的質(zhì)量。 此外，限制件并不要將負載梁的構造擴大。由于限制件支承凹窩附近舌部的各 側(cè)上的支承部分，其可有效地抑制舌部的過度運動。
在本發(fā)明的一個較佳方面中，負載梁的彎曲邊緣部分形成有限定限制件的 輪廓的孔，該孔由橋接部分所圍繞，橋接部分通過使彎曲邊緣部分的一部分沿 負載梁的長度延伸而形成。 一對限制件分別位于凹窩的相對側(cè)上。
例如，撓曲件的支承部分分別在舌部的相對側(cè)上突出，且各支承部分沿撓 曲件的厚度方向與限制件的保持部分相對。此外，偏置部分彎曲成使得靠近彎 曲邊緣部分的支承部分可分別設置在舌部和支承部分之間。
本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點會在以下說明書中闡述，并部分會從說明書中變 得明顯，或可從本發(fā)明的實踐中得以了解?？赏ㄟ^此后具體指出的工具和組合 來實現(xiàn)和得到本發(fā)明的目的和優(yōu)點。


包含在本說明書中并組成說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的實施例，與 以上給出的總體說明和以下給出的各實施例的詳細說明一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的磁盤驅(qū)動器懸架的立體圖； 圖2是圖1所示懸架的遠端部分的放大立體圖； 圖3是從浮塊的側(cè)面看的、圖2所示懸架的遠端部分的立體圖； 圖4是圖1的懸架的遠端部分的側(cè)視圖5沿圖4的線F5-F5截取的懸架的剖視圖；以及
圖6是示出帶有不彎曲邊緣部分的、圖1的懸架的負載梁的平面圖。
具體實施例方式
現(xiàn)將參照圖1至6描述本發(fā)明的一實施例。
圖1示出磁盤驅(qū)動器懸架(這里簡稱為懸架)10。懸架IO設有包括基板 11的基部12、固定到基部12的負載梁13、沿厚度方向設置在負載梁13上方 而具有傳導性的撓曲件14等。基部12固定到承載件的致動臂(未示出)。致 動臂通過包含在磁盤驅(qū)動器內(nèi)的定位電動機來轉(zhuǎn)動。
負載梁13的近側(cè)部分13a與基板11交疊固定。負載梁13的厚度范圍在 例如從約30至100pm。彈性鉸接部分15形成在負載梁13的近側(cè)部分13a上。 鉸接部分15形成在基部12附近并可沿厚度方向變形。
一對彎曲邊緣部分16分別形成在負載梁13的相對側(cè)部分上以增強負載梁 13的彎曲剛度。通過將負載梁13的沿相對側(cè)邊緣13c延伸的這些部分沿負載 梁13的厚度方向彎曲而形成彎曲邊緣部分16。在某些情況下，彎曲邊緣部分 16在本領域中稱為側(cè)軌或盒彎曲部分。
圖2示出懸架10的遠端部分。圖3是從圖2的相反側(cè)看的懸架10的遠端 部分的立體圖。具有傳導性的撓曲件14 (此后簡稱為"撓曲件")沿負載梁13 定位。撓曲件14設有金屬基底20、具有預定圖案的傳導件21等。金屬基底 20由比負載梁13薄的金屬板制成。傳導件21由其間的電絕緣材料沿金屬基底 20形成。撓曲件14的金屬基底20由厚度例如約20至25 (im的不銹鋼軋制板 制成。金屬基底20在預定位置通過激光焊接等固定到負載梁13上。
撓曲件14 一體地設有一對懸外支架部分25 (左和右)和舌部26作為可 移動部分。舌部26是具有彈性的金屬基底20的一部分并可沿撓曲件的厚度彈性彎曲。舌部26通過形成在負載梁13的遠端部分附近的連續(xù)部分27與外支 架部分25連接。
形成磁頭部分的浮塊30安裝在舌部26上。用作磁電轉(zhuǎn)換構件的換能器(未 示出)設置在浮塊30內(nèi)。浮塊30的端子31電連接到撓曲件14的傳導件21。
在負載梁13的遠端部分附近形成有凹窩40。如圖4和5所示，凹窩40 朝向舌部26突出。凹窩40的遠端與舌部26接觸。因此，舌部26與浮塊30 一起可沿橫搖方向R (圖3所示)、縱搖方向P等擺動。 一對支承部分50分 別在舌部26的相對側(cè)上單獨突出。該對支承部分50與限制件60 (稍后提到) 一起用于抑制浮塊30的運動。
如圖2和5所示，在舌部26和支承部分50之間分別設有偏置部分51。 偏置部分51彎曲成使支承部分50靠近彎曲邊緣部分16。通過使舌部26和支 承部分50之間的那些部分沿厚度方向彎曲而形成偏置部分51。偏置部分51 用于使從各支承部分50到負載梁13的主要部分13b的距離Gl (如圖5所示) 比從舌部26到負載梁13的主要部分13b的距離G2短。
如圖5所示，通過用沖壓等沿箭頭A的方向壓擠負載梁13的邊緣部分使 其形成相對于主要部分13b的L形而形成各彎曲邊緣部分16。各彎曲邊緣部 分16以不大于卯。的角如箭頭A所示相對于負載梁13的主要部分13b彎曲。
限制件60分別設置在負載梁13的相對側(cè)部分上，或者更具體地說，設置 在負載梁13的橫向相對側(cè)上，其間有凹窩40。這些限制件能夠限制舌部26 離開凹窩40并限制其以沿橫搖方向以預定角度或更大角度傾斜。因此，舌部 26的運動受到限制件60的抑制。
限制件60形成在負載梁13的部分上，或者更具體地說，形成在形成有彎 曲邊緣部分16的區(qū)域上。彎曲邊緣部分16沿負載梁13的相對側(cè)邊緣13c延 伸。各限制件60包括臂部分61和保持部分62。臂部分61沿與其相應彎曲邊 緣部分16相反的方向(由圖5中箭頭B指示)彎曲。保持部分62從臂部分 61沿負載梁13的縱長(或縱向)延伸。保持部分62沿厚度方向與撓曲件14 的其相應支承部分50相對。
具體地說，各限制件60包括沿負載梁13的厚度突出的臂部分61和形成 在臂部分61的遠端上的保持部分62。如圖4和5所示，撓曲件14的各相應支承部分50位于保持部分62和負載梁13的主要部分13b之間。在支承部分50 和負載梁13的主要部分13b之間限定有間隙Gl。在支承部分50和限制件60 的保持部分62之間限定有間隙G3。
由于支承部分50夾在負載梁13的主要部分13b和保持部分62之間，限 制舌部26離開凹窩40。當浮塊30沿橫搖方向圍繞凹窩40擺動時，限制件60 之一的保持部分62鄰靠其相應的支承部分50，由此抑制沿橫搖方向的運動。
圖6具有不彎曲的邊緣部分16的負載梁的一部分。通過將包括負載梁13 的沿縱向延伸的彎曲部分16a的相對側(cè)邊緣13c的區(qū)域沿厚度方向彎曲而形成 一對彎曲邊緣部分16。為了減輕負載梁13的重量，在包括彎曲邊緣部分16 的區(qū)域沿彎曲部分16a形成多個穿孔65。這些穿孔65通過例如蝕刻和完全穿 透負載梁13的厚度來形成。
在包括負載梁13的各相對側(cè)邊緣13c的區(qū)域的一部分上蝕刻出孔66。形 成孔66以限定各限制件60的臂部分61和保持部分62的輪廓。圍繞孔66形 成有橋接部分67。通過使各彎曲邊緣部分16的一部分沿負載梁13的長度延伸 而形成橋接部分67。圖6中由箭頭X指示的方向是負載梁13的縱向。箭頭Y 指示負載梁13的橫向。由于各限制件60沿與圖6所示的彎曲部分16b的其相 應彎曲邊緣部分16的方向相反的方向彎曲，所以其在彎曲部分16的相對側(cè)上 突出。
由于本實施例的各限制件60通過用負載梁13的各彎曲邊緣部分16的一 部分來形成，負載梁13的質(zhì)量不會由于它而增加。此外，限制件60并不要將 負載梁13的構造擴大。
如上所述，通過形成用于限定負載梁13的一部分上的其輪廓的孔66并使 限定件60沿與彎曲邊緣部分16的方向相反的方向彎曲而形成各限制件60。因 此，通過彎曲限制件60而在各彎曲邊緣部分16附近形成開口 66a。于是，可 進一步減輕負載梁13的質(zhì)量。
由于圍繞各開口 66a形成橋接部分67，所以各彎曲邊緣部分16沿負載梁 13的長度連續(xù)延伸而不中斷。因此，即使通過彎曲限制件60而形成開口66a， 橋接部分67仍可防止負載梁13剛度變低。
此外，本實施例的限制件60分別位于凹窩40的相對兩側(cè)上。因此，可有效地防止舌部26和浮塊30離開凹窩40或過度擺動。由于在舌部26和支承部 分50之間設有偏置部分51，所以，還可減小從各支承部分50到其相應彎曲部 分16b的距離。因此，可減小各限制件60的保持部分62的突出高度H (圖5 的右側(cè)所示)。
除了限制件60，在舌部26的后端(與連續(xù)部分27相對的一側(cè)上)形成 后部限制件80 (圖1至4所示)。后部限制件80與負載梁13的一部分81相 對，并限制舌部26沿圖3中箭頭Z的方向移動預定的距離或更長的距離。
應當理解，在實施本發(fā)明時，負載梁、撓曲件、限制件等的具體構造、形 狀和設置可實施為各種更改形式而不偏離本發(fā)明的范圍和精神。
對本領域的技術人員來說還可易于有其它優(yōu)點和更改。因此，本發(fā)明在其 更廣泛方面并不限于本文所示和所述的具體細節(jié)和代表性實施例。因而，可進 行各種更改而不偏離所附權利要求書和其同等物所限定的總體發(fā)明概念的精 神和范圍。
權利要求
1. 一種磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，包括負載梁(13)；撓曲件(14)，所述撓曲件設置在所述負載梁(13)上并包括其上安裝有浮塊(30)的舌部(26)；一對彎曲邊緣部分(16)，所述彎曲邊緣部分通過將沿所述負載梁(13)的相對側(cè)邊緣(13c)延伸的區(qū)域沿所述負載梁(13)的厚度方向彎曲而形成；凹窩(40)，所述凹窩支承所述舌部(26)以進行擺動；以及限制件(60)，所述限制件抑制所述舌部(26)的運動，其中所述限制件(60)包括臂部分(61)和保持部分(62)，所述保持部分(62)形成在所述臂部分(61)的遠端并與所述舌部(26)的各相對側(cè)上的支承部分(50)相對，由此限制所述舌部(26)遠離所述凹窩(40)移動，且所述限制件(60)的所述臂部分(61)和所述保持部分(62)是通過使沿所述負載梁(13)設有各所述彎曲邊緣部分(16)的各所述相對側(cè)邊緣(13c)的區(qū)域的一部分沿與所述彎曲邊緣部分(16)的方向相反的方向彎曲而形成的。
2. 如權利要求1所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述負載梁(13) 的所述彎曲邊緣部分(16)形成有用于限定所述限制件(60)的輪廓的孔(66)， 所述孔(66)由橋接部分(67)所圍繞，所述橋接部分(67)通過使沿所述負 載梁(13)的長度的所述彎曲邊緣部分(16)的一部分延伸而形成。
3. 如權利要求l所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述一對限制件 (60)分別位于所述凹窩(40)的相對側(cè)上。
4. 如權利要求2所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述一對限制件 (60)分別位于所述凹窩(40)的相對側(cè)上。
5. 如權利要求1所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述撓曲件(14) 的所述支承部分(50)分別在所述舌部(26)的相對側(cè)上突出，且各支承部分(50)沿所述撓曲件(14)的厚度方向與所述限制件(60)的所述保持部分(62) 相對。
6. 如權利要求2所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述撓曲件(14)的所述支承部分(50)分別在所述舌部(26)的相對側(cè)上突出，且各支承部分 (50)沿所述撓曲件(14)的厚度方向與所述限制件(60)的所述保持部分(62) 相對。
7. 如權利要求3所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述撓曲件(14) 的所述支承部分(50)分別在所述舌部(26)的相對側(cè)上突出，且各支承部分(50)沿所述撓曲件(14)的厚度方向與所述限制件(60)的所述保持部分(62) 相對。
8. 如權利要求4所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，所述撓曲件(14) 的所述支承部分(50)分別在所述舌部(26)的相對側(cè)上突出，且各支承部分(50)沿所述撓曲件(14)的厚度方向與所述限制件(60)的所述保持部分(62) 相對。
9. 如權利要求5所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，偏置部分(51) 彎曲成使得靠近所述彎曲邊緣部分(16)的所述支承部分(50)分別設置在所 述舌部(26)和所述支承部分(50)之間。
10. 如權利要求6所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，偏置部分(51) 彎曲成使得靠近所述彎曲邊緣部分(16)的所述支承部分(50)分別設置在所 述舌部(26)和所述支承部分(50)之間。
11. 如權利要求7所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，偏置部分(51) 彎曲成使得靠近所述彎曲邊緣部分(16)的所述支承部分(50)分別設置在所 述舌部(26)和所述支承部分(50)之間。
12. 如權利要求8所述的磁盤驅(qū)動器懸架，其特征在于，偏置部分(51) 彎曲成使得靠近所述彎曲邊緣部分(16)的所述支承部分(50)分別設置在所 述舌部(26)和所述支承部分(50)之間。
全文摘要
一種磁盤驅(qū)動器懸架(10)設有負載梁(13)和撓曲件(14)，所述撓曲件包括其上安裝有浮塊(30)的舌部(26)。通過將沿所述負載梁(13)的沿相對側(cè)邊緣延伸的區(qū)域沿厚度方向彎曲而形成一對彎曲邊緣部分(16)。限制件(60)形成在負載梁(13)的設有彎曲邊緣部分(16)的區(qū)域上。各限制件(60)包括臂部分(61)和保持部分(62)。在沿負載梁(13)的各側(cè)邊緣延伸的區(qū)域形成用于限定各限制件(60)的輪廓的孔(66)。各限制件(60)沿與各相應彎曲邊緣部分(16)的方向相反的方向彎曲。
文檔編號G11B5/48GK101465127SQ20081018395
公開日2009年6月24日 申請日期2008年12月17日 優(yōu)先權日2007年12月18日
發(fā)明者瀧川健一 申請人:日本發(fā)條株式會社