專利名稱：光拾取裝置的檢查方法以及光拾取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光拾取裝置的檢查方法以及利用該檢查方 法檢查合格后的光拾取裝置，特別是 一 種在評價使用于
HD—DVD(High Definition Digital Versatile Disc:高清晰度數(shù)字 多功能光盤)的記錄/再現(xiàn)的光拾取裝置的特性時使用的較佳的 光拾取裝置的檢查方法。并且，涉及一種利用該檢查方法檢查 合格后的光拾取裝置。
背景技術(shù)：
在使用激光來光學地進行信號再現(xiàn)以及/或者信號記錄的 光盤中，作為使用藍紫色(藍色)的激光(例如405nm)實現(xiàn)記錄密 度高于DVD(Digital Versatile Disc:數(shù)字多功能光盤)的光盤標 準，已知有HD—DVD標準。在直徑12cm的HD—DVD中，在記錄 層單層中能夠記錄大約15 G字節(jié)的數(shù)據(jù)，在記錄層雙層中能夠 記錄大約30G字節(jié)的數(shù)據(jù)。在這些記錄層單層和雙層的光盤中 各自反射率等不同，另外，在雙層型的光盤中產(chǎn)生記錄層的層 間分離、層間串擾這種問題，因此，在能夠再現(xiàn)這些光盤的光 拾取裝置中要求較高的光學性能。
另外，由于使用的激光波長縮短、被再現(xiàn)的記錄標記變小、 記錄密度高密度化，因此由于光盤的傾斜等機械特性而再現(xiàn)/ 或者記錄狀態(tài)變化較大。因此，在最佳的光拾取器中要求即使 光盤發(fā)生狀態(tài)變化也能夠得到良好的再現(xiàn)性能。并且，使用的 激光波長縮短，因而在雙層型的媒體中的層間串擾等影響變大， 要求即使在多層型的媒體中也能夠得到良好的再現(xiàn)性能的特
6性。
因此，要使用各種方法/光盤來評價光拾取器，需要非常多 的時間、裝置，在成本上成為非常大的負擔。
另外，例如在光盤中記錄檢查用數(shù)據(jù)之后，評價再現(xiàn)該檢 查用數(shù)據(jù)得到的再現(xiàn)數(shù)據(jù)，來檢查在光盤裝置中使用光盤的記 錄再現(xiàn)的光拾取裝置(參照專利文獻l)。
如專利文獻l所示，例如根據(jù)再現(xiàn)信號是否良好的判斷、抖 動值以及數(shù)據(jù)錯誤率來評價光拾取裝置，其中，通過測量由光 拾取裝置讀取并被波形整形而得到的再現(xiàn)信號的波形形狀來判 斷再現(xiàn)信號是否良好，根據(jù)二值化后的數(shù)字再現(xiàn)信號來測量抖 動值。
另夕卜，在HD一DVD標準中，采用高密度化技術(shù)的 PRML(Partial Response and Maximum Likelihood: 局部響應與 最大相似)作為再現(xiàn)信號的二值化方式，因此作為評價指標無法 采用再現(xiàn)信號的4牛動，而采用PRSNR(Partial Response Signal-to-Noise Ratio:局部響應信噪比)和SbER(Simulated bit Error Rate:模擬位誤碼率)代替。
在評價HD一DVD標準的光盤、光盤裝置、光拾取裝置中的 任一個時都采用PRSNR、 SbER，例如在評價HD—DVD-R光盤 時，除了該PRSNR、 SbER以外，記錄功率、反射率、信號調(diào)制 度等也成為評價項目(參照非專利文獻l)。
專利文獻l:日本特開2004-280978號公報
非專利文獻l:東芝評論(東芝k匕、、二 一)Vo1.61 No.11 (2006) HD DVD-R光盤(24 27頁)
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明要解決的問題
另外，與HD—DVD標準光盤對應的HD—DVD用光拾取裝置 的規(guī)格因制造商不同而各不相同，所采用的部件、功能各種各 樣。另外，由于制造工序中的部件安裝、部件自身的制造偏差 等，光拾取器的性能變化較大。并且，每個制造商以獨自的方 法對光拾取裝置進行質(zhì)量管理。因此，存在如下問題每個制 造商的光拾取裝置的性能、質(zhì)量偏差較大，在用戶作為播放器、 驅(qū)動器等光盤裝置而使用的情況下無法得到滿意的性能。
即，當前還沒有建立對HD一DVD用等密度高于DVD標準的
高密度光盤的光拾取裝置的性能進行評價的方法。因此，對于 光盤裝置的開發(fā)制造商來說，無法利用與光拾取裝置制造商相 同的方法評價光拾取裝置，難以進行質(zhì)量管理，并且存在性能 評價費時間的問題。
本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的，其目的在于提供一 種利用使用測試光盤的信號再現(xiàn)對光拾取裝置的性能進行評價 的檢查方法。并且本發(fā)明其目的在于提供一種即使是光拾取裝 置制造商以外者也能夠利用容易且簡單的方法評價光拾取裝置 的性能的檢查方法。
另外，其目的在于通過使用這些檢查方法來排除低劣的光 拾取裝置，提供具有充分的再現(xiàn)性能的光拾取裝置。
用于解決問題的方案
鑒于上述問題，本發(fā)明具有以下特征。
第l發(fā)明是一種光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，根據(jù) 使用了記錄層為單層的第一測試光盤和記錄層為雙層的第二測 試光盤的至少兩種以上的測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾
8取裝置。由此，能夠根據(jù)再現(xiàn)信號來檢查光拾取裝置，能夠與 制造商無關(guān)地利用固定的評價方法進行光拾取裝置的質(zhì)量管 理。
第2發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征
在于，檢查具備NA在0.6以上的物鏡的光拾取裝置。
第3發(fā)明是根據(jù)第1或第2發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其 特征在于，利用上述測試光盤的軌道間距大致在0.6 8 p m以下的 區(qū)域的再現(xiàn)信號評價來對光拾取裝置進行評價。
第4發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用波長4 5 0 n m以下的光學系的再現(xiàn)信號評價來對光拾 取裝置進行評價。
第5發(fā)明是根據(jù)第1發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用使用了上述記錄層為單層的第一測試光盤、上述記 錄層為雙層的第二測試光盤、用于驗證致動器的動作的測試光 盤的至少三種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。由 此，能夠根據(jù)再現(xiàn)信號對致動器的性能進行評價。能夠與制造 商無關(guān)地利用固定的評價方法進行光拾取裝置的質(zhì)量管理。
第6發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，根據(jù)使用了上述記錄層為單層的第一測試光盤、上述記 錄層為雙層的第二測試光盤、作為用于驗證上述致動器的動作 的測試光盤的第三測試光盤、第四測試光盤、第五測試光盤的 至少五種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置，其中， 所述第三測試光盤是產(chǎn)生盤面抖動評價用的盤面抖動的形態(tài)測 試光盤，所述第四測試光盤是具有傾斜評價用的變形的形態(tài)的 測試光盤，所述第五測試光盤是具有偏心評價用的偏'"、的觀試光盤。由此，能夠與制造商無關(guān)地利用固定的評價方法進行光 拾取裝置的質(zhì)量管理。
第7發(fā)明是根據(jù)第6發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征
在于，在上述第三測試光盤內(nèi)形成有上述盤面抖動大致為
0.4mmp-p以上的區(qū)域。
第8發(fā)明是根據(jù)第6發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，在上述第四測試光盤內(nèi)形成有傾斜大致為0.8。以上的區(qū)域。
第9發(fā)明是根據(jù)第6發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，在上述第五測試光盤內(nèi)存在形成有偏心大致為lOOfimp-p 的區(qū)域。
第IO發(fā)明是根據(jù)第6發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，特征在 于，增加使用了第六測試光盤的再現(xiàn)信號評價，利用使用了至 少六種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置，其中，第 六測試光盤是具有產(chǎn)生再現(xiàn)錯誤的缺陷區(qū)域的測試光盤。
第ll發(fā)明是根據(jù)第IO發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，形成上述第三測試光盤的盤面抖動使其在半徑5 7 m m 附近大致成為0.4mmp-p。
第12發(fā)明是根據(jù)第IO發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，在上述第六測試光盤內(nèi)形成有大致2 0 0 ji m的黑色斑點。
第13發(fā)明是根據(jù)第IO發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，利用在缺陷區(qū)域內(nèi)的PI錯誤評價來進行上述第六測試 光盤的再現(xiàn)信號評價。
第14發(fā)明是根據(jù)第IO發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，使用上述六種測試光盤之中的至少一張，利用光拾取裝置的再現(xiàn)信號的P R S N R的評價結(jié)果對光拾取裝置進行評價。
第15發(fā)明是根據(jù)第IO發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，利用FSM調(diào)制方式對上述第六測試光盤進行調(diào)制。
第16發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，以O(shè)TP形成上述第二測試光盤的螺旋方向。
第17發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，上述第二測試光盤的中間層的厚度構(gòu)成為14jim 25(im。
第18發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，利用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，利用在同一測試光盤內(nèi)準備的軌道間距不同的區(qū)域的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。
第19發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，利用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，利用在同 一 測試光盤內(nèi)準備的B C A區(qū)域的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。
第20發(fā)明是根據(jù)第l發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，利用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，通過改變溫度環(huán)境來評價再現(xiàn)信號，由此檢查光拾取裝置。
第21發(fā)明是利用第1 20中的任一項發(fā)明的光拾取裝置的檢查方法檢查出的合格的光拾取裝置。由此，所提供的光拾取裝置全部能夠適當?shù)剡M行信號再現(xiàn)。
發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能夠評價實用上滿足充分的性能的光拾取裝置的光拾取裝置的檢查方法。由此，能夠排除與密度高于DVD的高密度光盤對應的HD—DVD用等光拾取裝置的低
ii'上、口 力口o 0
另外，根據(jù)本發(fā)明，利用測試光盤的數(shù)據(jù)區(qū)域和比該數(shù)據(jù) 區(qū)域靠近內(nèi)周側(cè)的規(guī)定區(qū)域進行使用第一以及/或者第二測試 光盤的再現(xiàn)信號評價，因此能夠使用測試光盤的廣范圍的區(qū)域 進行有效的評價。
并且，利用光盤最外周部進行使用第三測試光盤的盤面抖 動評價、使用第四測試光盤的傾斜評價、使用第五測試光盤的 偏心評價、使用第六測試光盤的缺陷評價中的至少一個，因此 能夠用在再現(xiàn)信號評價中使用的多個光盤來評價光盤的從內(nèi)周 到外周的整個面的特性。
特別是，光盤外周部的變化量較大的區(qū)域成為使用第三測 試光盤的盤面抖動評價、使用第四測試光盤的傾斜評價的評價 對象，因此通過嚴格的評價能夠驗證對于盤面抖動、傾斜的可靠性。
另外，根據(jù)本發(fā)明，通過使用至少六張測試光盤的評價， 能夠提供實用上具備充分的性能的、保持固定質(zhì)量的光拾取裝 置。
在對與密度高于DVD的高密度光盤對應的光拾取裝置進 行評價的方法中，能夠使用盡可能少的光盤對實用上滿足充分 性能的光拾取裝置進行評價，能夠正確判斷低劣的光拾取裝置 的不足的性能。


圖1是表示實現(xiàn)本發(fā)明所涉及的光拾取裝置的檢查方法的 光拾取裝置的檢查裝置的一例的電路框圖。
圖2是表示在圖1所示的光拾取裝置的檢查裝置中的第 一 檢 查或者第二檢查方法的流程圖。圖3是表示在圖l所示的光拾取裝置的檢查裝置中的第三檢查、第四檢查或者第五檢查方法的流程圖。
圖4是表示在圖l所示的光拾取裝置的檢查裝置中的第六檢
查方法的流程圖。
圖5是說明基于HD一DVD-ROM的物理標準的單層光盤(SL測試光盤)的區(qū)域布局的說明圖。
圖6是說明基于HD—DVD-ROM的物理標準的雙層光盤(DL測試光盤)的區(qū)域布局的說明圖。
圖7是說明HD一DVD-ROM的物理標準的系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域以及數(shù)據(jù)區(qū)域的主要參數(shù)的說明圖。
圖8是利用眼圖說明各標記長度的HF信號的信號強度電平的說明圖。
圖9是表示生成DPD信號的跟蹤錯誤信號生成電路的電路框圖。
圖IO是說明由圖9的跟蹤錯誤信號生成電路生成的DPD信號的說明圖。
圖ll是表示SL測試光盤的截面結(jié)構(gòu)的概要圖。
圖12是表示DL測試光盤的截面結(jié)構(gòu)的概要圖。
圖13是表示DL光盤的中間層的層間串擾量的模擬結(jié)果的圖。
附圖標記說明
1:光拾取裝置；2:激光控制電路；3:激光驅(qū)動電路；4:前置放大器；5:伺服電路；7:時鐘生成電路；8: PRML譯碼電路；9:譯碼器；10:評價系統(tǒng)；11:再現(xiàn)信號評價部；12:伺服信號評價部；13: PRSNR評價部；14: SbER評價部；15:PI錯誤評價部；101:基板；102:記錄層；103:粘接層；104:基板；105:印刷層；201:基板；202: L0層；203:中間層；204: Ll層；205:基板；206:印刷層。
具體實施例方式
圖l是表示實現(xiàn)本發(fā)明所涉及的光拾取裝置的檢查方法的光拾取裝置的檢查裝置的一例的電路框圖，該檢查裝置的檢查對象適合于與密度高于DVD的高密度光盤對應的光拾取裝置，在本實施例中是與HD—DVD標準的HD—DVD用光盤對應的光拾取裝置。
在圖1中，與HD—D VD標準對應的規(guī)格(例如激光波長405nm、物4竟的NA(numerical aperture:凄K直孑l^圣)0.65)的光才合取裝置l根據(jù)激光控制電路2的控制，通過激光驅(qū)動電路3驅(qū)動激光光源來對HD—DVD用光盤D照射激光，通過光檢測器la來接受來自該光盤D的反射光。
將從光檢測器1 a的各感光區(qū)域分別產(chǎn)生的各感光輸出提供給前置放大器4，前置放大器4運算這些各感光輸出并分別生成光盤的主信號的HF信號(高頻信號)、聚焦錯誤信號、跟蹤錯誤信號、傾斜錯誤信號。
伺服電路5根據(jù)上述聚焦錯誤信號進行使激光聚焦在光盤的信號面上的聚焦控制、根據(jù)上述跟蹤錯誤信號進行使激光跟蹤光盤的信號軌道的跟蹤控制，并且進行將光拾取裝置l自身傳送到光盤的徑方向的螺紋傳送控制、以及根據(jù)上述傾斜錯誤信號進行使激光相對于光盤的信號面垂直照射的傾斜控制。
規(guī)定的固定線速度對轉(zhuǎn)動驅(qū)動光盤的主軸馬達6進行驅(qū)動的主軸控制。在本實施例中，只要不特別預先說明就以6Alm/s進行驅(qū)動。
PRML(Partial Response and Maximum Likelihood)i奪石馬電3各8將從前置放大器4輸出的HF信號譯碼為二值化數(shù)據(jù)信號，譯碼器9根據(jù)該二值化數(shù)據(jù)信號進行ETM解調(diào)或者FSM解調(diào)，同時根據(jù)HD一DVD標準光盤的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)對各種數(shù)據(jù)進行解調(diào)，其中，ETM解調(diào)是與作為HD一DVD標準所采用的調(diào)制碼的ETM(Eightto Twelve Modulation: 8數(shù)據(jù)位/12信道位調(diào)制)相應的解調(diào)，F(xiàn)SM解調(diào)是在HD—DVD是中國標準(CH—DVD)的光盤的情況下、與作為該CH—DVD的調(diào)制碼的FSM(Four to Six Modulation:4數(shù)據(jù)位/ 6信道位調(diào)制)相應的解調(diào)。
評價系統(tǒng)10由各種測量單元(未圖示)構(gòu)成，具有多個評價部，其中，上述各種測量單元被使用于對檢查光拾取裝置l的質(zhì)量所需的各種項目進行評價，上述多個評價部利用這些各種測量單元的測量值評價上述各種項目，包括再現(xiàn)信號評價部ll、伺服信號評價部12、 PRSNR評價部13、 SbER(Simulated bit ErrorRate)評價部14以及PI4晉誤評價部15 。
如以上那樣構(gòu)成的光拾取裝置的檢查裝置構(gòu)成為在直到與HD—DVD標準的光盤對應的光盤再現(xiàn)裝置的譯碼器為止的結(jié)構(gòu)中添加評^介系統(tǒng)10。
在利用圖l的光拾取裝置的檢查裝置來檢查光拾取裝置的情況下，在檢查裝置上安裝所檢查的光拾取裝置并執(zhí)行圖2 圖4的各流程圖所示的檢查。
在此，使用圖5、圖6說明基于HD—DVD-ROM的物理標準的直徑12cm的單層光盤即所謂的SL(Single Layer:單層)光盤、以及直徑12cm的雙層光盤即所謂的DL(Dual Layer:雙層)光盤的區(qū)域布局。
如圖5所示，SL測試光盤從內(nèi)周向外周依次為BCA(BurstCutting Area:燒錄區(qū)域)、系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域、連接區(qū)域、數(shù)據(jù)導入?yún)^(qū)域、數(shù)據(jù)區(qū)域以及數(shù)據(jù)導出區(qū)域。如圖6所示，DL測試光盤(OTP(Opposite Track Path:逆光道路徑)型)接近光拾取裝置的L0信號層沿著數(shù)據(jù)的排列順序從內(nèi)周向外周依次為系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域、連接區(qū)域、數(shù)據(jù)導入?yún)^(qū)域、數(shù)據(jù)區(qū)域以及中間區(qū)域，遠離光拾取裝置的L1信號層沿著數(shù)據(jù)的排列順序從外周向內(nèi)周依次為中間區(qū)域、數(shù)據(jù)區(qū)域、數(shù)據(jù)導出區(qū)域、連4妄區(qū)i4、系統(tǒng)導出區(qū)域以及BCA。
另夕卜，HD—DVD-ROM光盤的物理標準的系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域和數(shù)據(jù)區(qū)域的主要參數(shù)如圖7所示，設(shè)定為系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的位長、標記長度以及軌道間距比數(shù)據(jù)區(qū)域的大，系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的記錄密度低于數(shù)據(jù)區(qū)域的記錄密度。
將作為第 一 測試光盤的S L測試光盤放置到光拾取裝置的檢查裝置上，按照圖2所示的流程圖執(zhí)行第一檢查。
當放置光盤并開始光盤再現(xiàn)時(步驟a、 b),將光拾取裝置l的跟蹤位置設(shè)定在系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域，首先開始系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的再現(xiàn)來執(zhí)行使用了該系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的檢查(步驟c)。由評價系統(tǒng)IO評價抖動、調(diào)制度、不對稱以及DPD(Differential PhaseDetection:微分相位識別)法的跟蹤錯誤信號的DPD信號來進行使用了該系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的檢查。系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域位于光盤的內(nèi)周部分，能夠適當?shù)卦佻F(xiàn)該區(qū)域成為驗證光盤在內(nèi)周部分的再現(xiàn)特性。另夕卜，系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的軌道間距為0.68iam，能夠驗證可再現(xiàn)2T^0.408nm的標記的情形。
當使用系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的檢查結(jié)束時，將光拾取裝置1的跟蹤位置從光盤中心驅(qū)動至半徑41 m m的位置，接著才丸行使用了 It據(jù)區(qū)域的檢查(步驟d)。半徑41mm的位置位于光盤中周的位置，
通過該檢查來驗證在光盤中周區(qū)域的再現(xiàn)性能。另外，數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距為0.4pm，能夠驗證可再現(xiàn)2T=0.204|im的標記的情形。由評價系統(tǒng)10評價PRSNR、 SbER、調(diào)制度、不對稱以及DPD信號來進行使用了該數(shù)據(jù)區(qū)域的檢查。并且，在沒有特別進行指示的情況下，通常在室溫(25。C)的環(huán)境下進行評價，在0°C以及60。C的溫度環(huán)境下由評價系統(tǒng)IO至少進行PRSNR的評價。這是由于激光的發(fā)光波長、所使用的光學部件的特性根據(jù)周圍的環(huán)境溫度而發(fā)生變化、再現(xiàn)特性隨之發(fā)生較大變化，因此要驗證不會產(chǎn)生由溫度變化而引起的特性惡化。在該PRSNR評價中產(chǎn)生問題的情況下，另外進行DPD信號等溫度依賴性的檢查，由此能夠確定惡化原因。在該溫度環(huán)境下的驗證中，將光拾取裝置和光盤設(shè)置在期望的溫度環(huán)境下，保持環(huán)境溫度固定，在放置固定時間之后進行評價。此時，優(yōu)選為保持點亮激光的狀態(tài)放置兩個小時以上，使得不會由于激光點亮的光拾取裝置和光學部件的急劇溫度變化引起評價結(jié)果產(chǎn)生誤差。通過在環(huán)境溫度下至少設(shè)置固定時間，能夠進行增加了由激光發(fā)光元件的溫度變化引起的波長偏移/射出功率變動等的驗證。
當使用數(shù)據(jù)區(qū)域的檢查結(jié)束時，將光拾取裝置1的跟蹤位置設(shè)定在BCA上，執(zhí)行使用了BCA的檢查(步驟e)。由評價系統(tǒng)IO評價調(diào)制度來進行使用了該BCA的檢查。該BCA與通常的坑、槽形狀不同，驗證光拾取裝置1在條形碼那樣反射率間歇變化的區(qū)域內(nèi)能夠再現(xiàn)BCA區(qū)域的情形。在BCA評價時，將光盤的轉(zhuǎn)速設(shè)為2760rpm。能夠驗證存在于光盤的最內(nèi)周位置、在光盤最內(nèi)周能夠再現(xiàn)的情形。
對使用以上的第 一測試光盤的第 一檢查的判斷(步驟f)結(jié)杲為第 一檢查全部合格的光拾取裝置1繼續(xù)執(zhí)行接下來的檢查(步驟g)。另一方面，將第一檢查不合格的光拾取裝置l視為沒有滿足必要性能，在這種情況下，作為對SL測試光盤的對應程度不足而認定為次品(步驟h)。
17此外，為了使光拾取裝置1的跟蹤位置移動至光盤的規(guī)定的 半徑距離，例如在光拾取裝置l的傳送機構(gòu)內(nèi)設(shè)置電位計并通過 該電位計來檢測光拾取裝置1的移動位置。
在本實施例中依次說明了各一全查項目，但是才企查順序并不
限定于這些，例如也可以先評價BCA區(qū)域。另外，在以大量生
產(chǎn)時等質(zhì)量管理的觀點進行的檢查中，只要能夠判斷為可再現(xiàn)
SL測試光盤即可，可以省略一部分項目，例如^又評1"介中周的 PRSNR。另外，也可以適當改變評價半徑位置等，只要根據(jù)使 用第 一 測試光盤的第 一 檢查的判斷能夠驗證可再現(xiàn)S L測試光 盤即可。但是，在表示與后面的評價組合后能夠評價光盤的整 個面時，優(yōu)選為至少在BCA、系統(tǒng)導入、光盤中周位置進行評 價。
圖ll示出在本申請的實施例中使用的SL測試光盤的截面 結(jié)構(gòu)。具有從光拾取裝置起為基板101、記錄層102、粘接層103、 基板104、印刷層105這種結(jié)構(gòu)。將基板101的厚度設(shè)定為 0.600mm,將基板101的折射率設(shè)定為1.6(在波長405nm的情況下)。
基板IOI、 104由聚碳酸酯等波長400nm左右的激光容易透 過的材料形成。另外，還可以使用以聚烯烴、聚乳酸為主要成 分的生物分解性材料作為形成基板IOI、 104的材料。使用具有 軌道圖案(坑列)的母盤，通過射出成型來形成基板IOI。將母盤 上的軌道圖案復寫在基板101的表面上。從內(nèi)周向外周形成軌 道。
此外，優(yōu)選利用玻璃材料形成基板IOI。這是因為在改變溫 度環(huán)境的情況下在基板上能夠?qū)A斜、盤面抖動這種機械特性 的變化抑制得較小，在再現(xiàn)性能惡化的情況下能夠排除由光盤 引起的惡化。另外，當用玻璃形成基板時，在保管中、檢查時不容易留下光拾取裝置接觸光盤而產(chǎn)生的劃痕，即使在弄臟的
情況下也能夠容易擦干凈，能夠提高SL測試光盤的耐久性/可靠性。
在用玻璃形成基4反的情況下，在0.600mm的玻璃板上涂敷 紫外線硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上壓入具有軌道圖案的 母盤并照射紫外線。接著，從玻璃板上拉開母盤，由此將軌道 圖案復寫在玻璃板上。在這種情況下進行調(diào)整使得玻璃板和紫 外線硬化樹脂層加在一起的厚度為0.610mm。
在所形成的軌道圖案上由鋁、銀或者它們的合金等對所使 用的激光的波長具有高反射率的材料形成記錄層102。通過濺鍍
或者蒸鍍等方法在基板表面或者紫外線硬化樹脂上薄膜形成記 錄層102的材料。
為了使形成有記錄層102的基板101與基板104粘合而形成 粘接層103。在進行所述粘合時，在記錄層102的表面涂敷紫外 線硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上疊放基板104。接著，從基 板10 4側(cè)照射紫外線使紫外線硬化樹脂硬化。由此在中間形成記 錄層102的狀態(tài)下粘合基板101和基板104。此外，在此將基板 101、 104的厚度設(shè)為0.600mm，將折射率設(shè)為1.6,但是并不限 定于此，基板IOI、 104的厚度可以是0.58mm至0.62mm，折射 率可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的范圍內(nèi))。
也可以沒有印刷層105。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置l側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層105。
另外，下面示出第一檢查的各檢查的具體評價方法。 首先，使用圖8所示的眼圖說明使用于調(diào)制度、不對稱的各
檢查、被PRML譯碼電路8均衡而得到的各標記長度的HF信號的
信號強度電平。在圖8中，"Zero Level"表示在沒有光盤的狀態(tài)下的信號電 平，"I2，，表示最短標記長度(2T)的HF信號振幅，"I2L"表示以 "Zero Level"為基準的最短標記長度(2T)的HF信號的底部信號 電平，"I2H，，表示以"Zero Level"為基準的最短標記長度(2T)的 HF信號的峰值信號電平。同樣，"I3"表示標記長度(3T)的HF信 號振幅，"I3L"表示以"Zero Level"為基準的3T標記長度的HF信 號的底部信號電平，"I3H"表示以"Zero Level"為基準的3T標記 長度的HF信號的峰值信號電平，"I11"表示標記長度(11T)的HF 信號振幅，"IllL"表示以"Zero Level"為基準的IIT標記長度的 HF信號的底部信號電平，"IllH"表示以"Zero Level"為基準的 11T標記長度的HF信號的峰值信號電平。
例如測量由PRML譯碼電路8譯碼的二值化數(shù)據(jù)信號的各 標記長度的各脈寬的偏差來進行抖動的檢查，僅評價標記長度 和軌道間距大于數(shù)據(jù)區(qū)域的系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域，作為合格判斷的基 準要求所測量的抖動在8.0%以下。
在數(shù)據(jù)區(qū)域中,根據(jù)是否I11/I11H20.40并且I3/I1120.35來 進行調(diào)制度的評價，滿足這些要求成為合格判斷的基準。另一 方面，在系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域中，根據(jù)是否111/111H20.30并且 13/11120.5來進行調(diào)制度的評價，滿足這些要求成為合格判斷的 基準。
不對稱表示各HF信號振幅的中心偏移，在數(shù)據(jù)區(qū)域中，根 據(jù)在設(shè)公式l=[(IllH+IllL)/2-(I2H+I2L)/2]/Ill 、 公式 2=[(I11H+I11L)/2-(I3H+I3L)/2]/Il 1的情況下的公式l和公式2的 運算值是否都為 -0.1-0.1 、 以及在設(shè)公式 3=[(I3H+I3L)/2-(I2H+I2L)/2]/111的情況下的公式3的運算值是 否為-0.04 0.04來進行不對稱的評價，滿足這些所有要求成為 合格判斷的基準。另 一 方面，在系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域中，根據(jù)公式
1=[(I11H+I11L)/2-(I2H+I2L)/2]/Il 1的運算值是否為-0.05 0.15 來進行不對稱的評價，滿足該要求成為合格判斷的基準。
在說明DPD信號的評價之前，利用圖9所示的跟蹤錯誤信號 生成電路說明DPD信號的生成方法。
在接受來自光拾取裝置l的光盤D的反射光的光檢測器la 上形成的主感光部20—皮相互正交的分割線分割成四個部分。當 將從主感光部20的各分割區(qū)域分別輸出的各感光輸出設(shè)為Ia、 Ib、 Ic、 Id時，主感光部20的各個對角上的分割區(qū)域;波此相加得 到的第 一相加輸出(Ia+Ic)、第二相加輸出(Ib+Id)分別通過放大 器21、 22》文大，之后分別由二值化電路23、 24進行波形均衡， 并進行波形整形變換為二值化信號。由相位比較器25對二值化 后的第 一 相加輸出(Ia+Ic)和二值化后的第二相加輸出(Ib+Id)進 行相位比較，從相位比較器25產(chǎn)生[phase(Ia+Ic)-phase(Ib+Id)] 的DPD信號。當以橫軸表示光拾取裝置l的跟蹤位置向跟蹤方向 的移動量、以縱軸表示DPD信號的電壓電平時，該DPD信號成 為圖IO所示那樣的三角波信號。
通過截止頻率為30kHz的 一 階低通濾波器26提取從相位比 較器25產(chǎn)生的DPD信號作為削弱了圖IO的三角波信號的角的跟 蹤錯誤信號。
根據(jù)將以圖10所示的DPD信號[phase(Ia+Ic)-phase(Ib+Id)〗 的
為基準的各極性的振幅值分別設(shè)為T1 、 T 2的情況下 的相當于DPD信號的不對稱的(T卜T2)/(T1 +T2)的絕對值是否 為0.20max、以及光拾取裝置1的跟蹤位置向跟蹤方向(圖IO的橫 軸方向)移動0.05pm的DPD信號的振幅變化量At/T是否為 0.2 0.6來進行DPD信號的評價，滿足這些要求成為合格判斷的 基準。
21PRSNR是將來自光盤的再現(xiàn)信號波形與理想的信號波形 之間的背離數(shù)值化得到的數(shù)值，測量20個測量點、分別算出該 20個測量點的平均(prsnr(i))、標準偏差(prsnr(i)),根據(jù)運算 PRSNR^平均(prsnr(i))-2x標準偏差(prsnr(i))得到的值是否在15 以上來進行PRSNR的評價，滿足該要求成為合格判斷的基準。 進行PRSNR的評價的目的在于由于光盤的評價位置不同例如 光盤上的標記形成產(chǎn)生偏差、反射率發(fā)生變動，因此在增加根 據(jù)該偏差而P R S N R值發(fā)生變化的情形之后進^f亍評1^介。
另外，SbER是由于PRML信號處理的錯誤識別而產(chǎn)生的位 錯誤率的估計值，測量與PRSNR的評價時共用的20個測量點、 以及4吏用該20個測量點的平均(prsnr(i))、標準偏差(prsnr(i))運 算SbER-平均(prsnr(i))+2x標準偏差(prsnr(i)),根據(jù)該SbER的值 是否在5xlO」以下來進行SbER的評價，滿足該要求成為合格判 斷的基準。進行SbER評價的目的在于由于根據(jù)光盤的評價位 置不同例如光盤上的標記形成產(chǎn)生偏差、反射率發(fā)生變動，因 此在增加根據(jù)該偏差而S bER值發(fā)生變化的情形之后進行評價。
對第一檢查全部合格的光拾取裝置1接著進行第二檢查。使 用作為第二測試盤的DL測試光盤執(zhí)行該第二檢查，只是SL測試 光盤和DL測試光盤的測試光盤的形態(tài)不同，按照圖2所示流程 圖進行與第一檢查相同的檢查。在第二檢查中使用DL測試光 盤，由此能夠在系統(tǒng)導入、導出區(qū)域、數(shù)據(jù)區(qū)域中驗證DL測試 光盤特有的層間串擾、低反射率的影響。另外，能夠驗證能否 明確分離并再現(xiàn)接近光拾取裝置1的層即L0層202和遠離的層 即L1層204。圖12示出在本申請的實施例中使用的DL測試光盤 的截面結(jié)構(gòu)。具有從光拾取裝置1起為基板201、 L0層202、中 間層203、 Ll層204、基板205、印刷層206這種結(jié)構(gòu)。在此，將 中間層203的厚度(L0層202與L1層204的間隔)設(shè)為20[im、將基板201、 205的厚度設(shè)為0.590mm、將基板201、 205的折射率設(shè) 為1.6(在波長405nm的情況下)。
基板201、 205由聚碳酸酯等波長400nm左右的激光容易透 過的材料形成。另外，還能夠使用以聚烯烴、聚乳酸為主要成 分的生物分解性材料作為形成基板201、 205的材料。使用具有 軌道圖案(坑列)的母盤、通過射出成型來形成基板201、 205。 將母盤上的軌道圖案復寫在基板201、 205的表面上。
此外，優(yōu)選為利用玻璃材料形成基板201、 205兩者或者任 一個。這是因為在改變溫度環(huán)境的情況下在基板上能夠?qū)A斜、 盤面抖動這種機械特性的變化抑制得較小，在再現(xiàn)性能惡化的 情況下能夠排除由光盤引起的惡化。另外，當利用玻璃形成基 板時，在保管中、檢查時不容易留下光拾取裝置l接觸測試光盤 而產(chǎn)生的劃痕，即使在弄臟的情況下也能夠容易擦干凈，能夠 提高DL測試光盤的耐久性/可靠性。
在利用玻璃形成基板的情況下，在比0.590mm稍薄的玻璃 板上涂敷紫外線硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上壓入具有軌 道圖案的母盤并照射紫外線。接著，從玻璃板上拉開母盤，由 此將軌道圖案復寫在玻璃板上。在這種情況下，進行調(diào)整使得 玻璃板和紫外線石更化樹脂層加在一起的厚度為0.590mm。軌道 的螺旋圖案形成為在LO層202中從內(nèi)周向外周、在L1層中從外 周向內(nèi)周(OTP型)。利用銀合金等半透過材料在所形成的軌道 圖案上形成L0層202。另外，利用鋁、銀或者它們的合金等高 反射率材料形成L1層204。通過濺鍍或者蒸鍍等方法在基板表 面上薄膜形成這些L0層202、 Ll層204的材料。
利用對波長4 00n m左右的波長吸收率較低的紫外線硬化樹 脂形成中間層203。中間層203作為粘合層疊在L0層202上的基
23在進行所述粘合時，在L0層202的表面涂敷形成中間層的紫外 線硬化樹脂，在其上面重合L1層204。接著，從基板201側(cè)照射 紫外線來使紫外線硬化樹脂硬化。由此，以在L0層202和L1層 204之間形成中間層203的狀態(tài)粘合基板201和205。此外，在此， 將基板201、 205的厚度設(shè)為0.590mm、將折射率設(shè)為1.6,但是 并不限定于此，基板201、 205的厚度也可以是0.57至0.63mm、 折射率也可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的范圍內(nèi))。
由于需要驗證層間串擾的影響，因此中間層203的厚度也可 以是14(im至25pm的范圍。圖13是模擬中間層203的厚度與層間 串擾的關(guān)系的圖。從圖13可知，L0層202和L1層204的間隔(中 間層203的厚度)越小層間串擾越是增加，間隔在14nm以下時達
裝置中也難以分離層、無法正確再現(xiàn)期望的層。另外，在厚度 厚于25pm時串擾的影響極小到20%以下。因此，只要將中間層 2 0 3的厚度設(shè)定為最難進行層間分離的14 (x m以上至表示能夠判 斷串擾的影響的串擾量20 %的25pm以下的范圍即可。
另一方面，成為在DL測試光盤的結(jié)構(gòu)、檢查方法中在從最 內(nèi)周到外周的所有區(qū)域內(nèi)能夠驗證串擾的結(jié)構(gòu)。因此，要求中 間層203在光盤整個面厚度均勻，但是難以控制為完全相同的厚 度來制作測試光盤。因此，作為能夠在整個面內(nèi)評價串擾的影 響的中間層厚度最好是將測試光盤整個面的中間層203的變動 設(shè)為士5pm、將中間層203的厚度設(shè)為20pm。
也可以沒有印刷層206。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層206。
另外，在本申請的實施例中使用了 OTP型的光盤。這是由 于具有以下效果由于在L0層202和L1層204中軌道的螺旋方向相反，因此能夠用軌道靜止狀態(tài)下的軌道的跳躍方向瞬時地識
別進行跟蹤的層是L0層202還是L1層204。
然而，光盤類型并不限定于這些，也可以是PTP(Parallel TrackPath:順光道路徑)型的DL測試光盤。在這種情況下，光 盤的區(qū)域結(jié)構(gòu)的一部分不同，在LO層、Ll層中分別具有系統(tǒng)導 入、數(shù)據(jù)導出區(qū)域，不存在中間區(qū)域。另外，軌道的螺旋方向 在LO層、Ll層中都是從內(nèi)周向外周。其中，在半徑位置處軌道 間距、標記長度的參數(shù)相同，因而能夠進行與OTP型的DL測試 光盤相同的檢查。但是，在識別進行跟蹤的層時，需要對聚焦 搜索信號等進行監(jiān)視并用另外的方法調(diào)查在對哪個層進行跟 蹤。
對使用第二測試光盤的第二檢查全部合格的光拾取裝置1 繼續(xù)執(zhí)行接下來的檢查(步驟g)。另一方面，第二檢查不合格的 光拾取裝置l視為沒有滿足必要性能，在這種情況下，作為對 DL測試光盤的對應程度不足而認定為次品(步驟h)。
通過分別使用以上的第 一 第二種的測試光盤的第 一 第 二檢查，能夠識別滿足作為光盤再現(xiàn)所需的各種特性的性能的 信號再現(xiàn)能力/溫度依賴特性的光拾取裝置。
并且，通過第一 第二檢查能夠提供滿足所有所需再現(xiàn)性 能的光拾取裝置。
接著，對第二檢查全部合格的光拾取裝置1進行使用第三測 試光盤的第三檢查來驗證致動器的性能。
將盤面抖動評價用的作為產(chǎn)生盤面抖動的形態(tài)的第三測試 光盤的盤面抖動測試光盤放置在光拾取裝置的檢查裝置上并執(zhí) 行圖3的流程圖所示的各步驟來進行第三檢查。在信號再現(xiàn)評價 時，通過轉(zhuǎn)動光盤使該第三測試光盤產(chǎn)生0.4mmp-p(peak to peak:峰-峰值)的規(guī)定的盤面抖動。
25當放置第三測試光盤、開始光盤再現(xiàn)時(步驟i、 j),將光拾
取裝置l的跟蹤位置從光盤中心起驅(qū)動至半徑57mm的位置，開 始該位置的數(shù)據(jù)區(qū)域的再現(xiàn)來執(zhí)行檢查(步驟k)。由評價系統(tǒng)10 評價PRSNR來進行使用該半徑57mm的位置的數(shù)據(jù)區(qū)域的枱，查。
與上述的第 一 檢查的情況同樣地，根據(jù)運算PRSNR得到的 值是否在15以上來進行PRSNR的評價(步驟1)。
在本實施例中使用的盤面抖動測試光盤的基本物理參數(shù)、 光盤的結(jié)構(gòu)使用了與SL測試光盤相同的參數(shù)、結(jié)構(gòu)。這是為了 能夠在驗證光拾取裝置時有效地驗證盤面抖動的影響。再次參 照圖ll,將基板101的厚度設(shè)為0.600mm，將基板101的折射率 設(shè)為1.6(在波長405nm的情況下)。
基板IOI、 104由聚碳酸酯等波長400nm左右的激光容易透 過的材料形成。另外，還可以使用以聚烯烴、聚乳酸為主要成 分的生物分解性材料作為形成基板IOI、 104的材料。使用具有 軌道圖案(坑列)的母盤、通過射出成型來形成基板IOI。將母盤 上的軌道圖案復寫在基板101的表面上。從內(nèi)周向外周形成軌 道。
此外，也可以利用玻璃材料形成基板IOI。當利用玻璃形成 基板時，在保管中、檢查時不容易留下光拾取裝置接觸光盤而 產(chǎn)生的劃痕，即使在弄臟的情況下也能夠容易擦干凈，能夠提 高SL測試光盤的耐久性/可靠性。
在所形成的軌道圖案上由鋁、銀或者它們的合金等高反射 率材料形成記錄層102。通過濺鍍或者蒸鍍等方法在基板表面或 者紫外線硬化樹脂上薄膜形成記錄層10 2的材料。
為了粘合形成有記錄層102的基板101和基板104而形成粘 接層103。在進行所述粘合時，在記錄層102的表面涂敷紫外線硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上疊放基板104。接著，從基板 10 4側(cè)照射紫外線使紫外線硬化樹脂硬化。由此在其中間形成記 錄層102的狀態(tài)下粘合基板101和基板104。
預先在最佳狀態(tài)下使這樣制作的光盤形成為盡可能沒有盤 面抖動，為了使盤面抖動而進行加工使得在處于最內(nèi)周的BCA 區(qū)域內(nèi)側(cè)的夾緊區(qū)域產(chǎn)生盤面抖動。例如，在圓周方向上粘貼 厚度不同的貼紙等來制作在半徑57mm處0.4mmp-p(peak to peak:峰-峰值)的盤面抖動測試光盤。根據(jù)該方法，光盤制作 中產(chǎn)生的坑的形成狀態(tài)等與SL測試光盤相同，能夠制作光盤自 身的信號質(zhì)量完全沒有問題的、在半徑57mm處具有期望的盤面 抖動的光盤。將在半徑57mm處的盤面抖動設(shè)為0.4mmp-p而進
行評價是由于存在越接近光盤外周部盤面抖動越大的傾向、而 光盤的加工變得容易。
由此，能夠驗證即使產(chǎn)生0.4mmp-p的盤面抖動光拾取裝置 l也能夠適應性地進行信號再現(xiàn)的情形。這一點意味著即使光盤 產(chǎn)生盤面抖動，光拾取裝置也能夠適當?shù)仳?qū)動致動器來進行光 盤再現(xiàn)，具有充分的聚焦能力。也就是說，表示能夠根據(jù)盤面 抖動的變動適當?shù)仳?qū)動致動器。另外，如果使用與SL測試光盤 相同的光盤，則進行在光盤的最外周的評價，還能夠驗證光拾 取裝置能夠在光盤最外周適當?shù)剡M行信號再現(xiàn)的情形。
另外，不限于該方法，在利用聚碳酸酯、通過射出成型來 制作基板的情況下，能夠通過調(diào)整(例如提高)成型時的模具的 溫度/壓力產(chǎn)生固定的盤面抖動來制作盤面抖動測試光盤。根據(jù) 該方法，通過將成型時的制作條件設(shè)為固定，能夠制作大致具 有相同特性的盤面抖動測試光盤，但是考慮到信號質(zhì)量與通常 的SL測試光盤不同，需要考慮光盤自身的信號質(zhì)量。
在此，將半徑位置設(shè)為57mm,但是考慮到在評價光拾取裝
27置時即使進行半徑位置控制也會產(chǎn)生物鏡位置、安裝誤差。因
此，將半徑位置誤差設(shè)為士lmm,期望在盤面抖動光盤中在從 56mm至58mm的范圍內(nèi)產(chǎn)生0.4mmp-p的盤面4牛動。
此外，在此將基^反101、 104的厚度設(shè)為0.600mm,將折射 率設(shè)為1.6,但是并不限定于此，基板IOI、 104的厚度可以是 0.58mm至0.62mm,折射率可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的 范圍內(nèi))。
也可以沒有印刷層105。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層105。
另外，在本實施例中為了驗證在通常使用環(huán)境下所需最小 限必要特性，作為盤面抖動量在光盤自身和光盤夾具中能夠產(chǎn) 生的0.4mmp-p(peak to peak)的盤面抖動測試光盤為最佳。然 而，在假定的使用環(huán)境更惡劣的情況下，可以是更大的盤面抖 動測試光盤，也可以是0.6mmp-p(peak to peak)的盤面抖動測試 光盤。驗證在使用環(huán)境非常穩(wěn)定的環(huán)境下使用的光拾取裝置的 情況下，如果使用盤面抖動測試光盤的內(nèi)周部，則能夠進行較 小的盤面抖動下的評價，還可以驗證能夠?qū)侥姆N程度的盤 面4+動。
另外，只要盤面抖動量為期望的量就能夠進行該第三檢查， 因此如果利用另外的SL測試光盤進行在最外周的驗證則存在 光盤制作的難度，但是半徑位置并不限定于半徑57mm。
在本實施例中，能夠利用SL測試光盤驗證盤面抖動的影 響，但是也可以使用DL光盤作為盤面抖動測試光盤。在這種情 況下還產(chǎn)生層間串擾等，因此難以確定再現(xiàn)信號惡化的原因， 但是示出能夠進行再現(xiàn)的光拾取裝置具有更高性能的特性。
在本實施例中以線速度6.61m/s來轉(zhuǎn)動光盤，進行與對使用第三測試光盤的盤面抖動光盤的對應程度有關(guān)的第三檢查的判 斷。然而，也可以改變線速度來進行，此時制作盤面抖動測試 光盤使得以改變后的線速度產(chǎn)生規(guī)定的盤面抖動。
對使用以上第三測試光盤的與對盤面抖動光盤的對應程度 有關(guān)的第三檢查的判斷結(jié)果是第三檢查合格的光拾取裝置l繼
續(xù)執(zhí)行接下來的檢查(步驟m)。另一方面，第三檢查不合格的光 拾取裝置l視為沒有滿足必要性能，在這種情況下，作為對盤面 抖動光盤的對應程度不足而認定為次品(步驟n)。
對第三檢查合格的光拾取裝置l進行接下來的使用第四測 試光盤的第四檢查來驗證致動器的性能。
將傾斜評價用的作為具有變形的形態(tài)的第四測試光盤的傾 斜測試光盤放置在光拾取裝置的檢查裝置上，只是測試光盤的 形態(tài)與第三檢查不同，與第三檢查同樣地執(zhí)行圖3的流程圖所示 的各步驟進行第四檢查。該第四測試光盤具有0.8。的徑向傾斜。
按照圖3的流程圖，利用第四測試光盤，通過評價PRSNR 進行光拾取裝置1的第四檢查，根據(jù)運算P R S N R得到的值是否 在15以上來進行第四檢查(步驟l)。
對4吏用以上的第四測試光盤的與對傾斜測試光盤的對應程 度有關(guān)的第四檢查合格的光拾取裝置1繼續(xù)執(zhí)行接下來的檢查 (步驟m)。另一方面，第四檢查不合格的光拾取裝置l視為沒有 滿足必要性能，在這種情況下，作為對傾斜光盤的對應程度不 足而認定為次品(步驟n)。
在本實施例中使用的傾斜測試光盤的基本物理參數(shù)、光盤 的結(jié)構(gòu)使用了與SL測試光盤相同的參數(shù)、結(jié)構(gòu)。這是為了能夠 在驗證光拾取裝置時有效地驗證傾斜的影響。再次參照圖11， 將基板101的厚度設(shè)為0.600mm,將基板101的折射率設(shè)為1.6(在 波長405nm的情況下)?；錓OI、 104由聚碳酸酯等波長400nm左右的激光容易透 過的材料形成。另外，還能夠使用以聚烯烴、聚乳酸為主要成 分的生物分解性材料作為形成基板IOI、 104的材料。使用具有 軌道圖案(坑列)的母盤、通過射出成型來形成基板IOI。將母盤 上的軌道圖案復寫在基板101的表面上。從內(nèi)周向外周形成軌 道。
在所形成的軌道圖案上由鋁、銀或者它們的合金等高反射 率材料形成記錄層102。通過濺鍍或者蒸鍍等方法在基板表面或 者紫外線硬化樹脂上薄膜形成記錄層10 2的材料。
為了粘合形成有記錄層102的基板101和基板104而形成粘 接層103。在進行所述粘合時，在記錄層102的表面涂敷紫外線 硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上疊放基板104。接著，從基板 10 4側(cè)照射紫外線使紫外線硬化樹脂硬化。由此在其中間形成記 錄層102的狀態(tài)下粘合基板101和104。
關(guān)于傾斜的加工，與通常的S L測試光盤同樣地在基板上形 成坑，在進行粘合使紫外線硬化樹脂硬化時延長照射時間、或 者在硬化使用于粘接層中的紫外線硬化樹脂時使用較大應力即 可。但是，要做到不會同時產(chǎn)生盤面抖動。在由于應力而產(chǎn)生 傾斜的情況下，制作表示向外周傾斜量變大的傾向、在半徑 57mm處具有0.8。的徑向傾斜的傾斜測試光盤。根據(jù)該方法，光 盤制作中的坑的形成狀態(tài)等與SL測試光盤相同，能夠制作光盤 自身的信號質(zhì)量完全沒有問題的、在半徑57mm處具有期望的傾 斜的光盤。 由此，能夠驗證即使產(chǎn)生0.8 °的徑向傾斜的傾斜光拾取裝 置1也能夠適應性地進行信號再現(xiàn)的情形。這一點意味著即使光 盤產(chǎn)生傾斜，光拾取裝置也能夠適當?shù)仳?qū)動致動器來進行光盤 再現(xiàn)。也就是說，能夠驗證在由于傾斜而致動器始終承受固定的負荷的狀態(tài)下是否滿足性能。因此，徑向測試光盤的驗證優(yōu) 選為驗證能夠穩(wěn)定地進行固定時間、具體地說15分鐘以上的信
號再現(xiàn)的情形。另外，如果使用與SL測試光盤相同的光盤，則
進行在光盤的最外周的評價，還能夠驗證光拾取裝置能夠在光 盤最外周適當?shù)剡M行信號再現(xiàn)的情形。
另外，不限于該方法，在利用聚碳酸酯、通過射出成型來 制作基板的情況下，能夠通過調(diào)整(例如提高)成型時的模具的 溫度/壓力產(chǎn)生固定的傾斜來制作傾斜測試光盤。根據(jù)該方法， 通過將成型時的制作條件設(shè)為固定，能夠制作大致具有相同特
性的傾斜測試光盤，但是考慮到信號質(zhì)量與通常的SL測試光盤 不同，需要考慮光盤自身的信號質(zhì)量。
此外，在此將基板101、 104的厚度設(shè)為0.600mm，將折射 率設(shè)為1.6，但是并不限定于此，基板IOI、 104的厚度可以是0.58 至0.62mm,折射率可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的范圍內(nèi))。
也可以沒有印刷層105。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層105。另外，在本實施例中為了驗證在通常使用環(huán)境下所 需最小限必要特性，作為傾斜量而具有在光盤自身與光盤夾具 中能夠產(chǎn)生的0.8。的徑向傾斜的傾斜測試光盤為最佳。然而， 在假定的使用環(huán)境進一 步惡劣的情況下，可以是更大的傾斜測 試光盤，也可以是具有1.0。的徑向傾斜的傾斜測試光盤。驗證 在使用環(huán)境非常穩(wěn)定的環(huán)境下使用的光拾取裝置的情況下，如 果使用傾斜測試光盤的內(nèi)周部，則能夠在較小傾斜量下進行評 價，還能夠進行能夠?qū)侥姆N程度的傾斜這種驗證。
另外，只要傾斜量為期望的量就能夠進行該第四檢查，因 此如果利用另外的SL測試光盤進行在最外周的驗證，則半徑位 置并不限定于半徑57mm。在本實施例中以線速度6.61m/s轉(zhuǎn)動光盤進行與對使用第 四測試光盤的傾斜光盤的對應程度有關(guān)的第四檢查的判斷。然 而，也可以改變線速度來進行，此時制作傾斜測試光盤使得以 改變后的線速度產(chǎn)生規(guī)定的傾斜。
在本實施例中，能夠利用SL測試光盤-驗證傾斜的影響，但 是也可以使用DL光盤作為傾斜測試光盤。在這種情況下產(chǎn)生層 間串擾等，因此難以確定再現(xiàn)信號惡化的原因，但是表示能夠 進行再現(xiàn)的光拾取裝置具有更高性能的特性。
對第四檢查合格的光拾取裝置1進行接下來的使用第五測 試光盤的第五檢查來驗證致動器性能。
將具有1 OOpmp-p(peak to peak)的偏心的第五種的偏心測 試光盤放置在光拾取裝置的檢查裝置上，僅測試光盤的形態(tài)與 第三、第四檢查的測試光盤不同，與第三、第四檢查同樣地執(zhí) 行圖3的流程圖所示的各步驟進行第五檢查。
如圖3的流程圖所示，利用第五種的偏心測試光盤，通過評
取裝置l的第五檢查(步驟l)。
在本申請的實施例中使用的偏心測試光盤的基本物理參 數(shù)、偏心光盤的結(jié)構(gòu)使用了與SL測試光盤相同的物理參數(shù)、結(jié) 構(gòu)。這是為了能夠在驗證光拾取裝置時有效地驗證偏心的影響。 再次參照圖ll,將基板101的厚度設(shè)為0.600mm,將基板101的 折射率設(shè)為1.6(在波長405nm的情況下)。
基板IOI、 104由聚碳酸酯等波長400nm左右的激光容易透 過的材料形成。另外，還能夠使用以聚烯烴、聚乳酸為主要成 分的生物分解性材料作為形成基板IOI、 104的材料。使用具有 軌道圖案(坑列)的母盤，通過射出成型來形成基板IOI。將母盤 上的軌道圖案復寫在基板101的表面上。從內(nèi)周向外周形成軌道。
此外，也可以利用玻璃材料形成基板101。當利用玻璃形成 基板時，在保管中、檢查時不容易留下光拾取裝置接觸光盤而 產(chǎn)生的劃痕，即使弄臟的情況下也能夠容易擦干凈，能夠提高 SL測試光盤的耐久性/可靠性。
在所形成的軌道圖案上由鋁、銀、或者它們的合金等高反 射率材料形成記錄層102。通過濺鍍或者蒸鍍等方法在基板表面
或者紫外線硬化樹脂上薄膜形成記錄層102的材料。
為了粘合形成有記錄層102的基寺反101和基板104而形成粘 接層103。在進行所述粘合時，在記錄層102的表面涂敷紫外線 硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上疊放基板104。接著，從基板 10 4側(cè)照射紫外線使紫外線硬化樹脂硬化。由此以在中間形成記 錄層102的狀態(tài)粘合基板101和基板104。
為了使這樣制作的光盤具有偏心，進行加工使得位于光盤 的中心的中心孑L產(chǎn)生偏心。例如，專交大地切出中心孑L,將偏離 中心而制造出的環(huán)粘接到中心。此時，使數(shù)據(jù)軌道的偏心量為 1 OOpmp-p(peak to peak)。根據(jù)該方法，由光盤制作產(chǎn)生的坑(pit) 的形成狀態(tài)等與SL測試光盤相同，能夠制作光盤自身的信號質(zhì) 量完全沒有問題的、具有期望的偏心的光盤。
由此，能夠-驗證即孑吏產(chǎn)生100|ump-p(peak to peak)的偏心光
拾取裝置1也能夠適應性地進行信號再現(xiàn)的情形。這一點意味著 即使光盤產(chǎn)生偏心，光拾取裝置也能夠適當?shù)仳?qū)動致動器來進 行光盤再現(xiàn)，具有充分的跟蹤能力。另外，如果使用與SL測試 光盤相同的光盤在最外周進行驗證，則變成在光盤的最外周進 行評價，還能夠驗證光拾取裝置能夠在光盤最外周適當?shù)剡M行 信號再現(xiàn)的情形。
另外，不限于該方法，在利用聚碳酸酯通過射出成型來制作基板的情況下，能夠通過調(diào)整成型時的母盤的安裝產(chǎn)生固定 的偏心來制作偏心測試光盤。根據(jù)該方法，通過將成型時的制 作條件設(shè)為固定，能夠制作大致具有相同特性的偏心測試光盤。
此外，在此將基板101、 104的厚度設(shè)為0.600mm，將折射 率設(shè)為1.6，但是并不限定于此，基板IOI、 104的厚度可以是0.58 至0.62mm，折射率可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的范圍內(nèi))。
也可以沒有印刷層105。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層105。
另外，在本實施例中為了驗證在通常使用環(huán)境下所需最小 限必要特性，作為偏心量而在光盤自身和光盤夾具中能夠產(chǎn)生 的100pmp—p(peaktopeak)的偏心觀'J試光盤為最佳。然而，在假 定的使用環(huán)境進一 步惡劣的情況下，可以是更大的偏心測試光 盤，也可以是具有200jimp-p(peak to peak)的偏心測試光盤。
另外，只要偏心量為期望的量就能夠進行該第五檢查，因 此如果利用另外的SL測試光盤進行在最外周的驗證，則評價半 徑位置并不限定于半徑57mm。
在本實施例中，能夠利用SL測試光盤驗證偏心的影響，但 是也可以使用DL光盤作為偏心測試光盤。在這種情況下，還產(chǎn) 生L0層和L1層的偏心量的差異，因此難以制作光盤。另外，因 層間串擾等難以確定再現(xiàn)信號惡化的原因，但是表示能夠進行 再現(xiàn)的光拾取裝置具有更高性能的特性。
對使用以上的第五測試光盤的與對偏心光盤的對應程度有 關(guān)的第五檢查合格的光拾取裝置1繼續(xù)執(zhí)行接下來的檢查(步驟 m)。另一方面，第五檢查不合格的光拾取裝置l視為沒有滿足 必要性能，在這種情況下，作為對偏心光盤的對應程度不足而 認定為次品(步驟n)。在本申請的實施例中依次實施了第三至第五檢查，但是也 可以將各檢查作為單獨的檢查而獨立進行、改變順序，在存在 多個相同性能的光拾取裝置的情況下，也可以同時并行進行檢 查。
通過分別使用以上的第 一 第五種的測試光盤的第 一 第 五檢查，能夠識別滿足所需的各種特性的性能即信號再現(xiàn)能力/ 溫度依賴特性/致動器的動作能力的必要能力的光拾取裝置。
并且，通過第一 第五檢查能夠提供滿足所有所需的各種 特性的性能的、實用上具有充分的性能質(zhì)量的光拾取裝置。
對第五檢查合格的光拾取裝置1還可以進行使用第六測試 光盤的第六檢查。
將,人光盤中心向外周側(cè)在半徑57mm的區(qū)域內(nèi)具有200^m 的黑色斑點的缺陷的第六種的缺陷測試光盤放置在光拾取裝置 的檢查裝置上，執(zhí)行圖4的流程圖所示的各步驟來進行第六檢查。
當放置第六種的缺陷測試光盤、開始光盤再現(xiàn)時(步驟o、 p)，將光拾取裝置l的跟蹤位置從光盤中心起驅(qū)動至半徑57mm 的位置，開始該位置的數(shù)據(jù)區(qū)域的再現(xiàn)來執(zhí)行檢查(步驟q)。在 十個以上的點測量不重疊的四個連續(xù)ECC(Error Correction Code:錯誤修正碼)模塊(數(shù)據(jù)扇區(qū)32扇區(qū))的PI錯誤，分別算出 這些測量點的平均(pi(i))、標準偏差(pi(i)),判斷運算PI錯誤二 平均(pi(i))+2x標準偏差(pi(i))得到的值是否在280以下，由此進 行使用了該半徑57mm的位置的數(shù)據(jù)區(qū)域的檢查。進行該評價的 目的在于根據(jù)光盤的評價位置不同，例如光盤上的標記形成 產(chǎn)生偏差、反射率變動，因此在增加根據(jù)該偏差而PI錯誤值發(fā) 生變化的情形后進行評價。
在本實施例中，缺陷測試光盤的調(diào)制碼在HD—DVD的中國
35標準(CH一DVD)的光盤中使用FSM調(diào)制的調(diào)制碼，但是也可以 是與ETM調(diào)制或者FSM調(diào)制相應的ETM解調(diào)。
此外，在HD一DVD標準中，糾錯格式與DVD標準同樣地， 作為糾錯碼采用RS(208、 192、 17)xRS(182、 172、 ll)的里德-
索羅門乘積碼。
對使用以上的第六缺陷測試光盤的與對缺陷光盤的對應程 度有關(guān)的第六檢查的判斷(步驟r)的結(jié)果是第六檢查合格的光 拾取裝置l,作為滿足了所有必要性能而認定為合格品(步驟s)。 另 一方面，第六檢查不合格的光拾取裝置l視為沒有滿足必要性 能，在這種情況下，作為對缺陷光盤的對應程度不足而認定為 次品(步驟t)。
在本實施例中使用的缺陷光盤的基本物理參數(shù)、光盤的結(jié) 構(gòu)使用了與SL測試光盤相同的物理參數(shù)、結(jié)構(gòu)。這是為了能夠 在驗證光拾取裝置時有效地驗證缺陷的影響。再次參照圖11， 將基板101的厚度設(shè)定為0.600mm,將基板101的折射率設(shè)定為 1.6(在波長405nm的情況下)?；錓OI、 104由聚碳酸酯等波長 400nm左右的激光容易透過的材料形成。另外，還能夠使用以 聚烯烴、聚乳酸為主要成分的生物分解性材料作為形成基板 101、 104的材料。使用具有軌道圖案(坑列)的母盤，通過射出 成型來形成基板IOI。將母盤上軌道圖案復寫在基板101的表面 上。從內(nèi)周向外周形成軌道。
此外，也可以利用玻璃材料形成基板IOI。當利用玻璃形成 基板時，在保管中、檢查時不容易留下光拾取裝置接觸光盤而 產(chǎn)生的劃痕，即使弄臟的情況下也能夠容易擦千凈，能夠提高 SL測試光盤的耐久性/可靠性。
在所形成的軌道圖案上由鋁、銀、或者它們的合金等高反 射率材料形成記錄層102。通過濺鍍或者蒸鍍等方法在基板表面或者紫外線硬化樹脂上薄膜形成記錄層102的材料。
為了粘合形成有記錄層102的基板101和基板104而形成粘 接層103。在進行所述粘合時，在記錄層102的表面涂敷紫外線 硬化樹脂，在該紫外線硬化樹脂上疊放基板104。之后，從基板 10 4側(cè)照射紫外線使紫外線硬化樹脂硬化。由此在其中間形成記 錄層102的狀態(tài)下粘合基板101和基板104。
為了使這樣制作的光盤具有缺陷，在光入射面涂敷200pim 的黑墨水等添加黑色斑點使得產(chǎn)生缺陷。根據(jù)該方法，由光盤 制作產(chǎn)生的坑的形成狀態(tài)等與S L測試光盤相同，能夠制作光盤 自身的信號質(zhì)量完全沒有問題的、在半徑57mm處具有期望的缺 陷的光盤。能夠使半徑57mm處的缺陷成為200nm而進行評價。
由此，能夠驗證即使存在200pm的缺陷光拾取裝置1也能夠 適應性地進行信號再現(xiàn)的情形。這一點意味著即使光盤產(chǎn)生缺 陷，光拾取裝置也能夠適當?shù)鼐S持聚焦、跟蹤伺服來進行光盤 再現(xiàn)，能夠輸出能夠進行適當?shù)募m錯的再現(xiàn)信號。另外，如果 使用與SL測試光盤相同的光盤，則進行在光盤的最外周的評 價，還能夠驗證光拾取裝置能夠在光盤最外周適當?shù)剡M行信號 再現(xiàn)的情形。
此外，在此將基板IOI、 104的厚度設(shè)為0.600mm，將折射 率設(shè)為1.6，但是并不限定于此，基板IOI、 104的厚度可以是 0.58mm至0.62mm，折射率可以是1.5 1.7(在波長400 410nm的
范圍內(nèi))。
也可以沒有印刷層105。但是為了能夠容易地判斷哪個基板 面是光拾取裝置側(cè)的光入射面并識別光盤的種類，優(yōu)選為形成 印刷層105。另外，在本實施例中驗證通常能夠糾錯的盡可能大 的缺陷，因此作為缺陷量以200pm的黑色斑點為最佳。
另外，只要缺陷量為期望的量就能夠進行該第六檢查，因此如果利用另外的SL測試光盤進行在最外周的驗證，存在光盤
制作的困難，但是半徑位置并不限定于半徑57mm。
另外，在本申請的實施例中利用黑色斑點形成缺陷，但是 并不限于此，只要能夠驗證能夠適當?shù)鼐S持聚焦、跟蹤伺服來 進行光盤再現(xiàn)并能夠輸出可進行適當?shù)募m錯的再現(xiàn)信號即可， 也可以利用氣泡、指紋、劃痕來制作缺陷。
在本實施例中，能夠利用SL測試光盤驗證缺陷的影響，但 是也可以使用DL光盤作為缺陷測試光盤。在這種情況下由于產(chǎn) 生層間串擾等，因此難以確定再現(xiàn)信號惡化的原因，但是表示 能夠進行再現(xiàn)的光拾取裝置具有更高性能的特性。
除了進行第一 第五檢查以外還進行第六檢查，由此能夠 檢查光拾取裝置的伺服能力、以及在糾錯時能夠輸出可進行良 好的校正的再現(xiàn)信號的再現(xiàn)可靠性能力，能夠進一步提高光拾 取裝置的可靠性。
通過分別使用以上的第 一 第六種的測試光盤的第 一 第 六檢查，能夠識別滿足所有所需的各種特性的性能的光拾取裝 置。并且，通過第一 第六檢查能夠提供滿足所有所需的各種 特性的性能的、實用上具有充分的性能質(zhì)量的光拾取裝置。
最后，說明利用在本申請的實施例中示出的4全查方法來抬: 查的光拾取裝置。被檢查的光拾取裝置能夠再現(xiàn)軌道間距在 0.68pm以下、最短坑長(2T)在0.408pm以下的具有再現(xiàn)性能的高 密度多層光盤。特別在能夠正確地再現(xiàn)圖7示出的光盤參數(shù)的數(shù) 據(jù)的光拾取裝置中，是特別優(yōu)選的檢查方法。
在波長635nm、 N.A.0.6的光拾取裝置中進行了驗證，無法 再現(xiàn)圖7所示的數(shù)據(jù)區(qū)域。如果將波長改變?yōu)?50nm就可以再 現(xiàn)。另外，在波長405nm、 N.A.0.65的光拾取裝置中能夠再現(xiàn)圖 7所示的光盤參數(shù)的數(shù)據(jù)，示出在本實施例中示出的所有測試光盤的最佳再現(xiàn)特性。并且，在將波長縮短為360nm并設(shè)為 N.A.0.65時，無法得到各測試光盤的再現(xiàn)信號。這是由于在波 長395nm以下光盤基板透過率急劇下降的原因。
因此，至少具備激光波長395nm 450nm范圍的光學系，將 物鏡N.A設(shè)定為大于0.60即可。在這些范圍內(nèi)選擇光學系的范 圍，由此能夠最佳再現(xiàn)軌道間距在0.68nm以下、最短坑長在 0.408pm以下的范圍的信號。另外，能夠應用于在DL光盤的中 間層厚度在50pm以下也能夠進行層與層的分離、中間層厚度是 15pm的情況下也能夠進行再現(xiàn)的光拾取裝置。
并且，還可以具有記錄性能。
另外，作為與比DL更多層的媒體對應的光拾取裝置的檢 查，使用DL光盤確認層分離性能也很重要，也能夠應用本申請 示出的檢查。在多層對應的光拾取裝置中，除了在本申請中示 出的檢查以外也可以追加利用多層媒體的檢查。
在本實施方式的光拾取裝置的檢查方法中，在使用了 SL測 試光盤的在系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域內(nèi)的第一檢查、以及使用了DL測試光 盤的在系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域內(nèi)的第二檢查中，對抖動、調(diào)制度、不對 稱以及DPD信號進行評價，在使用了 SL測試光盤的在數(shù)據(jù)區(qū)域 內(nèi)的第一檢查、以及使用了DL測試光盤的在數(shù)據(jù)區(qū)域內(nèi)的第二 檢查中，對 PRSNR、 SbER、調(diào)制度、不對稱以及DPD信號進行 評價，但是可以不進行所有這些評價項目而決定幾個作為必須 的評價項目，也可以根據(jù)要求的質(zhì)量而減少評價項目。
另外，在本實施例中示出使用基于HD—DVD標準的測試光 盤進行檢查的情形，但是并不限定于此，如果將各種測試光盤 例如改變?yōu)榛谒{光(Blu-ray)標準的測試光盤也能夠適當?shù)剡M 行應用。但是，在這種情況下，根據(jù)光入射側(cè)的基板厚度為 0.1|am、系統(tǒng)導入?yún)^(qū)域的軌道間距為0.35nm、 tt據(jù)區(qū)域的軌道間距為0.32jim等標準改變測試光盤的物理參數(shù)的 一部分，被檢 查的光拾取裝置至少具備激光波長395nm 450nm范圍的光學 系，將物鏡N.A設(shè)定為大于0.8。
在本實施例中示出使用直徑12cm的測試光盤進行檢查的 情形，但是在應用于對應的直徑不同的光拾取裝置中的情況下， 并不限定于此，如果是僅與直徑8cm的光盤對應的光拾取裝置 的沖全查，則也可以將測試盤制作成8cm。在改變測試光盤的直 徑的情況下，如果在光盤的最外周進行檢查，則使外周的區(qū)域 具有規(guī)定量的盤面抖動、傾斜等即可。
另外，在本實施例中，各種測試光盤使用再現(xiàn)專用光盤， 但是并不限定于此，也可以使用預先在記錄光盤中記錄有信號 的、記錄完成光盤來制作各種測試光盤。
除了本實施例以外還將記錄完成光盤增加為測試盤時，能 夠成為可驗證更進一層高功能的性能的方法，但是如果根據(jù)本 實施例，則能夠穩(wěn)定地提供具有固定性能的光拾取裝置，能夠 以較少成本和時間排除低劣的光拾取裝置。
本發(fā)明的實施方式在權(quán)利要求的范圍所示出的技術(shù)思想的 范圍內(nèi)能夠適當?shù)剡M行各種變更。
40
權(quán)利要求
1. 一種光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，利用使用了記錄層為單層的第一測試光盤和記錄層為雙層的第二測試光盤的至少兩種以上的測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，檢查具備N A為0.6以上的物鏡的光拾取裝置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，利用上述測試光盤的軌道間距大致在0.68(im以下的區(qū)域 的再現(xiàn)信號評價來對光拾取裝置進行評價。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用基于波長4 5 0n m以下的光學系統(tǒng)的再現(xiàn)信號評價來對 光拾取裝置進行評價。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用使用了上述記錄層為單層的第一測試光盤、上述記錄 層為雙層的第二測試光盤、用于驗證致動器的動作的測試光盤 的至少三種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用使用了上述記錄層為單層的第一測試光盤、上述記錄 層為雙層的第二測試光盤、作為用于驗證上述致動器的動作的 測試光盤的第三測試光盤、第四測試光盤、第五測試光盤的至 少五種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置，其中，所 述第三測試光盤是產(chǎn)生盤面抖動評價用的盤面抖動的形態(tài)的測試光盤，所述第四測試光盤是具有傾斜評價用的變形的形態(tài)的 測試光盤，所述第五測試光盤是具有偏心評價用的偏心的測試 光盤。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，在上述第三測試光盤內(nèi)形成有上述盤面抖動大致為 0.4mmp-p以上的區(qū)i或。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，在上述第四測試光盤內(nèi)形成有傾斜大致為0.8。以上的區(qū)域。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，在上述第五測試光盤內(nèi)存在形成偏心大致為lOOjimp-p的區(qū)域。
10. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，增加使用了第六測試光盤的再現(xiàn)信號評價，利用使用了至 少六種測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置，其中，所 述第六測試光盤是具有產(chǎn)生再現(xiàn)錯誤的缺陷區(qū)域的測試光盤。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，上述第三測試光盤的盤面抖動形成為在半徑5 7 m m附近大 致成為0.4mmp-p。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，在上述第六測試光盤內(nèi)形成有大致20 0 p m的黑色斑點。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，利用缺陷區(qū)域內(nèi)的PI錯誤評價來進行上述第六測試光盤的 再現(xiàn)信號評價。
14. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，使用上述六種測試光盤之中的至少一張，利用光拾取裝置 的再現(xiàn)信號的P R S N R的評價結(jié)果對光拾取裝置進行評價。
15. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光拾取裝置的檢查方法，其特 征在于，利用FSM調(diào)制方式對上述第六測試光盤進行調(diào)制。
16. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，以O(shè)TP形成上述第二測試光盤的螺旋方向。
17. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，上述第二測試光盤的中間層的厚度構(gòu)成為14pm 25nm。
18. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，使用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，利 用在同一測試光盤內(nèi)準備的軌道間距不同的區(qū)域的再現(xiàn)信號評 價來檢查光拾取裝置。
19. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征在于，使用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，利 用在同 一測試光盤內(nèi)準備的BCA區(qū)域的再現(xiàn)信號評價來檢查光 拾取裝置。
20. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光拾取裝置的檢查方法，其特征 在于，利用上述第一或者上述第二測試光盤之中的至少一種，改 變溫度環(huán)境來評價再現(xiàn)信號，由此檢查光拾取裝置。
21. —種光拾取裝置，是利用權(quán)利要求1 20中的任一項所述的光拾取裝置的檢 查方法檢查出的合格的光拾取裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光拾取裝置的檢查方法以及光拾取裝置。以往存在如下問題無法利用固定的方法評價光拾取裝置，難以進行質(zhì)量管理，并且性能評價費時間。利用使用記錄層為單層的第一測試光盤和記錄層為雙層的第二測試光盤的至少兩種以上的測試光盤的再現(xiàn)信號評價來檢查光拾取裝置。由此，能夠根據(jù)再現(xiàn)信號來檢查光拾取裝置，與制造商無關(guān)地利用固定的評價方法進行光拾取裝置的質(zhì)量管理。
文檔編號G11B7/22GK101488350SQ20091000046
公開日2009年7月22日 申請日期2009年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月16日
發(fā)明者中谷守雄, 日比野清司, 鷲見聰 申請人:三洋電機株式會社;三洋光學設(shè)計株式會社