專利名稱：光記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光記錄介質(zhì)，具體涉及與光盤(CD)兼容的光記錄介質(zhì)，當(dāng)波長大于600nm時，該介質(zhì)具有較高的反射率，通過通用數(shù)字光盤播放器(DVDP)和光盤播放器(CDP)，能夠向該介質(zhì)記錄信息并且重放所記錄的信息，同時，能夠以較低成本進(jìn)行生產(chǎn)。
對于光記錄介質(zhì)，其每記錄單位的記錄區(qū)小于常規(guī)磁記錄介質(zhì)每記錄單位的記錄區(qū)，因此，光記錄介質(zhì)被用作高密度記錄介質(zhì)。光記錄介質(zhì)被分為以下幾類只讀存儲器(ROM)類型——只能重放已記錄信息的介質(zhì)；寫一次和多次讀(WORM)類型——只能記錄一次，但能多次讀的介質(zhì)；可重寫類型——能夠記錄、擦除和重寫的介質(zhì)。記錄在光記錄介質(zhì)上的信息應(yīng)能被ROM類型介質(zhì)的播放器重放。由此，光記錄介質(zhì)必須滿足常規(guī)統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)(紅皮書)，從而，要求反射率大于等于65％，載波噪音比(CNR)大于等于47dB。
在可記錄的光記錄介質(zhì)中，能夠根據(jù)反射率變化重放記錄信息，其中反射率變化是由于記錄前后記錄層中的物理變化、相變和磁性變化造成的。同時，為了使光記錄介質(zhì)與CD兼容，要求具有長期數(shù)據(jù)存儲特性和高記錄密度，以及上述的高反射率和CNR特性。為了改進(jìn)光記錄介質(zhì)的特性，并且使其生產(chǎn)過程簡便，人們提出了由不同材料組成的不同光記錄介質(zhì)，并且正在使用部分光記錄介質(zhì)。
作為常規(guī)光記錄介質(zhì)，日本公開專利公報No.showha 63-268142，公開了具有如下結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)，由明膠、酪蛋白或聚乙烯醇(PVA)組成的反光層，和作為記錄層的金屬薄片順序疊加在基片上，其中，金屬薄片由鉻(Cr)、鎳(Ni)或金(Au)組成。根據(jù)記錄介質(zhì)的光記錄原理，金屬薄片吸收照射激光束的熱量，從而感光層和金屬薄片變形，形成記錄凹坑。然而，該記錄介質(zhì)的記錄凹坑是裸露的，所以很難長期存儲記錄信息。
美國專利No.4,973,520公開了具有如下結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)，其中三層金屬薄片疊加在基片上。該記錄介質(zhì)的記錄特性很好，然而，由于其記錄凹坑裸露，也不能長期存儲記錄信息。
為了解決以上缺陷，美國專利No.4,983,440公開了具有如下結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)，其中作為記錄層和保護(hù)層(用于保護(hù)記錄層)的兩層金屬薄片，順序疊加在基片上。然而，該記錄介質(zhì)的反射率很低(約為20％)，并且在實(shí)際使用時，需要高功率的光源。同時，該記錄介質(zhì)與常規(guī)CD不兼容。
根據(jù)美國專利No.5,328,813，在基片上作出一層金屬薄片作為記錄層，同時在金屬薄片上作出一硬金屬氧化層，以便改進(jìn)信息存儲特性，并且將反射率增加到40-69％。然而，其CNR仍然很低。
此外，美國專利No.5,155,723公開了具有如下結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)，其中作為記錄層的有機(jī)染料層疊加在基片上，而反射層和保護(hù)層疊加在記錄層之上。根據(jù)該記錄介質(zhì)，染料層吸收用于記錄的記錄激光束，以發(fā)射熱量。通過加熱使基片受熱變形，從而，根據(jù)與記錄相對應(yīng)的反射率的差別，重放記錄信號。這里，為了與CD兼容，記錄介質(zhì)的反射率應(yīng)大于等于70％，并且記錄后的CNR應(yīng)大于等于47dB。但是，記錄介質(zhì)的記錄層具有較低的耐熱性和耐光性，此外，由于有機(jī)染料昂貴，其生產(chǎn)費(fèi)用很高。另外，在生產(chǎn)過程中，還要用有機(jī)染料溶液進(jìn)行旋轉(zhuǎn)鍍膜。然而，由于鍍膜層的厚度決定其反射率，所以在光盤的生產(chǎn)過程中，必須將鍍膜層的厚度誤差精確控制在±3％之內(nèi)，并且還需要昂貴設(shè)備，其產(chǎn)量也很低。
為了解決以上問題，本發(fā)明目的在于提供一種光記錄介質(zhì)，該介質(zhì)能夠與光盤(CD)兼容，并能以較低成本提供較大產(chǎn)量。
為實(shí)現(xiàn)以上目的，提供一種光記錄介質(zhì)，該介質(zhì)包括具有預(yù)槽(pregrooves)的基片，一金屬記錄層，一緩沖層和一反射層，以上各層順序疊加在基片上，其中預(yù)槽斜面的角度(θ)為30-90°，并且緩沖層在140℃的溶解粘度為10-50,000Pa.S。
預(yù)槽底部的寬度最好為10-450nm，預(yù)槽最高處的寬度最好為400-1,000nm，預(yù)槽的深度最好為30-450nm。
最好緩沖層至少由一種樹脂組成，該樹脂的玻璃臨界溫度為70-130°(Tg)，可從以下樹脂組中選擇。該樹脂組包括乙烯醇樹脂、乙烯基乙酸酯樹脂、丙烯酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氨基甲酸乙酯樹脂、纖維素樹脂、脂肪酸樹脂及其共聚物。此外，緩沖層可能包括染料，該染料在光記錄介質(zhì)的實(shí)際波長區(qū)，具有較高的反射率。這里，根據(jù)緩沖層的重量，染料含量不超過30wt％。
以下，參照


對應(yīng)本發(fā)明最佳實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)及其特性。
通過參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的最佳實(shí)施方式，本發(fā)明的以上目的和優(yōu)點(diǎn)將更加顯而易見。其中附圖是圖1是一剖面圖，說明對應(yīng)本發(fā)明最佳實(shí)施方式的光盤的結(jié)構(gòu)；圖2是一剖面圖，說明圖1中光盤的記錄區(qū)和非記錄區(qū)；圖3是一個圖形，說明與圖1中光盤緩沖區(qū)厚度對應(yīng)的反射率變化；圖4是一個圖形，說明與圖1中光盤記錄功率對應(yīng)的CNR變化。
參照圖1，圖1說明對應(yīng)本發(fā)明最佳實(shí)施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)，光記錄介質(zhì)包括基片10、金屬記錄層20、緩沖層30、反射層40和保護(hù)層50，其中后四層順序疊加在基片10上。
在具有以上結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)中，在光記錄期間，激光束加熱金屬記錄層20，同時，熱量傳送到基片10和緩沖層30。與金屬記錄層20的受熱區(qū)域相鄰的基片10的區(qū)域膨脹變形，由于基片的張力，金屬記錄層20的受熱區(qū)域朝緩沖層30膨脹。
圖2是一剖面圖，詳細(xì)說明記錄區(qū)和非記錄區(qū)，這些區(qū)域建立在對應(yīng)本發(fā)明的光記錄介質(zhì)上。如圖2所示，在記錄區(qū)，由于受熱基片向上膨脹，緩沖層變形，所以反射層也變形。這里，變形度與金屬記錄層產(chǎn)生的熱量成正比，并依賴于金屬記錄層和緩沖層的材料及其厚度。
在本發(fā)明的光記錄介質(zhì)中，與非記錄區(qū)相比，在記錄期間記錄區(qū)的反射率增加以下部分。
如圖2所示，第一，由于在記錄期間基片的張力，緩沖層的厚度由d1變薄到d2。這里，反射率根據(jù)圖3所示的緩沖層厚度改變，所以反射率增加了緩沖層厚度的減少量。即，通過記錄緩沖層的初始厚度由d1減少到d2，所以，在記錄之后反射率增加。這里，反射率的增加量依賴于金屬層的厚度。
第二，在記錄期間，由于基片的張力使預(yù)槽底部膨脹，所以減少了預(yù)槽的深度，從而減少了從預(yù)槽側(cè)壁散射的反射光Rw。反之，增加了從反射層底部反射的反射光Rr或者從預(yù)槽底部反射的反射光Rg。因此，在記錄之后反射率增加。
第三，增加了金屬記錄層記錄區(qū)的透光度。即，記錄區(qū)的中心膨脹最大，所以金屬記錄層中心的厚度可能變薄或者形成一個孔，從而，在記錄區(qū)增加了反射率。
根據(jù)本發(fā)明的光記錄介質(zhì)和在記錄區(qū)增加的上述部分的反射率，為了改進(jìn)記錄特性，如CNR、串?dāng)_即抖動，綜合考慮基片預(yù)槽的尺寸和形狀以及緩沖層材料。
即，由于基片的張力，緩沖層材料朝凸區(qū)伸展，從而改變了凸區(qū)的形狀。這里，凸區(qū)形狀變化作為記錄信號噪聲，所以增加了抖動。為了防止抖動，預(yù)槽斜面角(圖2中的θ)應(yīng)控制在30°-90°之內(nèi)，最好接近90°，并且應(yīng)增加預(yù)槽的底部區(qū)域。另外，緩沖層應(yīng)具有適宜的粘度，以防止將緩沖層推出。
此外，在記錄期間，由金屬(該金屬在激光波長具有光譜吸收)構(gòu)成的金屬記錄層20產(chǎn)生熱量，以加熱基片和緩沖層，從而使基片和緩沖層變形。另一方面，利用金屬記錄層反射的反射光Rg′重放記錄信息。所以，為了能夠充分傳播和具有較低的熱導(dǎo)率，金屬記錄層最好由高反射率、高吸收系數(shù)的金屬構(gòu)成。更可取的是，采用其復(fù)數(shù)折射率的虛部系數(shù)為k的金屬，其中，k大于等于0.01。(這里，折射率表示復(fù)數(shù)折射率，用“n-ki”表示，其中，n是實(shí)部系數(shù)，k是虛部系數(shù)，在某一波長，k＝0表示不吸收。)以下，將詳細(xì)說明與本發(fā)明相對應(yīng)的光記錄介質(zhì)的各要素層的所需特性。
根據(jù)本發(fā)明，在光記錄介質(zhì)基片10的一面，作出用于在記錄期間引導(dǎo)光線的預(yù)槽，其中，預(yù)槽的形狀是影響反射率和跟蹤特性的因素。
預(yù)槽的深度最好為30-450nm。如果預(yù)槽的深度小于等于30nm，則在緩沖層反射的預(yù)槽深度(凹線圖象(groove image))較小，所以在凸面與預(yù)槽面之間的反射率之差減小，從而使得跟蹤不穩(wěn)定。反之，如果預(yù)槽的深度大于等于450nm，則緩沖層和反射層之間的邊界在預(yù)槽面(深凹線圖象)深深凹進(jìn)，引起光線散射。因此，在記錄之前反射率很低，所以不可能記錄其自身。
此外，預(yù)槽底部的寬度最好為10-450nm，預(yù)槽最高處的寬度最好為400-1,000nm，預(yù)槽斜面的角度(θ)最好為30°-90°，更可取的是接近90°。為了防止基片的張力使預(yù)槽輕易變形，減小記錄信號噪聲，相對于預(yù)槽底部，預(yù)槽的兩面應(yīng)接近正交，并且預(yù)槽的底部應(yīng)該較寬。
基片材料最好采用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、環(huán)氧樹脂、聚酯或非晶聚烯烴(polyolefin)，這些材料相對激光束是透明的，并且受熱能使其膨脹變形，具有優(yōu)良的緩沖強(qiáng)度和80-120℃(更可取的是100-200℃)的玻璃臨界溫度(Tg)。
根據(jù)本發(fā)明的光記錄介質(zhì)的金屬記錄層20，通過吸收記錄激光束作為熱量產(chǎn)生層，同時，記錄層還作為部分鏡象用于提供記錄前后的對比度差異。因此，金屬記錄層的厚度最好為30-300埃其透射率最好為5-95％，其反射率最好為5-95％。如果其厚度小于等于30埃，則對于記錄而言，通過光譜吸收產(chǎn)生的熱量不足以使基片變形。反之，如果其厚度超過300埃，則對于記錄而言，金屬記錄層將妨礙基片膨脹，所以，記錄部分的變形較小。當(dāng)金屬記錄層變厚時，則在金屬記錄層產(chǎn)生顯著反射以使光線散射。因此，很難獲得較高的反射率。此外，金屬記錄層的熱導(dǎo)率最好小于等于4W/cm℃。如果金屬記錄層的熱導(dǎo)率超過4W/cm℃，則由激光束加熱的記錄層不能容納熱量，而記錄層的熱量很快傳遞到周圍環(huán)境，所以很難將記錄層加熱到所需溫度或更高。即使將記錄層加熱到設(shè)計溫度，由于增加了記錄凹坑的尺寸，相鄰磁道也可能變形。此外，金屬記錄層的熱力線膨脹系數(shù)最好大于等于3×10-6/℃。如果線膨脹系數(shù)小于以上標(biāo)準(zhǔn)，對記錄而言，由基片變形而引起的張力將使金屬記錄層裂解，所以不能得到好的記錄信號值。采用真空淀積法、電子束法或?yàn)R射法，由金(Au)、鋁(Al)、鉻(Cr)、鈀(Pd)、鈦(Ti)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉑(Pt)、銀(Ag)、鉭(Ta)、鐵(Fe)或其合金組成金屬記錄層。
緩沖層幾乎不吸收記錄光線，并將緩沖基片的張力以減少緩沖層的變形。該緩沖層由能夠輕易變形并具有適宜流度的材料構(gòu)成，以緩沖基片和金屬記錄層的變形。
因此，對于緩沖層材料而言，其在140℃的溶解粘度最好為10-50,000Pa.S。如果其溶解粘度小于等于10Pa.S，則由于基片的張力，緩沖層將嚴(yán)重變形，引起其凸面的顯著變形，從而產(chǎn)生劣質(zhì)記錄信號。反之，如果其溶解粘度超過50,000Pa.S，則緩沖層將不能執(zhí)行其固有的緩沖功能。
此外，緩沖層材料的玻璃臨界溫度(Tg)最好為70-130℃，更可取的是，低于基片的玻璃臨界溫度。如果緩沖層的玻璃臨界溫度(Tg)小于等于70℃，則將降低數(shù)據(jù)的長期穩(wěn)定性。反之，如果其玻璃臨界溫度(Tg)大于等于130℃，則將妨礙基片變形，降低記錄感光性。
緩沖層至少由一種樹脂組成，該樹脂可以從以下樹脂組中選擇，該樹脂組包括乙烯醇樹脂、乙烯基乙酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氨基甲酸乙酯樹脂、纖維素樹脂、脂肪酸樹脂。
此外，緩沖層可能包括具有較高折射率的材料，如染料，以增加記錄后的對比度。這里，染料含量最好小于等于30wt％。如果含量超過30wt％，則反射率將減少光譜吸收量，同時造成經(jīng)濟(jì)損失。通常，通過在有機(jī)溶液中溶解緩沖材料，然后用該溶液進(jìn)行旋轉(zhuǎn)鍍膜以產(chǎn)生緩沖層。這里，必須采用能夠輕易溶解緩沖材料而不損壞基片的有機(jī)溶液。
如圖3所示，緩沖層的厚度最好設(shè)置為d1，即50-1,000nm，以提供不低于40％的反射率。
可以從以下金屬，即，Au、Al、Ag、Cu、Pd、Pt、Ti、Ta、Cr、Ni、Fe及其合金組成的組中選擇一種金屬，最好從Au、Al、Cu、Cr及其合金組成的組中選擇該金屬，通過真空淀積法或?yàn)R射法，構(gòu)造厚度為50-1,500埃的反射層。
保護(hù)層50保護(hù)光記錄介質(zhì)的其他要素層。可用一般方法構(gòu)造保護(hù)層50。例如，通過用環(huán)氧丙烯酸酯樹脂旋轉(zhuǎn)鍍膜，然后通過照射紫外線固化旋轉(zhuǎn)鍍膜產(chǎn)品，以構(gòu)造保護(hù)層50，其中環(huán)氧丙烯酸酯樹脂是透明的、能夠用紫外線固化并具有很大的緩沖強(qiáng)度。
根據(jù)本發(fā)明的光記錄介質(zhì)具有以上結(jié)構(gòu)，熱量產(chǎn)生部分(通過吸收激光束產(chǎn)生熱量)受限于金屬記錄層，所以，不使用染料，通過綜合基片預(yù)槽特性和緩沖層特性改進(jìn)記錄特性，提高產(chǎn)量。此外，由于當(dāng)波長大于等于600nm時，具有較高的反射率，所以該種光記錄介質(zhì)能夠與CD兼容。
以下，將參照如下示例詳細(xì)說明本發(fā)明。但本發(fā)明并不限于以下示例。
示例1在厚度為1.2mm的聚碳酸酯(PC)基片上，疊加通過真空離解厚度為10nm的鋁(Al)記錄層，其中基片上預(yù)槽的深度為153nm，預(yù)槽最上部的寬度為0.5μm，其底部寬度為0.25μm，其斜面角度(θ)為50°并且其磁道間距為1.6μm。隨后，通過在10ml雙丙酮醇(DAA)中溶解0.9g聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA，MW＝9,000，在140℃的溶解粘度為20,000Pa.S)得到鍍膜液，利用以上鍍膜液，以2,000rpm的速度在Al記錄層上旋轉(zhuǎn)鍍膜制作緩沖層。這里，與預(yù)槽面相對應(yīng)的緩沖層的厚度(由掃描式電子顯微鏡測得)，大約為220nm。在真空爐中以40℃的溫度烘干以上合成裝置之后，將Al真空淀積到大約1,000以制作反射層。然后，在反射層上旋轉(zhuǎn)鍍膜能由紫外線固化的環(huán)氧丙烯酸鹽樹脂，并固化形成保護(hù)層，最終形成與本發(fā)明相對應(yīng)的光盤類型的光記錄介質(zhì)。
對以上獲得的光盤的檢測(使用的檢測設(shè)備采用780nm的激光束)結(jié)果為，對于采用8mW記錄功率、720kHz調(diào)諧、以1.3m/sec的記錄速度記錄的光盤，在記錄之前的反射率為45％，最大反射率Rtop為66％，采用0.7mW的記錄激光功率，CNR為55dB。在以上記錄條件下，如圖4所示，用不小于4mW的記錄功率重放47dB或更大CNR的記錄信號。此外，使用CD-R記錄器(先鋒RPD-1000)在光盤上記錄音頻信號之后，能夠使用CD播放器(飛利浦Mark II)重放所記錄的音頻信號。根據(jù)該光盤的記錄特性，通過用CD-CATS(Audio Development Co.，瑞典)檢測，所有檢測項(xiàng)目滿足CD標(biāo)準(zhǔn)。此外，當(dāng)波長為650nm時，該光盤的反射率為54％，同時，通過通用數(shù)字光盤播放器(DVDP)可以重放記錄在該光盤上的信息。
示例2除了用厚度為11m的CuAl材料替代金屬記錄層外，按照例1所示的相同方法生產(chǎn)光盤類型的光記錄介質(zhì)，同時，檢測該光盤的性能。
對于采用8mW記錄功率、720kHz調(diào)諧、以1.3m/sec的記錄速度記錄的光盤，在記錄之前的反射率為47％，平均反射率和最大反射率Rtop分別為59％和66％，采用0.7mW的記錄激光功率，CNR為57dB。此外，使用CD-R記錄器(先鋒RPD-1000)在光盤上記錄音頻信號之后，能夠使用CD播放器(飛利浦Mark II)重放所記錄的音頻信號。根據(jù)該光盤的記錄特性，通過用CD-CATS(Audio Development Co.，瑞典)檢測，所有檢測項(xiàng)目滿足CD標(biāo)準(zhǔn)。此外，當(dāng)波長為650nm時，該光盤的反射率為51％，同時，通過DVDP可以重放記錄在該光盤上的信息。
示例3除了向緩沖層添加0.5wt％染料(Red CV-S 300，ICI Co.，當(dāng)波長為780nm時其折射率為(n)＝2.2)外，按照例1所示的相同方法生產(chǎn)光盤類型的光記錄介質(zhì)。
對于采用8mW記錄功率、720kHz調(diào)諧、以1.3m/sec的記錄速度記錄的光盤，在記錄之前的反射率為43％，平均反射率和最大反射率Rtop分別為59％和65％，采用0.7mW的記錄激光功率，CNR為59dB。在以上記錄條件下，如圖4所示，用不小于4mW的記錄功率重放47dB或更大CNR的記錄信號。此外，使用CD-R記錄器(先鋒RPD-1000)在光盤上記錄音頻信號之后，能夠使用CD播放器(飛利浦Mark II)重放所記錄的音頻信號。根據(jù)該光盤的記錄特性，通過用CD-CATS(Audio Development Co.，瑞典)檢測，所有檢測項(xiàng)目滿足CD標(biāo)準(zhǔn)。此外，當(dāng)波長為650nm時，該光盤的反射率為47％，同時，通過DVDP可以重放記錄在該光盤上的信息。
示例4除了其基片上預(yù)槽的深度為250nm，預(yù)槽最上部的寬度為0.6μm，其底部寬度為0.3μm，其斜面角度(θ)為61°，并且通過在10ml雙丙酮醇(DAA)中溶解1.3g聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA，MW＝9,000，在140℃的溶解粘度為20,000Pa.S)準(zhǔn)備鍍膜液外，按照例1所示的相同方法生產(chǎn)光盤類型的光記錄介質(zhì)?？梢杂肅DP和DVDP重放采用CD-R記錄器在該光盤上記錄的音樂。當(dāng)波長為780nm時，最大反射率Rtop為71％，當(dāng)波長為650nm時，反射率為51％。
對比示例1通過在100ml DAA中溶解4.4g N，N′-2，5-環(huán)己二烯-1，4-雙內(nèi)鎓鉍[4-(二丁基氨基)-N-[4-(二丁基氨基)苯基]-雙[(OC-6-11)-六氟-銻酸鹽(10)](N，N′-2，5-cyclohexadien-1，4-diylidenbis[4-(dibutylamino)-N-[4-(dibutylamino)phenyl]-bis[(OC-6-11)-hexafluoro-antimonate(10)])(NK-3219，Nippon Kanko Shinko Kenkusho CO.，Ltd.，λmax＝720nm)獲得染料溶液，如示例1所示，將以上溶液使用旋轉(zhuǎn)鍍膜(依次以50rpm的速度持續(xù)5秒，以1,500rpm的速度持續(xù)15秒，以4,000rpm的速度持續(xù)30秒)淀積到相同基片上，隨后，徹底烘干。然后，采用濺射法制作厚度為100nm的Au反射層。在Au反射層淀積紫外線固化樹脂之后，通過照射紫外線固化以上合成裝置，制作厚度為10μm的保護(hù)層。對于采用8mW記錄功率、720kHz調(diào)諧、以1.3m/sec的記錄速度記錄的光盤，最大反射率Rtop為66％，采用0.7mW的記錄激光功率，CNR為65dB。然而，當(dāng)波長為650nm時，反射率為15％，所以，不能通過DVDP播放該光盤。
對比示例2除了其基片上預(yù)槽的深度為90nm，預(yù)槽最上部的寬度為0.6μm，其底部寬度為0.08μm，其斜面角度(θ)為19°并且其磁道間距為1.6μm外，按照示例1所示的相同方法生產(chǎn)光盤類型的光記錄介質(zhì)。采用檢測設(shè)備(Apex)檢測的結(jié)果為，對于采用8mW記錄功率、以1.3m/sec的記錄速度記錄的光盤，在記錄之前的反射率為50％，CNR和平均反射率分別為50dB和66％。在使用EFM進(jìn)行記錄之后，由于其凸面嚴(yán)重變形，所以不能觀測到清晰的視圖，同時，也不能回放所記錄的音頻信號。
對比示例3除了使用0.6g PMMA(MW＝38,000，在140℃的溶解粘度為200,000Pa.S)制作緩沖層外，按照示例1所示的相同方法生產(chǎn)光盤類型的光記錄介質(zhì)，并在示例1所示的相同條件下進(jìn)行記錄。記錄之前的反射率為52％，記錄之后的平均反射率和CNR分別為55％和45dB。此外，圖形不清晰，并且不能回放使用CD-R記錄器記錄的音頻信號。
如上所述，本發(fā)明的光記錄介質(zhì)能夠與CD兼容，并且，由于當(dāng)波長為650nm或更長時，其具有較高的反射率，所以通過DVDP能夠重放記錄在光記錄介質(zhì)上的信息。此外，由于很少使用染料，借助較高產(chǎn)量降低了生產(chǎn)成本。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì)，包括具有預(yù)槽的基片、金屬記錄層、緩沖層和反射層，后三層順序疊加在基片上，其中預(yù)槽斜面的角度(θ)為30-90°，并且緩沖層在140℃的溶解粘度為10-50,000Pa.S。
2.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中預(yù)槽底部的寬度為10-450nm，預(yù)槽最高處的寬度為400-1,000nm，預(yù)槽的深度為30-450nm。
3.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中當(dāng)波長為600-800nm時，該光記錄介質(zhì)的反射率為40％或更高。
4.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中在反射層之上制作保護(hù)層。
5.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中基片是從以下樹脂組中選擇一種樹脂制作的，該樹脂組包括聚碳酸酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚酯樹脂和非晶聚烯烴樹脂。
6.權(quán)利要求5的光記錄介質(zhì)，其中基片的玻璃臨界溫度(Tg)為80-200℃。
7.權(quán)利要求6的光記錄介質(zhì)，其中基片的玻璃臨界溫度(Tg)為100-200℃。
8.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中在記錄之后，光記錄介質(zhì)的反射率增加。
9.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中至少基片、金屬記錄層和緩沖層三者之一具有變形部分。
10.權(quán)利要求9的光記錄介質(zhì)，其中基片和金屬記錄層具有變形部分，與變形部分相對應(yīng)的緩沖層部分的厚度降低。
11.權(quán)利要求9的光記錄介質(zhì)，其中基片、金屬記錄層和緩沖層具有相互對應(yīng)的變形部分。
12.權(quán)利要求11的光記錄介質(zhì)，其中反射層具有與緩沖層變形部分相對應(yīng)的變形部分。
13.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中金屬記錄層的厚度為30-300埃，其復(fù)數(shù)折射率的虛部系數(shù)k大于等于0.01。
14.權(quán)利要求13的光記錄介質(zhì)，其中金屬記錄層是由熱導(dǎo)率小于等于4W/cm℃的金屬制作的。
15.權(quán)利要求14的光記錄介質(zhì)，其中該金屬包括從以下金屬組中選擇的一種金屬，該金屬組包括金(Au)、鋁(Al)、鉻(Cr)、鈀(Pd)、鈦(Ti)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉑(Pt)、銀(Ag)、鉭(Ta)、鐵(Fe)及其合金。
16.權(quán)利要求1的光記錄層，其中緩沖層的厚度為50-1,000nm。
17.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中緩沖層的玻璃臨界溫度(Tg)為70-130°。
18.權(quán)利要求17的光記錄介質(zhì)，其中緩沖層至少包括一種從以下樹脂組中選擇的樹脂，該樹脂組包括乙烯醇樹脂、乙烯基乙酸酯樹脂、丙烯酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氨基甲酸乙酯樹脂、纖維素樹脂、脂肪酸樹脂及其共聚物。
19.權(quán)利要求1的光記錄介質(zhì)，其中，根據(jù)緩沖層的重量，緩沖層包括不超過30wt％的染料。
全文摘要
提供一種光記錄介質(zhì)。該光記錄介質(zhì)包括具有預(yù)槽的基片、金屬記錄層、緩沖層、反射層和保護(hù)層,后四層順序疊加在基片上,其中預(yù)槽斜面的角度(θ)為30—90°,并且緩沖層在140℃的溶解粘度為10—50,000Pa·S。由于當(dāng)波長大于600nm時,具有較高的反射率,因此,該光記錄介質(zhì)能夠與CD兼容,可以由DVDP播放,同時不使用染料,以較低的成本進(jìn)行生產(chǎn)。
文檔編號G11B7/0045GK1180225SQ9711581
公開日1998年4月29日 申請日期1997年8月14日 優(yōu)先權(quán)日1996年10月10日
發(fā)明者閔慶璇, 李修衡, 許永宰 申請人:三星電子株式會社