專利名稱：借助隨機(jī)信號(hào)驅(qū)動(dòng)調(diào)制器的記錄介質(zhì)激光紋理化的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明通常涉及激光紋理化磁性記錄介質(zhì)。本發(fā)明特別適用于在磁性記錄介質(zhì)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面用激光輔助超精細(xì)紋理化圖案。
背景技術(shù)：
普通磁盤驅(qū)動(dòng)器設(shè)計(jì)包含通稱為接觸開(kāi)始-停止(CSS)系統(tǒng)，當(dāng)磁頭隨磁盤開(kāi)始旋轉(zhuǎn)而開(kāi)始滑向磁盤表面時(shí)啟動(dòng)。在達(dá)到預(yù)設(shè)的高轉(zhuǎn)速后，磁頭由于磁頭滑行表面與磁盤之間空氣流引起的動(dòng)力學(xué)壓力效應(yīng)而飄浮在空氣中，與磁盤表面間隔預(yù)設(shè)的距離。在讀取和記錄操作期間，隨著磁盤的旋轉(zhuǎn)，換能器頭維持在據(jù)記錄表面受控的距離上，支承在空氣軸承座上，從而使磁頭可以自由地在圓周方向和徑向移動(dòng)，數(shù)據(jù)可以記錄在或讀取自磁盤表面所需位置。在磁盤驅(qū)動(dòng)器終止工作后，磁盤轉(zhuǎn)速減小并且磁頭再次滑向磁盤表面并最終停止下來(lái)與磁盤壓迫接觸。因此無(wú)論磁盤是靜止，從停止開(kāi)始加速和完全停止之前的減速，換能器頭與記錄表面接觸。每次磁頭和磁盤組件被驅(qū)動(dòng)時(shí)，磁頭的滑行表面重復(fù)由停止、沿磁盤表面滑行、飄浮在空氣中、沿磁盤表面滑行和停止組成的循環(huán)操作。
值得考慮的是在讀取和記錄操作期間保持每個(gè)換能器頭盡可能接近相關(guān)的記錄表面，即磁頭的飛行高度最小。因此最好要有平滑的記錄表面以及相關(guān)換能器頭平滑的相對(duì)表面，從而使磁頭和磁盤互相靠近地定位，支承磁頭的空氣軸承的預(yù)測(cè)性提高并且行為一致。但是如果磁頭表面與記錄表面過(guò)于平坦，則這些表面的精確匹配在啟動(dòng)和停止階段引起過(guò)度的粘滯性和摩擦力，從而使磁頭和記錄表面磨損，最終導(dǎo)致稱為“磁頭變形”的現(xiàn)象。因此減少磁頭/磁盤摩擦并使換能器高度最小是富有挑戰(zhàn)性的目標(biāo)。
解決這些問(wèn)題的普通方法是通過(guò)技術(shù)上稱為“紋理化”的方法向磁盤提供粗糙的表面以抑制磁頭/磁盤的摩擦。普通紋理化技術(shù)包括對(duì)磁盤襯底表面拋光以在隨后淀積諸如下層、磁性層、保護(hù)涂層和潤(rùn)滑頂層之前提供紋理，其中襯底上的紋理化表面在后面的淀積層內(nèi)基本相同。
對(duì)高記錄密度逐漸增加的需求增加了對(duì)薄膜磁性介質(zhì)在矯頑磁性、垂直度、低介質(zhì)噪聲和窄磁道記錄性能方面的要求。此外，越來(lái)越高的密度和容量的磁盤要求飛行高度(即CSS驅(qū)動(dòng)器內(nèi)磁頭飄浮在磁盤表面上的距離)更小。進(jìn)一步降低磁頭飛行高度的要求是對(duì)普通的為避免磁頭變形而控制紋理化技術(shù)的挑戰(zhàn)。
普通的向磁盤襯底提供紋理化表面的技術(shù)包含諸如拋光之類的機(jī)械操作。在紋理化磁記錄介質(zhì)襯底的過(guò)程中，普通的做法包括機(jī)械拋光表面以提供表面基本平滑的數(shù)據(jù)區(qū)和具有拓?fù)涮卣鞯闹憛^(qū)，例如凸起和凹陷。例如參見(jiàn)Nakamura等人的美國(guó)專利No.5,202,810。但是普通機(jī)械紋理化技術(shù)具有眾多的缺點(diǎn)。例如由于機(jī)械磨損形成的碎屑，提供清潔的紋理化表面非常困難。而且在機(jī)械操作期間表面不可避免地擦傷，導(dǎo)致較差的滑行特性和較高的缺陷。這種引起擦傷和凸起的粗糙機(jī)械拋光難以為隨后淀積合適晶向的磁性層獲得合適的數(shù)據(jù)區(qū)襯底。此外，各種所需的襯底難以通過(guò)機(jī)械紋理化處理。這種機(jī)械紋理化不需要的限制面實(shí)際上將許多用作襯底的材料排除在外。
介質(zhì)表面影響性能的一些重要參數(shù)是粗糙度級(jí)別(Ra)和滑行跌落。粗糙度級(jí)別是表面平均粗糙度的量度而滑行跌落是飛行磁頭可以接近表面的量度。

圖1示出了介質(zhì)表面示意性的下滑測(cè)試曲線，介質(zhì)表面通過(guò)機(jī)械拋光技術(shù)紋理化為粗糙度級(jí)別Ra＝7.2埃。根據(jù)測(cè)試，這種表面的滑行跌落低于0.6微米(0.55微米左右)。
Winchester型滑塊的飛行性能主要受靠近粗糙度曲線低頻部分的微波紋影響。圖1示意性表面曲線的低頻曲線示于圖2。機(jī)械紋理化形成的凸起的尺寸在磁盤徑向200微米范圍變化巨大。圖2中最大的凸起為50埃高，而其他凸起的高度小一些。表面輪廓因此是隨機(jī)的輪廓，峰的數(shù)量沒(méi)有規(guī)定，凸起的高度和谷的深度也沒(méi)有限定。由于影響滑行跌落的主要因素是低頻曲線和表面最大總體高度，所以機(jī)械拋光形成的低頻曲線隨機(jī)性導(dǎo)致不可預(yù)測(cè)的滑行跌落和飛行磁頭性能。由于該參數(shù)代表了平均值并且不一定反映表面峰與谷的程度和數(shù)量，所以即使總體平均凸起體為7.2埃也是如此。
另一種紋理化著陸區(qū)的機(jī)械紋理化技術(shù)包括利用聚焦在非磁性襯底上表面的激光束。例如參見(jiàn)Ranjan等人的美國(guó)專利No.5,062,021，其中所揭示的方法包括拋光鍍NiP的Al襯底至境面成品，隨后在使脈沖激光能量導(dǎo)向半徑限定部分的同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)磁盤以提供紋理化的著陸區(qū)，讓數(shù)據(jù)區(qū)保持境面化。著陸區(qū)包括多個(gè)單獨(dú)的激光斑點(diǎn)，其特征在于中央凹陷被基本為圓形的邊緣包圍。
另一種激光紋理化技術(shù)參見(jiàn)Baumgart等人的“一種用于高性能磁盤驅(qū)動(dòng)器的新型激光紋理化技術(shù)”，IEEE Transactions on Magnetics，Vol.31，No.6，pp.2946-2951，November 1995。也可參見(jiàn)美國(guó)專利Nos.5,550,696和5,595,791。
在1996年6月27日提交的共同待批的申請(qǐng)No.08/663,374中，揭示的激光紋理化技術(shù)采用多透鏡聚焦系統(tǒng)以改進(jìn)對(duì)最終拓?fù)浼y理的控制。在1996年5月9日提交的共同待批的申請(qǐng)No.08/647,407中，揭示了一種激光紋理化技術(shù)，其中脈沖聚焦激光束通過(guò)晶體材料以控制最終凸起之間的間隔。
在共同待批的PCT申請(qǐng)No.08/666,373中，揭示的激光紋理化玻璃或玻璃陶瓷襯底的方法采用CO2激光源的激光束。紋理化的玻璃或玻璃陶瓷襯底表面包含多個(gè)在襯底表面上延伸的凸起，由于激光紋理化金屬襯底的特性，它們并不包圍延伸入襯底的谷。諸如脈沖寬度、斑點(diǎn)尺寸和脈沖能量之類的激光參數(shù)的效果以及在激光紋理化玻璃或玻璃陶瓷襯底凸起高度上的襯底成分參見(jiàn)Kuo等人題為“玻璃和玻璃陶瓷襯底上激光區(qū)紋理化”的文章，發(fā)表在磁記錄會(huì)議(TMRC)，Santa Clara，California，August 19-21，1996。
在1997年2月7日提交的共同待批的申請(qǐng)No.08/796,830中，揭示了一種激光紋理化玻璃或玻璃陶瓷襯底的方法，其中通過(guò)控制激光形成凸起固化期間的猝滅速率控制凸起的高度。揭示的其中一種控制猝滅速率的技術(shù)包括在暴露于第一激光束時(shí)預(yù)熱襯底，隨后將預(yù)熱襯底暴露在聚焦的激光束下。
雖然激光紋理化技術(shù)被證實(shí)具有一定的優(yōu)點(diǎn)，但是它們沒(méi)有在紋理化介質(zhì)表面超精細(xì)圖案以在確?？傮w摩擦下滑性能前提下獲得超低析出物高度時(shí)采用。為了確保摩擦下滑性能，需要使延伸的析出物表示的波紋高度均勻。

發(fā)明內(nèi)容
需要一種紋理化數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面的方法以提供超低滑行跌落但是又確保輕負(fù)載、低下滑滑塊的總體摩擦性能。
需要一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)，它具有超低下滑和摩擦特性的介質(zhì)表面，還需要制造裝置。
本發(fā)明滿足了各種需要，它提供的布局包括激光和用激光在表面上形成紋理圖案的裝置。在本發(fā)明的某些實(shí)施例中，形成紋理圖案的裝置包括調(diào)制激光輸出的激光能量的調(diào)制器和控制調(diào)制器輸出的激光能量調(diào)制的隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器。
本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是本發(fā)明的激光微加工裝置可以隨機(jī)形成延長(zhǎng)的凸起體。例如可以沿圓周方向200微米間隔使凸起體高度較低(例如50埃左右)，在徑向每200微米多次循環(huán)，并且平均水平-垂直比為4000∶1。這些示意性參數(shù)與當(dāng)前激光紋理化凸起的100∶1的比率相比比較好。由于在介質(zhì)表面沒(méi)有深谷，所以空氣湍流較少并且凸起體尖端潤(rùn)滑更容易。而且均勻的波紋高度(凸起體高度)在飛行的滑塊下提供更穩(wěn)定的空氣軸承座，當(dāng)滑塊位于表面上時(shí)，在滑塊與介質(zhì)表面之間接觸均勻。因此即使凸起體較低，也確保了輕負(fù)載低下滑滑塊的總體摩擦性能。
本發(fā)明的另一方面滿足了前述需要，它提供了在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面制造具有超低下滑和摩擦性能的超精細(xì)紋理圖案。在該方法中，激光束被隨機(jī)調(diào)制并且聚焦在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面以在介質(zhì)表面形成隨機(jī)延伸的凸起體。在這種方法下，形成的介質(zhì)表面表現(xiàn)出在介質(zhì)表面(例如磁盤)徑向具有規(guī)則凸起體高度、規(guī)則間隔而在圓周方向具有限定隨機(jī)性的均勻性。
本發(fā)明的另一方面也滿足了前述需要，它提供了具有紋理化介質(zhì)表面的磁記錄介質(zhì)。紋理化表面上形成的凸起的平均水平-垂直比率大約為4000∶1。在本發(fā)明的某些實(shí)施例中，凸起的總體高度(或凸起體)為50埃左右，并且沿圓周方向是200微米的周期間隔而在徑向每200微米有多個(gè)周期。表面的特征是在介質(zhì)表面徑向具有規(guī)則凸起體高度、規(guī)則間隔而在圓周方向具有限定隨機(jī)性。
通過(guò)以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的描述可以進(jìn)一步理解本發(fā)明的前述和其他特征和優(yōu)點(diǎn)。
附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明圖1為按照現(xiàn)有技術(shù)的機(jī)械紋理化磁記錄介質(zhì)表面的表面輪廓曲線。
圖2為按照現(xiàn)有技術(shù)的具有圖1表面輪廓的機(jī)械紋理化磁記錄介質(zhì)表面的低頻曲線。
圖3為按照本發(fā)明實(shí)施例的紋理化磁記錄介質(zhì)表面的低頻曲線。
圖4為圖3磁記錄介質(zhì)表面三維表示。
圖5為按照本發(fā)明實(shí)施例制造的延伸凸起體的三維微觀照片。
圖6為按照本發(fā)明實(shí)施例的布局的示意圖，用于激光紋理化磁記錄介質(zhì)以產(chǎn)生超低滑行跌落介質(zhì)表面。
實(shí)施發(fā)明的較佳方式本發(fā)明著眼并解決控制磁記錄介質(zhì)表面紋理的問(wèn)題，從而提供超低滑行跌落(例如小于0.6微米)但是以可控制和重復(fù)方式。
圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)機(jī)械紋理化諸如磁盤之類磁記錄介質(zhì)超精細(xì)表面輪廓的二維示意圖。機(jī)械拋光襯底形成圖1的表面輪廓顯示有許多非常高的峰和非常低的谷。由于在機(jī)械拋光期間采用漿料，所以圖案無(wú)法控制。圖2示出了表面譜的低頻曲線。如圖所示，在徑向200微米范圍內(nèi)，有高度和深度變化的5個(gè)峰10和谷12。200微米范圍內(nèi)最高的峰10為50埃。因此在機(jī)械拋光下，可以獲得平均粗糙度Ra為7.2埃而滑行跌落為0.55微英寸的介質(zhì)表面。但是由于圖案的隨機(jī)性，當(dāng)峰10的凸起體高度隨機(jī)變化時(shí)，飛行滑塊下的空氣軸承座不夠穩(wěn)定。而且當(dāng)滑塊依靠在介質(zhì)表面上時(shí)滑塊與介質(zhì)表面的接觸不均勻。谷12深度的變化引起了另一個(gè)問(wèn)題，它使凸起體的峰10的潤(rùn)滑有問(wèn)題。而且深谷12為滑塊形成更多的空氣湍流。
圖3示出了按照本發(fā)明的激光紋理化磁記錄介質(zhì)表面輪廓的二維剖面圖。峰14的高度約為50埃。在200微米范圍內(nèi)，沿徑向提供了規(guī)定數(shù)量的峰和谷。在圖3示意性的實(shí)施例中，在200微米周期內(nèi)(或范圍內(nèi))，有3個(gè)峰14和2個(gè)谷16。顯然，在本實(shí)施例中，峰14的高度均勻地為50埃。峰14的均勻波紋高度或凸起體高度提供了飛行滑塊下非常穩(wěn)定的空氣軸承座，并在滑塊依靠在介質(zhì)表面上時(shí)在滑塊與介質(zhì)表面之間提供了均勻的接觸。
表面輪廓由圖3示出的磁記錄介質(zhì)低頻曲線表明的另一個(gè)特征是谷16不是很深。沒(méi)有深谷使得凸起體峰14的潤(rùn)滑相對(duì)容易。而且與低頻曲線表明谷較深的現(xiàn)有技術(shù)相比減少了空氣湍流量。磁記錄介質(zhì)表面的激光紋理化提供了超低的滑行跌落。例如在圖3的實(shí)施例中，介質(zhì)表面的滑行跌落低于0.6μ″或150?！，F(xiàn)有的表面激光紋理化對(duì)于滑行跌落局限于200埃。在沿徑向200微米的多周期下，平均水平-垂直比率為4000∶1。與現(xiàn)有激光織構(gòu)的凸起體大約100∶1的平均水平-垂直比率相比，比較好。
圖4為按照本發(fā)明實(shí)施例的介質(zhì)表面激光紋理化三維圖。該表面紋理化后的滑行跌落大約為0.55μ″。與圖3的實(shí)施例一樣，沿徑向R的周期18為200微米。在每個(gè)周期18內(nèi)，有3個(gè)包含峰14和谷16的凸起體。這些周期沿徑向R重復(fù)。圓周方向(箭頭C)內(nèi)的周期間隔在圖4所示實(shí)施例中也為200微米。圓周方向C上的周期間隔在圖4中用標(biāo)號(hào)20表示，與徑向R上規(guī)則的周期間隔18不同，圓周方向C上的周期間隔20是在分布上更為隨機(jī)。
圓周方向上有限的隨機(jī)性有利的原因是它消除了操作期間的共振。當(dāng)磁盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，圓周方向C上凸起體的隨機(jī)性避免了影響滑塊或飛行磁頭的共振。在磁盤徑向上共振沒(méi)有那么嚴(yán)格。這是因?yàn)榇蓬^相對(duì)磁盤表面徑向的行進(jìn)速度沒(méi)有沿磁盤圓周方向旋轉(zhuǎn)速度快。因此介質(zhì)表面徑向R的周期間隔18可以是規(guī)則的間隔。
圖5為示意性激光紋理化凸起體22的微觀照片，凸起體沿圓周方向C延伸。單個(gè)延伸凸起體22的高度約為50埃，并且長(zhǎng)度L和寬度W可以根據(jù)盤片紋理化布局的合適結(jié)構(gòu)調(diào)整。
圖6為用于激光紋理化表面的激光光學(xué)系統(tǒng)的示意性實(shí)施例，它提供了超低滑行跌落介質(zhì)表面。激光光學(xué)系統(tǒng)30包括連續(xù)波激光器32，它產(chǎn)生激光輸出。該輸出隨后由調(diào)制器34調(diào)制。在本發(fā)明較佳實(shí)施例中，調(diào)制器34為聲-光調(diào)制器，用來(lái)調(diào)制激光器32輸出的激光束。調(diào)制方式可以有多種，在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，調(diào)制是隨機(jī)的。為此，隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器36通過(guò)控制調(diào)制器34來(lái)控制激光束的調(diào)制。隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器36在隨機(jī)時(shí)刻產(chǎn)生控制信號(hào)以使調(diào)制器34以隨機(jī)方式對(duì)連續(xù)波激光器32產(chǎn)生的激光束脈沖化。
調(diào)制器34調(diào)制的隨機(jī)脈沖激光束由光束展寬器38接收，它展寬和準(zhǔn)直激光束。展寬的準(zhǔn)直激光束通過(guò)孔徑40并通過(guò)聚焦透鏡42聚焦在被紋理化的表面。
在本發(fā)明某些較佳實(shí)施例中，表面的記錄介質(zhì)是諸如磁記錄磁盤44之類的磁記錄介質(zhì)。為了沿徑向R等間隔而在圓周方向C上以有限的隨機(jī)性產(chǎn)生凸起體，圓盤44固定在以兩種不同方式移動(dòng)的轉(zhuǎn)軸46上。轉(zhuǎn)軸沿圖6所示箭頭B旋轉(zhuǎn)。與此同時(shí)，移動(dòng)轉(zhuǎn)軸46以沿圖6垂直方向(箭頭A所示)平移磁盤44表面。顯而易見(jiàn)，為了沿徑向提供規(guī)則的間隔，轉(zhuǎn)軸46和磁盤44沿箭頭A方向的移動(dòng)可定時(shí)完成。通過(guò)利用隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器36和調(diào)制器34脈沖化激光束在圓周方向C形成隨機(jī)性。因此當(dāng)沿箭頭B方向旋轉(zhuǎn)時(shí)施加在磁盤44表面的激光束能量以隨機(jī)脈沖方式施加。凸起體隨機(jī)地沿圓形磁道位于磁盤44表面。如上所述，這種有限的隨機(jī)性避免了共振的產(chǎn)生，它在磁盤驅(qū)動(dòng)器工作期間會(huì)引起滑塊或飛行磁頭振動(dòng)。
應(yīng)該選擇連續(xù)波激光器32產(chǎn)生的激光束波長(zhǎng)以在待紋理化表面利用熱膨脹效應(yīng)產(chǎn)生隨機(jī)延伸的凸起體。例如當(dāng)帶紋理化表面是鍍鎳襯底時(shí)，1064納米波長(zhǎng)的激光是合適的。如果帶紋理化表面是玻璃和/或陶瓷襯底，則利用10納米波長(zhǎng)的激光作為連續(xù)波激光器32是合適的。如果是其他類型的材料，本領(lǐng)域技術(shù)人員將選擇合適波長(zhǎng)的激光器32來(lái)按照本發(fā)明紋理化襯底。
本發(fā)明提供了形成可控、可重復(fù)的紋理圖案的超低滑行跌落介質(zhì)表面的方法和裝置。
本發(fā)明的較佳實(shí)施例和實(shí)例只是示意性質(zhì)的。本領(lǐng)域技術(shù)人員在不偏離本發(fā)明范圍的前提下可以對(duì)本發(fā)明作各種修改，因此本發(fā)明由后面所附權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種裝置，其特征在于包括激光器；以及用激光在表面形成紋理圖案的裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于形成紋理圖案的裝置包括對(duì)激光器輸出的激光能量進(jìn)行調(diào)制的調(diào)制器。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于調(diào)制器為聲-光調(diào)制器。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于進(jìn)一步包括與聲-光調(diào)制器耦合的隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器，用來(lái)控制對(duì)聲-光調(diào)制器輸出的激光能量的調(diào)制。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于進(jìn)一步包括光束展寬器，它接收并展寬聲-光調(diào)制器輸出的調(diào)制激光能量。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于進(jìn)一步包括將光束展寬器輸出的展寬調(diào)制激光能量聚焦至待紋理化表面的孔徑和聚焦透鏡。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于待紋理化的表面是數(shù)據(jù)記錄磁盤的表面。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于進(jìn)一步包括其上安裝待紋理化數(shù)據(jù)記錄磁盤并圍繞旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸。
9.一種紋理化介質(zhì)表面以在表面隨機(jī)產(chǎn)生延伸的凸起體的裝置，其特征在于包括產(chǎn)生激光輸出的激光器；接收激光器輸出并調(diào)制激光器輸出的調(diào)制器；與調(diào)制器耦合的隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器，用來(lái)控制對(duì)調(diào)制器輸出的激光的調(diào)制；以及使經(jīng)調(diào)制的激光輸出聚焦在表面上的聚焦裝置。
10.如權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于進(jìn)一步包括位于調(diào)制器與聚焦裝置之間的光束展寬器，光束展寬器展寬從調(diào)制器輸出的調(diào)制激光。
11.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于調(diào)制器為聲-光調(diào)制器。
12.如權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于激光器為連續(xù)波激光器。
13.如權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于聚焦裝置包括孔徑和聚焦透鏡，孔徑位于光束展寬器與聚焦透鏡之間。
14.一種在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面產(chǎn)生具有超低滑行和摩擦性能的超精細(xì)紋理圖案的方法，其特征在于包括以下步驟隨機(jī)調(diào)制激光束；以及將隨機(jī)調(diào)制的激光束聚焦在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面以在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面形成隨機(jī)延伸的凸起體。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于進(jìn)一步包括沿平移運(yùn)動(dòng)方向相對(duì)隨機(jī)調(diào)制激光束改變數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面的相對(duì)位置從而使激光束在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面上的焦點(diǎn)跨越數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面沿徑向移動(dòng)。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于進(jìn)一步包括在激光束焦點(diǎn)下旋轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面從而使隨機(jī)調(diào)制的激光束形成隨機(jī)延伸凸起體。
17.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于隨機(jī)調(diào)制激光的步驟包括以聲-光方式調(diào)制激光。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于隨機(jī)調(diào)制步驟包括產(chǎn)生控制激光的聲-光調(diào)制的隨機(jī)信號(hào)。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其特征在于隨機(jī)調(diào)制步驟包括根據(jù)隨機(jī)信號(hào)以聲-光方式脈沖化激光束。
20.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于進(jìn)一步包括改變激光束在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面的相對(duì)位置以在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)表面一個(gè)方向形成規(guī)則間隔而在另一方向形成有限隨機(jī)性的凸起體。
全文摘要
一種激光紋理化數(shù)據(jù)存儲(chǔ)表面以提供超低滑行跌落的方法和裝置,它利用隨機(jī)調(diào)制的連續(xù)波激光器(32)。隨機(jī)信號(hào)發(fā)生器(36)產(chǎn)生隨機(jī)信號(hào),它控制聲—光調(diào)制器(34)。通過(guò)沿圓周方向的有限隨機(jī)性的激光紋理化避免了滑塊的共振效應(yīng),在磁盤(44)表面提供了可控可重復(fù)的圖案。
文檔編號(hào)G11B5/84GK1278198SQ98810844
公開(kāi)日2000年12月27日 申請(qǐng)日期1998年8月10日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月2日
發(fā)明者J·J·玄, 辛淳元 申請(qǐng)人:西加特技術(shù)有限責(zé)任公司