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      具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法

      文檔序號(hào):7103179閱讀:329來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明是有關(guān)于一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液(indium-containing aqueous solution)的制造方法,且特別是有關(guān)于一種由一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液,以制造具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的方法,其中此含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液是由銦錫氧化物(Indium-Tin-Oxide,簡(jiǎn)稱ITO)燒結(jié)物(sintered article)廢料(scrap)所回收來(lái)的。
      銦錫氧化物薄膜主要是由使用銦錫氧化物靶(target)的濺鍍法(spattering method)制作而成。而銦錫氧化物靶可以是以鑄造且燒結(jié)銦錫氧化物粉末的方式而形成的,或是由鑄造且燒結(jié)氧化銦粉末與氧化錫粉末的混合粉末而形成的。
      但是,當(dāng)使用銦錫氧化物靶的濺鍍法制作透明導(dǎo)電膜時(shí),所遭遇的問(wèn)題之一就是銦錫氧化物靶的有效性(availability)。
      由于作為銦錫氧化物靶的銦錫氧化物燒結(jié)物,會(huì)隨濺鍍的經(jīng)歷而降低其質(zhì)量。因此,為了確保透明導(dǎo)電膜的質(zhì)量,通常當(dāng)銦錫氧化物靶的質(zhì)量降低約20%至30%的范圍時(shí),就會(huì)再以一個(gè)新的銦錫氧化物靶取代的。而因?yàn)槌蔀橐鸦膹U的銦錫氧化物靶,其銦錫氧化物燒結(jié)物(銦錫氧化物燒結(jié)物廢料)中含有大量的銦。而且銦是一種昂貴的稀有資源,因此必須從這些已荒廢的銦錫氧化物靶中回收高純度元素銦(elementalindium)或銦化合物(indium compound)。
      舉例來(lái)說(shuō),日本無(wú)審查專利公告號(hào)3-75224所提出的一種分離錫與銦的方法,其是由溶解已荒廢的銦錫氧化物靶于鹽酸,以制備一含銦與錫的水溶液。然后,再加入氨離子或納離子,以產(chǎn)生一鹵代錫酸鹽(halogenostannate)。然而,這個(gè)方法除了可從銦分離出錫以外,其它金屬都是無(wú)法成功的與銦分離開(kāi)來(lái)。
      另外,日本無(wú)審查專利公告號(hào)3-82720提出一種復(fù)雜的方法,包括將一銦錫氧化物廢料溶液還原,并調(diào)整pH值在2至5的范圍,以使一銦組成物沉淀,而成為一氫氧化物。然后將此氫氧化物溶于一酸液中,并且使銦吸附于一非螯合離子交換樹(shù)脂上。然后,再使吸附的銦脫附。
      本發(fā)明人為了有效解決上述的問(wèn)題,終于找到一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,其利用一非螯合離子交換樹(shù)脂將一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液中的金屬雜質(zhì)移除,其中此水溶液的氫離子濃度調(diào)整在一特定范圍。或者是利用一螯合離子交換樹(shù)脂將一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液中的金屬雜質(zhì)移除。
      因此,本發(fā)明提供一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,此方法包括將含有銦及金屬雜質(zhì)且氫離子濃度調(diào)整在0.3mol/L~0.5mol/L范圍的一水溶液,與一非螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除金屬雜質(zhì)。此外,本發(fā)明還提供另一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,此方法包括將含有銦及金屬雜質(zhì)的一水溶液,與一螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除金屬雜質(zhì)。
      本發(fā)明提供兩種形式的具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法。其中一方法利用一非螯合離子交換樹(shù)脂,而另一方法利用一螯合離子交換數(shù)脂,以從一含銦水溶液中將金屬雜質(zhì)移除。在利用一非螯合離子交換樹(shù)脂的方法中,一含銦水溶液的氫離子濃度調(diào)整在0.5mol/L至3mol/L的范圍。倘若含銦水溶液的氫離子濃度低于0.5mol/L,則非但金屬雜質(zhì)甚至是銦離子都會(huì)被吸附。另外,倘若含銦水溶液的氫離子濃度超過(guò)3mol/L,則將使得幾乎所有的金屬雜質(zhì)都無(wú)法吸附,如此將使得金屬雜質(zhì)的移除無(wú)法成功。本發(fā)明人將一含銦水溶液的氫離子的濃度調(diào)整在0.5mol/L至3mol/L的范圍,并利用一非螯合離子交換樹(shù)脂,便可將一含銦水溶液的金屬雜質(zhì)程度降低。而本發(fā)明的另一方法,是利用一螯合離子交換樹(shù)脂,其中含銦水溶液的氫離子濃度較佳的是控制在0.5mol/L至3mol/L的范圍。
      將一螯合離子交換樹(shù)應(yīng)用在一制造方法中,是依據(jù)本發(fā)明的具有吸附一單一陽(yáng)離子能力的樹(shù)脂,其可使得兩個(gè)或更多的官能基與此單一陽(yáng)離子產(chǎn)生鍵結(jié),而此種樹(shù)脂就是一種離子交換樹(shù)脂。另外,將一非螯合離子交換樹(shù)脂應(yīng)用在一制造方法中,依據(jù)本發(fā)明的具有吸附一單一離子能力的樹(shù)脂,其可使得一單一官能基與此單一離子產(chǎn)生鍵結(jié)。
      利用一含銦水溶液以作為一初始材料的說(shuō)明如下所述。
      依據(jù)本發(fā)明,應(yīng)用于一制造方法的一含銦水溶液并不特別加以限定。其中較佳的是將一含銦燒結(jié)物溶解于一酸性水溶液中,以取得一含有銦及金屬雜質(zhì)的水溶液。其中,此含銦燒結(jié)物例如銦錫氧化物燒結(jié)物廢料(此后,一廢料是指由一荒廢的靶所回收來(lái)的)、一銦鋅氧化物燒結(jié)物廢料、在工藝過(guò)程中斷裂的一銦錫氧化物燒結(jié)物以及在工藝過(guò)程中斷裂的一銦鋅氧化物燒結(jié)物。
      本發(fā)明的制造方法還包括利用一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液,其取自將一含銦粉末溶解在一酸性水溶液中。其中,此含銦粉末例如一銦錫氧化物燒結(jié)物于一切割或研磨工藝中所產(chǎn)生的碎片、一銦鋅氧化物燒結(jié)物于一切割或研磨工藝中所產(chǎn)生的碎片、含有10ppm或更多的鐵或者是含有10ppm或更多的鋁或者是含有10ppm或更多的銅的一銦錫氧化物粉末、以及含有10ppm或更多的鐵或者是含有10ppm或更多的鋁或者是含有10ppm或更多的銅的一銦鋅氧化物粉末。
      在一含有銦以及金屬雜質(zhì)的水溶液的制造方法中,利用一發(fā)明的方法,其利用一酸性水溶液中的酸來(lái)溶解含有氧化銦的一材料,此酸例如可能是鹽酸、硫酸、王水、硝酸及其它類似的酸。其中,鹽酸是具有最高的溶解速率的酸。
      以下以一銦錫氧化物燒結(jié)物廢料作為一含有氧化銦的材料的實(shí)例以說(shuō)明的。
      由于使用在一濺鍍工藝后的銦錫氧化物靶會(huì)使一銦錫氧化物燒結(jié)物廢料束縛在一背板,而一但銦錫氧化物燒結(jié)物廢料屢次從此背板移除,銅沉積物或蠟材質(zhì)將成為此背板的一組成成分。在此,較佳的是初步的利用一酸性水溶液,例如鹽酸或王水,以移除此沉積物。
      較佳的是,在酸性水溶液的溶解用作之前,銦錫氧化物燒結(jié)物廢料已磨碎,如此可促進(jìn)酸性水溶液中的溶解作用。而研磨的方法并不加以特別限定,其可以是已知的滾動(dòng)式研磨機(jī)、錘擊式研磨機(jī)、搗碎機(jī)以及震動(dòng)式研磨機(jī)。而較佳的研磨器械以一抗磨損材質(zhì)來(lái)制作,例如氧化鋁或氧化鋯。但是鋁或鋯的移動(dòng)而成為雜質(zhì)混入銦錫氧化物的情形是無(wú)法避免的。在磨碎后的一銦錫氧化物廢料的顆粒尺寸通常是10mm或更小,較佳的是1mm或更小,更佳的是0.5mm或更小。
      接著,一磨碎的銦錫氧化物燒結(jié)物廢料將被溶解于一酸性水溶液中,以獲得一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液,以應(yīng)用于依據(jù)本發(fā)明的制造方法中。當(dāng)用來(lái)溶解用的酸性水溶液中的酸是鹽酸時(shí),在酸性溶液中鹽酸的濃度通常是重量百分比5%或更多,較佳的是10%或更多,更佳的是20%或更多。而較高濃度的鹽酸酸性水溶液可提高銦錫氧化物燒結(jié)物廢料的溶解速率。
      而用來(lái)溶解銦錫氧化物燒結(jié)物廢料的方法并不特別加以限定,較佳的是還包括同時(shí)進(jìn)行加熱與攪拌。而溶解的溫度介于攝氏30至攝氏100度,較佳的是介于攝氏50至攝氏100度,更佳的是介于攝氏60至攝氏90度。而溶解的時(shí)間需依據(jù)溶質(zhì)的量、濃度以及酸性水溶液的溫度等其它類似的條件而定。
      當(dāng)由上述的溶解方法而取得的一銦錫氧化物水溶液(一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液)中含有任何未溶解的銦錫氧化物燒結(jié)物時(shí),這些未溶解的銦錫氧化物燒結(jié)物可通過(guò)一過(guò)濾步驟而移除。
      依據(jù)本發(fā)明的制造方法,由上述的方法所取得的一銦錫氧化物水溶液將與一螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除金屬雜質(zhì)?;蛘呤窍葘熷a氧化物水溶液的氫離子濃度調(diào)整在0.5mol/L至3mol/L的范圍,再將其與一非螯合離子交換樹(shù)脂接觸以移除金屬雜質(zhì)。而調(diào)整氫離子濃度的方法并不特別加以限定,其例如是將一離子交換水加入溶液中來(lái)調(diào)整,或者是由用來(lái)溶解銦錫氧化物燒結(jié)物廢料的酸性水溶液的酸與銦錫氧化物燒結(jié)物廢料之間的質(zhì)量比例來(lái)調(diào)整,或者是由加入一堿性物質(zhì)來(lái)調(diào)整。本發(fā)明的制造方法的一實(shí)施例,是將一含有銦及金屬雜質(zhì)的水溶液與一非螯合離子交換樹(shù)脂或一螯合離子交換樹(shù)脂接觸,較佳的是還包括將非螯合離子交換樹(shù)脂或螯合離子交換樹(shù)脂填充至一圓柱狀容積中,并使含銦水溶液能從圓柱狀容積的一端流過(guò)至另一端,以有效的使含銦水溶液連續(xù)性的純化。
      在本發(fā)明的方法中所使用的非螯合離子交換樹(shù)脂可以是,但不限定在此,一些商品,其商標(biāo)名為”*MONOSPHERE*650C”(DOWCHEMICAL COMPANY),“*DOWEX*50W”(DOW CHEMICALCOMPANY),“*DIAION*SK1B”(MITSUBISHI CHEMICAL),“*DUOLITE*C255LFH”(SUMITOMO CHEMICAL)以及其它類似的樹(shù)脂。離子交換樹(shù)脂可以由一酸液,例如鹽酸或硫酸清洗而再生并再利用。
      在本發(fā)明的制造方法中,因?yàn)橐环球想x子交換樹(shù)脂而明顯降低的雜質(zhì)為鐵及鋁,因此本發(fā)明的方法非常適合應(yīng)用在一含有鐵及/或鋁雜質(zhì)的含銦水溶液中,以降低含銦水溶液中鐵及/或鋁的濃度。而非螯合離子交換樹(shù)脂較佳的是具有一磺基作為一交換基的一陽(yáng)離子交換樹(shù)脂,這是因?yàn)槠浣档碗s質(zhì)的濃度能力較高。
      另外,本發(fā)明的方法中,一螯合離子交換樹(shù)脂可以是,但不限定于此,一些商品,其商標(biāo)名為“*DUOLITE*C467”(SUMITOMOCHEMICAL),“*SUMICHELATE*MC700”(SUMITOMO CHEMICAL),“*MUROCHELATE*A-1”(MUROMACHI KAGAKU),“*DIAION*CR11”(MITSUBISHI CHEMICAL)。而螯合離子交換樹(shù)脂可以由一酸液,例如鹽酸或硫酸清洗而再生并再利用。
      在本發(fā)明的制造方法中,因?yàn)橐或想x子交換樹(shù)脂而明顯降低的雜質(zhì)為鐵、鋅、鋯及銅,因此本發(fā)明的方法非常適合應(yīng)用在一含有上述的金屬雜質(zhì)的含銦水溶液中,以降低含銦水溶液中的金屬雜質(zhì)的濃度,其中這些金屬雜質(zhì)選自鐵、鋅、鋯及銅其中之一所組成的族群。而螯合離子交換樹(shù)脂較佳的是具有一磷酸胺基或一雙醋酸亞胺基作為一交換基。這是因?yàn)槠浣档碗s質(zhì)的濃度能力較高。
      本發(fā)明的制造方法可使一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液降低其金屬雜質(zhì)的含量,其中降低含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液中的金屬雜質(zhì)量的方法利用一簡(jiǎn)單的流程,即將其與一離子交換樹(shù)脂接觸。本發(fā)明的制造方法的銦回收率高達(dá)90%。而在一回收的溶液中,由重復(fù)本發(fā)明的流程兩次或更多次,還可使相對(duì)于銦的雜質(zhì)濃度再降低。
      依據(jù)本發(fā)明的方法,對(duì)于含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液中,其銦濃度特別高的水溶液仍適用。對(duì)于金屬雜質(zhì)量已較低的一含銦水溶液,其銦錫氧化物粉末的制造過(guò)程中就不需一濃縮的步驟,如此可產(chǎn)生高的體積效率。而此為本發(fā)明的另一優(yōu)點(diǎn)。
      依據(jù)本發(fā)明的制造方法,將具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液與一堿性水溶液混合以有效的中和,可回收一含銦的沉淀物。其中,可舉例如將一堿性溶液加入一含有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液中,以及將一含有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液與一堿性水溶液同時(shí)加入至攝氏40度或更高但不超過(guò)攝氏100度的水中,以有效的進(jìn)行一反應(yīng)。而將反應(yīng)中的pH值保持在4至6的范圍,即可獲得一含銦沉淀物。
      在實(shí)例中的氫離子濃度是由決定一含銦水溶液的一數(shù)值而計(jì)算出來(lái)的。此含銦水溶液將會(huì)被稀釋100倍,再利用一pH量測(cè)儀(TOADENPA,Model HM-20S)進(jìn)行量測(cè)。而每一金屬雜質(zhì)程度是利用一ICP放射分析儀所決定。以下ppm的數(shù)值為一質(zhì)量的ppm。
      一螯合離子交換樹(shù)脂(SUMITOMO CHEMICAL,“*DUOLITE*C467”)系以5N的鹽酸水溶液與離子交換水清洗,而10ml的樹(shù)脂將填充于直徑為20mm的管柱中。接著,將120ml的溶液以流速1.5ml/min注入管柱中,如此即可回收一含銦水溶液的流析物。此管柱還包括以30ml的離子交換水以流速1.5ml/min的流速,回收任何于流析過(guò)程中殘留在管柱中的動(dòng)相中的金屬離子。最后,鋯/銦由133ppm降至3ppm,鐵/銦由11ppm降至3ppm。而銦的回收率包括于離子交換樹(shù)脂流析物中的銦為91%。
      依據(jù)本發(fā)明的制造方法,具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液,可由一相當(dāng)方便的流程,即可由一含有銦與金屬雜質(zhì)的水溶液中移除金屬雜質(zhì)的流程而取得。特別是由于一具有低量金屬雜質(zhì)的銦錫氧化物粉末的成功再生,是低成本的運(yùn)用一荒廢的銦錫氧化物靶的銦錫氧化物燒結(jié)物廢料,因此非常有利于工業(yè)上的應(yīng)用。
      雖然本發(fā)明已以實(shí)施例說(shuō)明如上,然其并非用以限定本發(fā)明,任何熟悉此技術(shù)者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書(shū)為準(zhǔn)。
      權(quán)利要求
      1.一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,其特征為該方法包括將含有銦及復(fù)數(shù)個(gè)金屬雜質(zhì)且氫離子濃度調(diào)整在0.3mol/L至0.5mol/L范圍的一水溶液,與一非螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除該些金屬雜質(zhì)。
      2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征為該離子交換樹(shù)脂為一陽(yáng)離子交換樹(shù)脂,且其具有一磺基以作為一交換基。
      3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征為該些金屬雜質(zhì)包括至少鐵與鋁其中之一。
      4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征為包含有銦與該些金屬雜質(zhì)的該水溶液的形成方法,將至少一含銦燒結(jié)材質(zhì)或一含銦粉末其中之一,溶解于一酸性水溶液中而形成。
      5.一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,其特征為該方法包括將含有銦及復(fù)數(shù)個(gè)金屬雜質(zhì)的一水溶液,與一螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除該些金屬雜質(zhì)。
      6.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征為含有銦及該些金屬雜質(zhì)的該水溶液為氫離子濃度調(diào)整在0.3mol/L至0.5mol/L范圍的一水溶液。
      7.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征為該螯合離子交換樹(shù)脂為一離子交換樹(shù)脂,且其具有一磷酸胺基或一雙醋酸亞胺基作為一交換基。
      8.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征為該些金屬雜質(zhì)至少選自鐵、鋅、鋯與銅其中之一所組成的族群。
      9.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征為包含有銦與該些金屬雜質(zhì)的該水溶液的形成方法,將至少一含銦燒結(jié)材質(zhì)或一含銦粉末其中之一,溶解于一酸性水溶液中而形成。
      全文摘要
      一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,此方法包括將含有銦及金屬雜質(zhì)且氫離子濃度調(diào)整在0.3mol/L至0.5mol/L范圍的一水溶液,與一非螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除金屬雜質(zhì)。另外,還提供一種具有低量金屬雜質(zhì)的含銦水溶液的制造方法,此方法包括將含有銦及金屬雜質(zhì)的一水溶液,與一螯合離子交換樹(shù)脂接觸,以去除金屬雜質(zhì)。
      文檔編號(hào)H01L47/00GK1381402SQ0210316
      公開(kāi)日2002年11月27日 申請(qǐng)日期2002年2月1日 優(yōu)先權(quán)日2001年2月6日
      發(fā)明者服部武司, 藤原進(jìn)治, 三枝邦夫 申請(qǐng)人:住友化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
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